emeryt
Faculty of Materials Science and Ceramics WIMiC-ktcmo
ORCID: brak
ResearcherID: brak
Scopus: brak
OPI Nauka Polska
Amorphous hydrogenated silicon-nitrogen $(a-Si_{1-x}N_{x}:H)$ films deposited by PECVD / Stanisława A. JONAS, Tomasz J. STAPIŃSKI, Edward P. WALASEK, Mariusz K. Chrabąszcz // Journal of Wide Bandgap Materials ; ISSN 1524-511X. — 2001 vol. 9 no. 1–2, s. 83–92. — Bibliogr. s. 92, Abstr.
brak zdefiniowanych słów kluczowych
Zobacz pełny wykaz publikacji Autora/Autorów: Tomasz Stapiński, Stanisława Dalczyńska-Jonas
cyfrowy identyfikator dokumentu:
UHV plasma enhanced CVD system for preparation of new generation amorphous silicon based efficient solar cells / S. JONAS, P. Rava, T. STAPIŃSKI, E. WALASEK // Opto-Electronics Review / Stowarzyszenie Elektryków Polskich, Wojskowa Akademia Techniczna. Warszawa ; ISSN 1230-3402. — 2001 vol. 9 iss. 1, s. 91–95. — Bibliogr. s. 94–95
keywords: solar cells, passivation, amorphous silicon, microwave plasma chemical vapour deposition, plasma enhanced chemical vapour deposition