Amorficzne warstwy antyrefleksyjne (ARC) do podwyższania sprawności ogniw słonecznych — Amorphous antireflective coatings (ARC) for improvement of solar cells efficiency / Barbara SWATOWSKA, Tomasz STAPIŃSKI // W: Kierunki działalności i współpraca naukowa Wydziału Elektrotechniki, Automatyki, Informatyki i Elektroniki : materiały konferencji zorganizowanej z okazji Jubileuszu 90-lecia AGH : Kraków, 28–29 maja 2009 / komitet red. Wojciech Mitkowski, Adam Piłat. — Kraków : AGH WEAIiE, cop. 2009 + CD. — ISBN: 978-83-88309-87. — S. 107–108. — Bibliogr. s. 108, Streszcz., Abstr.

Amorficzne warstwy uwodornione typu a-Si:C:H oraz a-Si:N:H do zastosowań w ogniwach słonecznych jako pokrycia antyrefleksyjne — [Amorphous hydrogenated thin a-Si:C:H and a-Si:N:H for solar cells as antireflective coatings] / Barbara SWATOWSKA, Tomasz STAPIŃSKI // W: I Krajowa konferencja fotowoltaiki [Dokument elektroniczny] : Krynica Zdrój, 9–11 października 2009. — Wersja do Windows. — Dane tekstowe. — [Kraków : Instytut Metalurgii i Inżynierii Materiałowej Polskiej Akademii Nauk], [2009]. — 1 dysk optyczny. — Projekt nr UDA-POKL.04.02.00-00-053/08-00 „Upowszechnianie osiągnięć polskiej oraz światowej fotowoltaiki w  procesie kształcenia na poziomie wyższym”. — S. [1–10]. — Wymagania systemowe: Adobe Reader ; napęd CD-ROM. — Bibliogr. s. [9–10], Streszcz.

Optical and structural characterization of silicon-carbon-nitride thin films for optoelectronics / B. SWATOWSKA, T. STAPIŃSKI // W: ICANS 23 : science and technology : 23rd International Conference on Amorphous and Nanocrystalline Semiconductors : the Netherlands : Aug 23–28, 2009 : book of abstracts. — [The Netherlands : s. n.], [2009]. — S. 223. — Bibliogr. s. 223

Parameters of silicon solar cells in changeable external conditions / Barbara SWATOWSKA, Tomasz STAPIŃSKI, Jerzy CHOJNACKI // W: IMAPS Poland : XXXIII international conference of IMAPS-CPMT IEEE Poland : Pszczyna 21–24 September 2009 : proceedings / eds. Piotr Kowalik, Krzysztof Waczyński. — Gliwice : Silesian University of Technology ; Kraków : International Microelectronics and Packaging Society Poland-Chapter, 2009. — ISBN: 978-83-917701-7-7. — S. 81. — Pełny tekst W: XXXIII international conference IMAPS-CPMT IEEE Poland [Dokument elektroniczny] : 21–24 September 2009 : Pszczyna, Poland / Politechnika Śląska. — Wersja do Windows. — Dane tekstowe. — Gliwice : Silesian University of Technology ; Kraków : International Microelectronics and Packaging Society Poland-Chapter, 2009. — 1 dysk optyczny. — S. 335–338. — Wymagania systemowe: Adobe Reader ; napęd CD-ROM. — Bibliogr. s. 338, Abstr.