Wykaz publikacji wybranego autora

Maria Jurzecka-Szymacha, dr inż.

specjalista

Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki
WIMiC-kfmp, Katedra Fizykochemii i Modelowania Procesów

  • 2018

    [dyscyplina 1] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria materiałowa

[poprzednia klasyfikacja] obszar nauk technicznych / dziedzina nauk technicznych / inżynieria materiałowa

Identyfikatory Autora Informacje o Autorze w systemach zewnętrznych

ORCID: 0000-0002-1368-9199 orcid iD

ResearcherID: B-3923-2017

Scopus: 38361639600

PBN: 5e70937a878c28a0473aa9c5

OPI Nauka Polska

System Informacyjny AGH (SkOs)

1

  • Modyfikacja powierzchni PEEK za pomocą plazmy niskotemperaturowej — Surface modification of the PEEK by using plasma method / Stanisława KLUSKA, Stanisława JONAS, Maria JURZECKA-SZYMACHA, Karol KYZIOŁ // Inżynieria Materiałowa ; ISSN 0208-6247. — 2015 R. 36 nr 1, s. 33–36. — Bibliogr. s. 36

  • słowa kluczowe: modyfikacja PEEK, obróbka plazmowa, trawienie jonowe powierzchni

    keywords: plasma treatment, PEEK modification, PECVD

    Zobacz pełny wykaz publikacji Autora/Autorów: Stanisława Dalczyńska-Jonas, Stanisława Kluska, Karol Kyzioł

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

2

  • On the correlation between the chemical composition of the amorphous $a-Si_{x}C_{y}N_{z}(H)$ layers deposited by PACVD and their band gap / Janusz Jaglarz, Maria JURZECKA-SZYMACHA, Stanisława KLUSKA, Tomasz STAPIŃSKI, Barbara SWATOWSKA, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH // W: SENM 2015 [Dokument elektroniczny] : Smart Engineering of New Materials : 22–25 June 2015 Lodz, Poland : abstract book. — Wersja do Windows. — Dane tekstowe. — [Lodz : s. n.], [2015]. — Dysk Flash. — S. [1]. — Wymagania systemowe: Adobe Reader

  • keywords: PACVD, band gap, spectroscopic ellipsometry, amorphous a-SixCyNz(H) layers, optical constants

    Zobacz pełny wykaz publikacji Autora/Autorów: Tomasz Stapiński, Stanisława Kluska, Katarzyna Tkacz-Śmiech, Barbara Swatowska

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

3

  • On the correlation between the chemical composition of the amrophous $a-Si_{x}C_{y}N_{z}(H)$ layers deposited by PACVD and their band gap / Stanisława KLUSKA, Janusz Jaglarz, Maria JURZECKA-SZYMACHA, Tomasz STAPIŃSKI, Barbara SWATOWSKA, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH // W: MicroTherm 2015 [Dokument elektroniczny] : Microtechnology and Thermal Problems in Electronics : June 23\textsuperscript{rd} – June 25\textsuperscript{th} 2015, Lodz, Poland : official proceedings / ed. Jacek Podgórski. — Wersja do Windows. — Dane tekstowe. — Lodz : Lodz University of Technology, cop. 2015. — Dysk Flash. — e-ISBN: 978-83-932197-3-5. — S. 31–35. — Wymagania systemowe: Adobe Reader. — Bibliogr. s. 34–35, Abstr.

  • keywords: PACVD, band gap, amorphous a-SixCyNz(H) layers, optical constants, specroscopic ellipsometry

    Zobacz pełny wykaz publikacji Autora/Autorów: Tomasz Stapiński, Stanisława Kluska, Katarzyna Tkacz-Śmiech, Barbara Swatowska

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

4
5

  • Termooptyczne właściwości warstw a-Si:H otrzymywanych w procesie PACVD — [Thermooptical parameters of amorphous a-Si:H layers deposited by PACVD system] / Ewa BARANIAK, Maria JURZECKA-SZYMACHA, Janusz Jaglarz // W: Dokonania naukowe doktorantów 3 [Dokument elektroniczny] : materiały konferencyjne – streszczenia : materiały Konferencji Młodych Naukowców : Kraków, 18.04.2015 r. / oprac. Marcin Kuczera, Krzysztof Piech. — Wersja do Windows. — Dane tekstowe. — Kraków : CREATIVETIME, [2015]. — 1 dysk optyczny. — e-ISBN: 978-83-63058-49-4. — S. 86. — Wymagania systemowe: Adobe Reader ; napęd CD-ROM. — Bibliogr. s. 86. — E. Baraniak, M. Jurzecka-Szymacha – afiliacja: Akademia Górniczo-Hutnicza

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    Zobacz pełny wykaz publikacji Autora/Autorów: Ewa Baraniak

    cyfrowy identyfikator dokumentu: