emeryt
Faculty of Materials Science and Ceramics WIMiC-ktcmo
ORCID: brak
ResearcherID: brak
Scopus: brak
OPI Nauka Polska
Amorphous hydrogenated silicon-nitrogen $(a-Si_{1-x}N_{x}:H)$ films deposited by PECVD / Stanisława A. JONAS, Tomasz J. STAPIŃSKI, Edward P. WALASEK, Mariusz K. Chrabąszcz // Journal of Wide Bandgap Materials ; ISSN 1524-511X. — 2001 vol. 9 no. 1–2, s. 83–92. — Bibliogr. s. 92, Abstr.
brak zdefiniowanych słów kluczowych
Zobacz pełny wykaz publikacji Autora/Autorów: Tomasz Stapiński, Stanisława Dalczyńska-Jonas
cyfrowy identyfikator dokumentu:
Chemical vapour infiltration of SiC in porous graphite materials / E. WALASEK, S. JONAS, T. STAPIŃSKI, S. KLUSKA, A. CZYŻEWSKA // Key Engineering Materials ; ISSN 1013-9826. — 2002 vols. 206–213, s. 567–570. — Bibliogr. s. 570, Abstr.. — ECRS seventh : Euro Ceramics VII : proceedings of the 7th conference & exhibition of the European Ceramic Society : Brugge, Belgium, September 9–13, 2001. Pt. 1 Sessions P1, P2, P3, G1. — Switzerland [et al.] : Trans Tech Publications, 2002
keywords: silicon carbide, pulse chemical vapour infiltration, porous graphite materials
Zobacz pełny wykaz publikacji Autora/Autorów: Tomasz Stapiński, Stanisława Dalczyńska-Jonas, Stanisława Kluska, Alicja Czyżewska
cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.4028/www.scientific.net/KEM.206-213.567
Growth and properties of hydrogenated $C_{x}N_{y}$ layers / S. JONAS, E. WALASEK, I. HOŁYST, T. STAPIŃSKI, A. CZYŻEWSKA // W: The sixth conference and exhibition of the European Ceramic Society : 20–24 June 1999 Brighton : abstracts, Vol. 1. — London : IOM Communications, 1999. — (British Ceramic Proceedings ; ISSN 0268-4373 ; no. 60). — ISBN: 978-1861250933 ; ISBN10: 1861250932. — S. 235–236. — Bibliogr. s. 236, Abstr.
Zobacz pełny wykaz publikacji Autora/Autorów: Tomasz Stapiński, Stanisława Dalczyńska-Jonas, Iwona Hołyst, Alicja Czyżewska
Influence of $SiC$ infiltration on some properties of porous carbon materials / S. KLUSKA, S. JONAS, E. WALASEK, T. STAPIŃSKI, M. PYZALSKI // Journal of the European Ceramic Society ; ISSN 0955-2219. — Tytuł poprz.: International Journal of High Technology Ceramics. — 2003 vol. 23 iss. 9, s. 1509–1515. — Bibliogr. s. 1515, Abstr.. — tekst: https://www-1sciencedirect-1com-10000271c01b0.wbg2.bg.agh.edu.pl/science/article/pii/S0955221902003588/pdfft?md5=af34f02c4a4540b7fdc096bc1cd64f9b&pid=1-s2.0-S0955221902003588-main.pdf
keywords: porosity, oxidation, infiltration, SiC, carbon
Zobacz pełny wykaz publikacji Autora/Autorów: Tomasz Stapiński, Stanisława Dalczyńska-Jonas, Stanisława Kluska, Maurycy Pyzalski
cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.1016/S0955-2219(02)00358-8
Microwave plasma CVD technology of carbon and carbon-nitrogen films / Tomasz STAPIŃSKI, Edward WALASEK, Stanisława JONAS // W: IMAPS'99 : XXIII Conference of the International Microelectonics and Packaging Society - Poland Chapter : Koszalin–Kołobrzeg 21–23 September 1999 : proceedings / Technical University of Koszalin. Faculty of Electronics. — Koszalin : TU, [1999]. — ISBN10: 83-87424-99-4. — S. 191–195. — Bibliogr. s. 195
