Wykaz publikacji wybranego autora

Edward Walasek, dr

emeryt

Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki
WIMiC-ktcmo, *Katedra Technologii Ceramiki i Materiałów Ogniotrwałych

Identyfikatory Autora Informacje o Autorze w systemach zewnętrznych

ORCID: brak

ResearcherID: brak

Scopus: brak

OPI Nauka Polska

1
  • [referat, 1999]
  • TytułGrowth and properties of hydrogenated $C_{x}N_{y}$ layers
    AutorzyS. JONAS, E. WALASEK, I. HOŁYST, T. STAPIŃSKI, A. CZYŻEWSKA
    ŹródłoThe sixth conference and exhibition of the European Ceramic Society : 20–24 June 1999 Brighton : abstracts, Vol. 1. — London : IOM Communications, 1999. — S. 235–236
2
  • [referat, 1999]
  • TytułMicrowave plasma CVD technology of carbon and carbon-nitrogen films
    AutorzyTomasz STAPIŃSKI, Edward WALASEK, Stanisława JONAS
    ŹródłoIMAPS'99 : XXIII Conference of the International Microelectonics and Packaging Society - Poland Chapter : Koszalin–Kołobrzeg 21–23 September 1999 : proceedings / Technical University of Koszalin. Faculty of Electronics. — Koszalin : TU, [1999]. — S. 191–195
3
  • [referat, 1999]
  • TytułOtrzymywanie warstw a–C:N:H metodą MWCVD
    AutorzySt. JONAS, I. HOŁYST, E. WALASEK, A. CZYŻEWSKA, G. KRUPA
    ŹródłoModern plasma surface technology : 11 Międzynarodowa Szkoła Letnia Mielno'99 : 10–14.05.1999 / pod red. nauk. Witolda Prechta ; Politechnika Koszalińska. Katedra Inżynierii Materiałowej. Środowiskowe Laboratorium Techniki Próżniowej ; Sekcja Plazmowej Inżynierii Powierzchni Polskiego Towarzystwa Próżniowego ; International Union of Vacuum Science and Technical Application. Div. Vacuum Metallurgy. — Koszalin : Wydawnictwo Uczelniane PK, 1999. — S. 183–192
4
  • [referat, 1999]
  • TytułUHV plasma enhanced CVD system for preparation of new generation of amorphous silicon based efficient solar cells
    AutorzyS. JONAS, P. Rava, T. STAPIŃSKI, E. WALASEK
    ŹródłoE-MRS : European Conference on Photovoltaics & JOULE PV III Contractors' Meeting : joint meeting : 25–27 October 1999, Cracow–Poland : abstracts. — [Poland : s. n.], [1999]. — S. 16