Wykaz publikacji wybranego autora

Maria Jurzecka-Szymacha, dr inż.

specjalista

Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki
WIMiC-kfmp, Katedra Fizykochemii i Modelowania Procesów


  • 2018

    [dyscyplina 1] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria materiałowa


[poprzednia klasyfikacja] obszar nauk technicznych / dziedzina nauk technicznych / inżynieria materiałowa


Identyfikatory Autora Informacje o Autorze w systemach zewnętrznych

ORCID: 0000-0002-1368-9199 orcid iD

ResearcherID: B-3923-2017

Scopus: 38361639600

PBN: 5e70937a878c28a0473aa9c5

OPI Nauka Polska

System Informacyjny AGH (SkOs)




1
  • Silicon nitride layers of various N-content : technology, properties and structure : [abstract] / Maria JURZECKA-SZYMACHA, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH, Stanisława KLUSKA // W: TCM 2010 [Dokument elektroniczny] : 3rd international symposium on Transparent Conductive Materials (former TCO) : 17–21 October, 2010, Analipsi/ Herosonissos, Greece. — Wersja do Windows. — Dane tekstowe. — [s. l. : s. n.], [2010]. — 1 dysk Flash. — S. [1]. — Wymagania systemowe: Adobe Reader

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

2
  • Synergiczne układy warstwowe: azotek krzemu – warstwa przejściowa na multikrystalicznym krzemieSynergetic layer systems: silicon nitride – transition layer on multicrystalline silicon / Wojciech Bąk, Maria JURZECKA-SZYMACHA, Stanisława JONAS, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH // Inżynieria Materiałowa ; ISSN 0208-6247. — 2010 R. 31 nr 4, s. 864–868. — Bibliogr. s. 867–686

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

3
  • Warstwy a-SiNx:H o różnej zawartości azotu osadzane w układzie PECVDa-SiNx:H layers of various nitrogen content deposited with PECVD / Katarzyna TKACZ-ŚMIECH, Piotr BOSZKOWICZ, Stanisława KLUSKA, Maria JURZECKA-SZYMACHA // Inżynieria Materiałowa ; ISSN 0208-6247. — 2010 R. 31 nr 4, s. 1260–1264. — Bibliogr. s. 1264

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu: