Wykaz publikacji wybranego autora

Karol Kyzioł, dr hab. inż., prof. AGH

profesor nadzwyczajny

Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki
WIMiC-kfmp, Katedra Fizykochemii i Modelowania Procesów


  • 2018

    [dyscyplina 1] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria materiałowa


[poprzednia klasyfikacja] obszar nauk technicznych / dziedzina nauk technicznych / inżynieria materiałowa


Identyfikatory Autora Informacje o Autorze w systemach zewnętrznych

ORCID: 0000-0001-5414-952X orcid iD

ResearcherID: A-9055-2017

Scopus: 23492534700

PBN: 5e70920b878c28a04738efd0

OPI Nauka Polska

System Informacyjny AGH (SkOs)




1
  • [referat, 2014]
  • TytułApplication of carbon-based gradient materials for the design of rail bumpers : [abstract]
    AutorzyP. Zakiewicz, P. PAĆKO, K. KOZŁOWSKA, T. UHL, K. KRYZIOŁ, J. Mizera
    ŹródłoCIMTEC 2014 [Dokument elektroniczny] : 13th International Conference on Modern Materials and Technologies ; 6th Forum on New Materials : Montecatini Terme, Italy, June 8–19, 2014. — [Italy : s. n.], [2014]. — 1 ekran
  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

2
3
4
  • [referat, 2014]
  • TytułInfluence of plasmochemical modification of Al-Cu-Mg alloys on surface structure and functional properties
    AutorzyK. KYZIOŁ, M. Mędala, Ł. Kaczmarek
    ŹródłoEngineering, computer science and education, 2014 : 8textsuperscript{th} international conference : [5-7. 11. 2014 Bialka Tatrzanska] : the book of abstracts. — Krakow : Metallurgy and Foundry Commission Polish Academy of Sciences, Krakow ; Institute of Technology, Pedagogical University of Krakow, cop. 2014. — S. 13
  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

5
  • [artykuł w czasopiśmie, 2014]
  • TytułKinetyka wzrostu warstw w procesie RFCVD
    AutorzyStanisława JONAS, Janusz Jaglarz, Karol KYZIOŁ, Marta JANUŚ, Elżbieta Murawska
    ŹródłoInżynieria Materiałowa. — 2014 R. 35 nr 6, s. 492–495
  • słowa kluczowe: metoda RFCVD, warstwy Si3N4, a-C:H, szybkosć wzrostu, centra aktywne

    keywords: a-C:H, growth rate, active centers, layers Si3N4, RFCVD method

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

6
  • [referat, 2014]
  • TytułPlasma assisted chemical vapour deposition – technological design of functional coatings
    AutorzyMarta JANUŚ, Stanisława KLUSKA, Karol KYZIOŁ, Stanisława JONAS
    ŹródłoICPMAT2014 : 9th international conference on the Physical properties and application of advanced materials : 14–18 September 2014, Krakow, Poland : programme and abstracts / ed. K. Przybylski ; AGH University of Science and Technology. — [Kraków : AGH], [2014]. — S. 35
  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

7