Wykaz publikacji wybranego autora

Tomasz Stapiński, prof. dr hab.

profesor zwyczajny

Wydział Informatyki, Elektroniki i Telekomunikacji
WIEiT-ke, Instytut Elektroniki


  • 2023

    [dyscyplina 1] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / automatyka, elektronika, elektrotechnika i technologie kosmiczne


  • 2018

    [dyscyplina 1] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / automatyka, elektronika i elektrotechnika


[poprzednia klasyfikacja] obszar nauk technicznych / dziedzina nauk technicznych / elektronika


Identyfikatory Autora Informacje o Autorze w systemach zewnętrznych

ORCID: 0000-0002-8386-8002 połącz konto z ORCID

ResearcherID: brak

Scopus: 6701524007

PBN: 5e70922c878c28a0473911f3

OPI Nauka Polska

System Informacyjny AGH (SkOs)




1
  • AC Hall Effect set-up for investigation of protective and gas sensor films / Andrzej BRUDNIK, Janusz Maruszczyk, Tomasz STAPIŃSKI // W: IMAPS XXV [Twenty fifth] international conference IMAPS–Poland 2001 : Rzeszów–Polańczyk 26–29 September 2001 : proceedings / eds. Jerzy Potencki, Alicja Bednarczyk, Dariusz Klepacki. — Rzeszów : Rzeszów University of Technology ; Kraków : International Microelectronics and Packaging Society Poland Chapter, 2001. — Na okł. dodatkowo: 50 years 1951–2001 of Higher Technical Education in Rzeszów. — ISBN10: 839044626X. — S. 203–206. — Bibliogr. s. 206, Abstr.

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

2
  • Amorphous hydrogenated silicon-nitrogen $(a-Si_{1-x}N_{x}:H)$ films deposited by PECVD / Stanisława A. JONAS, Tomasz J. STAPIŃSKI, Edward P. WALASEK, Mariusz K. Chrabąszcz // Journal of Wide Bandgap Materials ; ISSN 1524-511X. — 2001 vol. 9 no. 1–2, s. 83–92. — Bibliogr. s. 92, Abstr.

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

3
  • UHV plasma enhanced CVD system for preparation of new generation amorphous silicon based efficient solar cells / S. JONAS, P. Rava, T. STAPIŃSKI, E. WALASEK // Opto-Electronics Review / Stowarzyszenie Elektryków Polskich, Wojskowa Akademia Techniczna. Warszawa ; ISSN 1230-3402. — 2001 vol. 9 iss. 1, s. 91–95. — Bibliogr. s. 94–95

  • keywords: solar cells, passivation, amorphous silicon, microwave plasma chemical vapour deposition, plasma enhanced chemical vapour deposition

    cyfrowy identyfikator dokumentu: