Wpływ parametrów technologicznych procesu impulsowego rozpylania magnetronowego średniej częstotliwości na właściwości warstw $Cu_{2}Se$ — [Influence of technological parameters of the process pulse mean magnetron sputtering frequencies on the properties of $Cu_{2}Se$ layers] / Elżbieta GODLEWSKA, Krzysztof MARS, Mateusz SAŁĘGA-STARZECKI // W: III Ogólnopolska konferencja naukowa „Kierunek NANO - badania i osiągnięcia z obszaru nanotechnologii” [Dokument elektroniczny] : 25 listopada 2021 r. Lublin : abstrakty / red. Konrad Skrzątek, Kamil Maciąg. — Wersja do Windows. — Dane tekstowe. — Lublin : Fundacja na rzecz promocji nauki i rozwoju TYGIEL, 2021. — e-ISBN: 978-83-66861-90-9. — S. 51-52. — Wymagania systemowe: Adobe Reader. — Tryb dostępu: https://bc.wydawnictwo-tygiel.pl/public/assets/663/III%20Og%C3%B3lnopolska%20Konferencja%20Naukowa%20%E2%80%9EKierunek%20NANO%20%E2%80%93%20badania%20i%20osi%C4%85gni%C4%99cia%20z%20obszaru%20nanotechnologii%E2%80%9D.%20Abstrakty.pdf [2021-12-08]

Wpływ trybu zasilania magnetronu na właściwości warstw SnSe — Influence of the magnetron power mode on the properties of SnSe layers / Krzysztof MARS, Mateusz SAŁĘGA-STARZECKI, Elżbieta GODLEWSKA // Przegląd Elektrotechniczny / Stowarzyszenie Elektryków Polskich ; ISSN 0033-2097. — 2022 R. 98 nr 9, s. 307–310. — Bibliogr. s. 310, Streszcz., Abstr.. — Afiliacja Autorów: Akademia Górniczo-Hutnicza im. Stanisława Staszica. — tekst: http://pe.org.pl/articles/2022/9/71.pdf