Wykaz publikacji wybranego autora

Edward Walasek, dr

emeryt

Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki
WIMiC-ktcmo, *Katedra Technologii Ceramiki i Materiałów Ogniotrwałych

Identyfikatory Autora Informacje o Autorze w systemach zewnętrznych

ORCID: brak

ResearcherID: brak

Scopus: brak

OPI Nauka Polska

1
  • [artykuł w czasopiśmie, 2001]
  • TytułAmorphous hydrogenated silicon-nitrogen $(a-Si_{1-x}N_{x}:H)$ films deposited by PECVD
    AutorzyStanisława A. JONAS, Tomasz J. STAPIŃSKI, Edward P. WALASEK, Mariusz K. Chrabąszcz
    ŹródłoJournal of Wide Bandgap Materials. — 2001 vol. 9 no. 1–2, s. 83–92
2
  • [referat w czasopiśmie, 2002]
  • TytułChemical vapour infiltration of SiC in porous graphite materials
    AutorzyE. WALASEK, S. JONAS, T. STAPIŃSKI, S. KLUSKA, A. CZYŻEWSKA
    ŹródłoKey Engineering Materials. — 2002 vols. 206–213, s. 567–570
3
  • [referat, 1999]
  • TytułGrowth and properties of hydrogenated $C_{x}N_{y}$ layers
    AutorzyS. JONAS, E. WALASEK, I. HOŁYST, T. STAPIŃSKI, A. CZYŻEWSKA
    ŹródłoThe sixth conference and exhibition of the European Ceramic Society : 20–24 June 1999 Brighton : abstracts, Vol. 1. — London : IOM Communications, 1999. — S. 235–236
4
5
  • [referat, 1999]
  • TytułMicrowave plasma CVD technology of carbon and carbon-nitrogen films
    AutorzyTomasz STAPIŃSKI, Edward WALASEK, Stanisława JONAS
    ŹródłoIMAPS'99 : XXIII Conference of the International Microelectonics and Packaging Society - Poland Chapter : Koszalin–Kołobrzeg 21–23 September 1999 : proceedings / Technical University of Koszalin. Faculty of Electronics. — Koszalin : TU, [1999]. — S. 191–195
6
7
  • [referat, 2000]
  • TytułPA–CVD technique for new materials deposition
    AutorzyA. BIGAJ, T. STAPIŃSKI, S. JONAS, E. WALASEK
    ŹródłoXXIV International Conference IMAPS – Poland 2000 : Rytro 25–29 September 2000 : proceedings / [eds. Wiesław Zaraska, Andrzej Cichocki, Dorota Szwagierczak]. — Kraków : Research and Development Centre for Hybrid Microelectronics and Resistors, 2000. — S. 139–146
8
  • [referat w czasopiśmie, 2002]
  • TytułPreparation and properties of $a-C:H$ and $a-C:N:H$ layers
    AutorzyS. JONAS, T. STAPIŃSKI, E. WALASEK, A. Hilbig, I. ŁAGOSZ, G. KRUPA
    ŹródłoKey Engineering Materials. — 2002 vols. 206–213, s. 571–574
9
  • [referat, 2000]
  • TytułProperties of DLC and a-C:N:H films grown by PECVD and MWCVD techniques
    AutorzyS. JONAS, T. STAPIŃSKI, E. WALASEK
    ŹródłoSurface Engineering: in materials science I : proceedings of a symposium by the TMS Surface Modification & Coatings Technology Committee (SMC) and the Materials Processing and Manufacturing Division (MPMD), held during the 2000 TMS Annual Meeting : Nashville, Tennessee March 12–16, 2000 / ed. Sudipta Seal [et al.]. — Warrendale : The Minerals, Metals & Materials Society, 2000. — S. 347–355
10
  • [artykuł w czasopiśmie, 2001]
  • TytułUHV plasma enhanced CVD system for preparation of new generation amorphous silicon based efficient solar cells
    AutorzyS. JONAS, P. Rava, T. STAPIŃSKI, E. WALASEK
    ŹródłoOpto-Electronics Review / Stowarzyszenie Elektryków Polskich, Wojskowa Akademia Techniczna. Warszawa. — 2001 vol. 9 iss. 1, s. 91–95
11
  • [referat, 1999]
  • TytułUHV plasma enhanced CVD system for preparation of new generation of amorphous silicon based efficient solar cells
    AutorzyS. JONAS, P. Rava, T. STAPIŃSKI, E. WALASEK
    ŹródłoE-MRS : European Conference on Photovoltaics & JOULE PV III Contractors' Meeting : joint meeting : 25–27 October 1999, Cracow–Poland : abstracts. — [Poland : s. n.], [1999]. — S. 16