Optical and structural properties of amorphous silicon-carbon films for optoelectronic applications / T. STAPIŃSKI, B. SWATOWSKA, S. KLUSKA, E. WALASEK // Applied Surface Science ; ISSN 0169-4332. — Tytuł poprz.: Applications of Surface Science. — 2004 vol. 238 iss. 1–4, s. 367–374. — Bibliogr. s. 373–374, Abstr.. — Publikacja dostępna online od: 2004-08-18. — APHYS-2003 : 1st international neeting on Applied Physics : Badajoz, Spain, October 15-18, 2003. — tekst: https://www-1sciencedirect-1com-100002778026d.wbg2.bg.agh.edu.pl/science/article/pii/S0169433204008414/pdfft?md5=42ee9fa45c15384fe1c41fb6b22d0583&pid=1-s2.0-S0169433204008414-main.pdf
keywords: thin films, optical properties, CVD, amorphous silicon-carbon
Zobacz pełny wykaz publikacji Autora/Autorów: Tomasz Stapiński, Stanisława Kluska, Barbara Swatowska
cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.1016/j.apsusc.2004.05.177
PA–CVD technique for new materials deposition / A. BIGAJ, T. STAPIŃSKI, S. JONAS, E. WALASEK // W: XXIV International Conference IMAPS – Poland 2000 : Rytro 25–29 September 2000 : proceedings / [eds. Wiesław Zaraska, Andrzej Cichocki, Dorota Szwagierczak]. — Kraków : Research and Development Centre for Hybrid Microelectronics and Resistors, 2000. — ISBN10: 83-904462-5-1. — S. 139–146. — Bibliogr. s. 146, Abstr.
Zobacz pełny wykaz publikacji Autora/Autorów: Tomasz Stapiński, Stanisława Dalczyńska-Jonas, Anna Bigaj
Preparation and properties of $a-C:H$ and $a-C:N:H$ layers / S. JONAS, T. STAPIŃSKI, E. WALASEK, A. Hilbig, I. ŁAGOSZ, G. KRUPA // Key Engineering Materials ; ISSN 1013-9826. — 2002 vols. 206–213, s. 571–574. — Bibliogr. s. 574. — ECRS seventh : Euro Ceramics VII : proceedings of the 7th conference & exhibition of the European Ceramic Society : Brugge, Belgium, September 9–13, 2001. Pt. 1 Sessions P1, P2, P3, G1. — Switzerland [et al.] : Trans Tech Publications, 2002. — ISBN 0-87849-882-6
keywords: diamond like carbon, amorphous hydrogenated carbon-nitrogen, amorphous carbon layers
Zobacz pełny wykaz publikacji Autora/Autorów: Tomasz Stapiński, Stanisława Dalczyńska-Jonas, Iwona Łagosz, Grażyna Krupa
cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.4028/www.scientific.net/KEM.206-213.571
Properties of DLC and a-C:N:H films grown by PECVD and MWCVD techniques / S. JONAS, T. STAPIŃSKI, E. WALASEK // W: Surface Engineering: in materials science I : proceedings of a symposium by the TMS Surface Modification & Coatings Technology Committee (SMC) and the Materials Processing and Manufacturing Division (MPMD), held during the 2000 TMS Annual Meeting : Nashville, Tennessee March 12–16, 2000 / ed. Sudipta Seal [et al.]. — Warrendale : The Minerals, Metals & Materials Society, 2000. — (A Publication of TMS). — ISBN10: 0-87339-471-2. — S. 347–355. — Bibliogr. s. 355
UHV plasma enhanced CVD system for preparation of new generation amorphous silicon based efficient solar cells / S. JONAS, P. Rava, T. STAPIŃSKI, E. WALASEK // Opto-Electronics Review / Stowarzyszenie Elektryków Polskich, Wojskowa Akademia Techniczna. Warszawa ; ISSN 1230-3402. — 2001 vol. 9 iss. 1, s. 91–95. — Bibliogr. s. 94–95
keywords: solar cells, passivation, amorphous silicon, microwave plasma chemical vapour deposition, plasma enhanced chemical vapour deposition
UHV plasma enhanced CVD system for preparation of new generation of amorphous silicon based efficient solar cells / S. JONAS, P. Rava, T. STAPIŃSKI, E. WALASEK // W: E-MRS : European Conference on Photovoltaics & JOULE PV III Contractors' Meeting : joint meeting : 25–27 October 1999, Cracow–Poland : abstracts. — [Poland : s. n.], [1999]. — S. 16