pracownik inżynieryjno-techniczny
Faculty of Materials Science and Ceramics WIMiC-kchk
ORCID: brak
ResearcherID: brak
Scopus: 55442800900
OPI Nauka Polska
Metodyka badań cienkich warstw silseskwioksanowych : streszczenie — [The research methodology of thin silsesquioxane films] / Łukasz KLITA // W: Dokonania naukowe doktorantów 2 [Dokument elektroniczny] : materiały konferencyjne – streszczenia : materiały Konferencji Młodych Naukowców : Kraków, 12.04.2014 r.. — Wersja do Windows. — Dane tekstowe. — Kraków : CREATIVETIME, 2014. — 1 dysk optyczny. — e-ISBN: 978-83-63058-40-1. — S. 80. — Wymagania systemowe: Adobe Reader ; napęd CD-ROM. — Bibliogr. s. 80. — Afiliacja: Akademia Górniczo-Hutnicza
brak zdefiniowanych słów kluczowych
cyfrowy identyfikator dokumentu:
Studies of dodecaphenyl polyhedral oligomeric silsesquioxane thin films on Si(100) wafers / Bartosz HANDKE, Łukasz KLITA, Jacek NIZIOŁ, Witold JASTRZĘBSKI, Anna ADAMCZYK // Journal of Molecular Structure ; ISSN 0022-2860. — 2014 vol. 1065–1066, s. 248–253. — Bibliogr. s. 253, Abstr.. — tekst: http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0022286014002403/pdfft?md5=a5e6a3102df3bccb8908998eee8d5911&pid=1-s2.0-S0022286014002403-main.pdf
keywords: thin film, atomic force microscopy, ellipsometry, physical vapor deposition, grazing-incidence X-ray diffraction, Fourier transform infrared spectroscopy
Zobacz pełny wykaz publikacji Autora/Autorów: Anna Adamczyk, Jacek Nizioł, Witold Jastrzębski, Bartosz Handke
cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.1016/j.molstruc.2014.02.053