Wykaz publikacji wybranego autora

Adam Czapla, dr inż.

emeryt

* Wydział Elektrotechniki, Automatyki, Informatyki i Elektroniki
WEAIiE-ke, * Katedra Elektroniki


Identyfikatory Autora Informacje o Autorze w systemach zewnętrznych

ORCID: brak

ResearcherID: brak

Scopus: brak

OPI Nauka Polska




1
2
  • [referat, 2018]
  • Tytuł$CuO$ and $CuO/TiO_{2-y}$ thin-film gas sensors of $H_{2}$ and $NO_{2}$
    AutorzyArtur RYDOSZ, Wojciech MAZIARZ, Andrzej BRUDNIK, Adam Czapla, Katarzyna ZAKRZEWSKA
    ŹródłoCOE 2018 [Dokument elektroniczny] : 15textsuperscript{th} international scientific conference on Optoelectronic and Electronic Sensors : 17–20 June 2018, Warsaw / Warsaw University of Technology. — [Piscataway : IEEE], [2018]. — S. 1–4
  • keywords: gas sensors, CuO thin films, CuO/TiO2 heterostructures

    cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.1109/COE.2018.8435156

3
  • [referat, 2012]
  • TytułGas sensing properties of $TiO_{2}-SnO_{2}$ nanomaterials
    AutorzyB. ŁYSOŃ-SYPIEŃ, A. CZAPLA, M. LUBECKA, K. ZAKRZEWSKA, M. RADECKA, A. KUSIOR, A. G. Balogh, S. Lauterbach, H.-J. Kleebe
    ŹródłoIMCS 2012 : the 14textsuperscript{th} International Meeting on Chemical Sensors : May 20–23, 2012, Nuremberg, Germany : abstracts and manuscripts of the lectures and poster presentations. — Wunstorf : AMA Service GmbH, cop. 2012. — S. 225
  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

4
5
6
  • [referat, 2011]
  • TytułNanocrystalline ${TiO_{2} - SnO_{2}}$ sensor for ${H_{2}}$ and ${NH_{3}}$
    AutorzyK. ZAKRZEWSKA, B. ŁYSOŃ, A. CZAPLA, M. LUBECKA, M. RADECKA, E. DROŻDŻ-CIEŚLA, A. KUSIOR, [et al.]
    ŹródłoGas sensors based on semiconducting metal oxides: basic understanding & applications : 4textsuperscript{th} GOSPEL workshop : Tübingen (Germany), 6th and 7th of June, 2011 / Eberhard Karls Universität Tübingen, ISOCS International Society for Olfaction and Chemical Sensing, Kyushu University. — [Germany : s. n.], [2011]. — S. 56/66–57/66
  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

7
  • [referat, 2010]
  • TytułNanopowders of chromium doped $TiO_{2}$ for gas sensors
    AutorzyM. RADECKA, M. RĘKAS, B. ŁYSOŃ, A. CZAPLA, M. LUBECKA, K. ZAKRZEWSKA, T. Graule
    ŹródłoAPCOT 2010 : the 5textsuperscript{th} Asia-Pacific Conference On Transducers and micro-nano technology: 6th–9th July, 2010, Perth, Western Australia / eds. John Dell [et al.]. — S. l. : s. n., [2010]. — S. 191
  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

8
9
10
  • [referat, 2010]
  • TytułPhotocatalytical and gas sensing performance of nanocrystalline $TiO_{2}-SnO_{2}$
    AutorzyM. RADECKA, M. RĘKAS, B. ŁYSOŃ, A. CZAPLA, M. LUBECKA, K. ZAKRZEWSKA
    ŹródłoIMCS-13 : the 13th International Meeting on Chemical Sensors : 11th–14th July : Perth, Western Australia / eds. Wojtek Wlodarski [et al.]. — [Australia : s. n.], [2010]. — S. 265
  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

11
  • [referat, 2008]
  • TytułPreparation, characterization and applications of ${TiO_{2}-SnO_{2}}$ system : [abstract]
    AutorzyM. RADECKA, M. RĘKAS, A. CZAPLA, K. ZAKRZEWSKA
    Źródło“Reactivity of solids” : 15textsuperscript{th} French-Polish seminar : June 30–July 2, 2008, Dijon, France / Université de Bourgogne, AGH University of Science and Technology. — [France : s. n.], [2008]. — S. [1]
  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

12
  • [referat w czasopiśmie, 2008]
  • TytułPreparation, characterization and applications of $TiO_{2}-SnO_{2}$ system
    AutorzyM. RĘKAS, M. RADECKA, J. Wyrwa, A. CZAPLA, M. LUBECKA, K. ZAKRZEWSKA
    ŹródłoAnnales de Chimie Science des Matériaux. — 2008 vol. 33 suppl. 1, s. 181–188
  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

13
  • [referat w czasopiśmie, 2008]
  • TytułStudies of medium frequency high power density magnetron sputtering discharges
    AutorzyAndrzej BRUDNIK, Adam CZAPLA, Witold Posadowski
    ŹródłoVacuum : Surface Engineering, Surface Instrumentation & Vacuum Technology. — 2008 vol. 82 iss. 10 spec. iss., s. 1124–1127. — tekst: http://goo.gl/ighdvQ
  • keywords: magnetron sputtering, high rate deposition, pulsed sputtering, plasma processing

    cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.1016/j.vacuum.2008.01.029

14
15
16
17