Wykaz publikacji wybranego autora

Maria Jurzecka-Szymacha, dr inż.

specjalista

Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki
WIMiC-kfmp, Katedra Fizykochemii i Modelowania Procesów


  • 2018

    [dyscyplina 1] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria materiałowa


[poprzednia klasyfikacja] obszar nauk technicznych / dziedzina nauk technicznych / inżynieria materiałowa


Identyfikatory Autora Informacje o Autorze w systemach zewnętrznych

ORCID: 0000-0002-1368-9199 orcid iD

ResearcherID: B-3923-2017

Scopus: 38361639600

PBN: 5e70937a878c28a0473aa9c5

OPI Nauka Polska

System Informacyjny AGH (SkOs)



Statystyka obejmuje publikacje afiliowane AGH od 2008 roku włącznie

typ publikacji
rocznikl. publ.książkifragm.referatyartykułypatentymapyred. czas.inne
ogółem3011415
202311
202211
202111
202011
201911
201611
2015532
201411
2013211
201111
2010312
200911
2008633
200744
200611
język publikacji
rocznikrazempolskojęzyczneanglojęzycznepozostałe języki
ogółem301218
202311
202211
202111
202011
201911
201611
2015523
201411
2013211
201111
2010321
200911
2008642
2007431
200611
kraj wydania
rocznikrazempubl. krajowepubl. zagraniczne
ogółem301911
202311
202211
202111
202011
201911
201611
2015541
201411
201322
201111
2010321
200911
2008651
200744
200611
Lista Filadelfijska
rocznikrazempubl. z LFpubl. pozostałe
ogółem30921
202311
202211
202111
202011
201911
201611
2015514
201411
201322
201111
201033
200911
2008615
200744
200611
punktacja MNiSW
rocznikrazempubl. z pkt. MNiSWpubl. pozostałe
ogółem301812
202311
202211
202111
202011
201911
201611
2015523
201411
2013211
201111
2010321
200911
200866
200744
200611
publikacje recenzowane
rocznikrazempubl. recenzowanepubl. nierecenzowane
ogółem301911
202311
202211
202111
202011
201911
201611
2015523
201411
2013211
201111
2010321
200911
200866
200744
200611



1
  • Amorficzne warstwy azotku krzemu ${a-Si_{x}N_{y}:H}$ na polikrystalicznym krzemie
2
  • Amorphous ${a-Si_{x}N_{y}:H}$ layers on polycrystalline silicon
3
  • Amorphous $a-Si_{x}N_{y}:H$ layers on silicon substrate for application in solar cells
4
5
  • Gradientowe warstwy $a-SiN_{x}:H$ osadzane plazmochemicznie w układzie Rf CVD
6
  • Modyfikacja powierzchni PEEK za pomocą plazmy niskotemperaturowej
7
  • On the correlation between the chemical composition of the amorphous $a-Si_{x}C_{y}N_{z}(H)$ layers deposited by PACVD and their band gap
8
  • On the correlation between the chemical composition of the amrophous $a-Si_{x}C_{y}N_{z}(H)$ layers deposited by PACVD and their band gap
9
10
  • Otrzymywanie i właściwości warstw ${a-C:N:H}$ na poliwęglanie
11
  • Otrzymywanie i właściwości warstw ${a-C:N:H}$ na poliwęglanie
12
  • Otrzymywanie i właściwości warstw $a-Si:H$ do zastosowań w fotowoltaice
13
  • PE CVD deposition of amorphous ${a-Si_{x}N_{y}:H}$ layers on polycrystalline silicon
14
  • Reakcje prowadzące do wzrostu warstw $a-SiN_{x}:H$ w układzie PE CVD
15
  • RF PE CVD deposition of amorphous a-$Si_{x}N_{y}:H$ layers for application in solar cells
16
  • Silicon nitride layers of various N-content
17
18
  • Silicon nitride layers of various n-content: technology, properties and structure modelling
19
  • Structure and optical properties of nitrogen-doped silicon and carbon layers deposited by PACVD
20
  • Synergiczne układy warstwowe: azotek krzemu – warstwa przejściowa na multikrystalicznym krzemie
21
  • Termooptyczne właściwości warstw a-Si:H otrzymywanych w procesie PACVD
22
23
  • The heterostructures of $CuO$ and $SnO_x$ for $NO_2$ detection
24
  • The optical and thermo-optical properties of non-stoichiometric silicon nitride layers obtained by the PECVD method with varying levels of nitrogen content
25
  • The optical properties of thin film alloys of ZnO, $TiO_2$ and $ZrO_2$ with $Al_2O_3$ synthesised using atomic layer deposition