Wykaz publikacji wybranego autora

Katarzyna Tkacz-Śmiech, dr hab. inż., prof. AGH

profesor nadzwyczajny

Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki
WIMiC-kfmp, Katedra Fizykochemii i Modelowania Procesów


  • 2018

    [dyscyplina 1] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria materiałowa


[poprzednia klasyfikacja] obszar nauk technicznych / dziedzina nauk technicznych / inżynieria materiałowa


Identyfikatory Autora Informacje o Autorze w systemach zewnętrznych

ORCID: 0000-0002-5871-7720 połącz konto z ORCID

ResearcherID: brak

Scopus: 6603142751

PBN: 5e70920b878c28a04738f012

OPI Nauka Polska




1
  • A role of parameters in RF PA CVD technology of a-C:N:H layers
2
  • Badanie mechanizmu plazmochemicznej syntezy warstw typu ${a-C:N:H}$
3
  • Gradientowe warstwy $a-SiN_{x}:H$ osadzane plazmochemicznie w układzie Rf CVD
4
  • Kinetyka wzrostu warstw $a-C:N:H$ w układzie RF CVD
5
  • Modelowanie struktury atomowej warstw ${a-C:N:H}$ otrzymywanych w warunkach plazmochemicznych
6
  • Osadzanie warstw w warunkach plazmy: zarodkowanie czy polimeryzacja?
7
  • Otrzymywanie, budowa i właściwości wybranych, synergicznych układów warstwa–podłoże
8
  • Reakcje prowadzące do wzrostu warstw $a-SiN_{x}:H$ w układzie PE CVD
9
  • Wpływ parametrów procesu RF CVD na stabilność warstw ${a-C:N:H}$