Wykaz publikacji wybranego autora

Ewa Pieczyńska, mgr inż.

doktorant

Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki
WIMiC-kfmp, Katedra Fizykochemii i Modelowania Procesów


Identyfikatory Autora

ORCID: brak

ResearcherID: brak

Scopus: brak



Statystyka obejmuje publikacje afiliowane AGH od 2008 roku włącznie

typ publikacji
rocznikl. publ.książkifragm.referatyartykułypatentymapyred. czas.inne
ogółem5113
2014312
2013211
język publikacji
rocznikrazempolskojęzyczneanglojęzycznepozostałe języki
ogółem523
2014312
2013211
kraj wydania
rocznikrazempubl. krajowepubl. zagraniczne
ogółem55
201433
201322
Lista Filadelfijska
rocznikrazempubl. z LFpubl. pozostałe
ogółem514
2014312
201322
punktacja MNiSW
rocznikrazempubl. z pkt. MNiSWpubl. pozostałe
ogółem532
2014321
2013211
publikacje recenzowane
rocznikrazempubl. recenzowanepubl. nierecenzowane
ogółem541
201433
2013211



1
  • [artykuł w czasopiśmie, 2013]
  • TytułOtrzymywanie i właściwości warstw $a-Si:H$ do zastosowań w fotowoltaice
    AutorzyEwa PIECZYŃSKA, Piotr BOSZKOWICZ, Maria JURZECKA-SZYMACHA
    ŹródłoLogistyka. — 2013 nr 4 dod.: CD Logistyka – nauka : artykuły recenzowane, s. 419–427
  • słowa kluczowe: amorficzny krzem, elipsometria, PACVD

    keywords: amorphous silicon layers, RF PACVD, solar cells, ellipsometry

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

2
  • [fragment książki, 2014]
  • TytułStructure and optical properties of nitrogen-doped silicon and carbon layers deposited by PACVD
    AutorzyEwa PIECZYŃSKA, Maria JURZECKA-SZYMACHA
    ŹródłoEYEC monograph : 3textsuperscript{rd} European Young Engineers Conference : April 29–30textsuperscript{th} 2014, Warsaw / ed. Michał Wojasiński. — Warsaw : University of Technology. Faculty of Chemical and Process Engineering, cop. 2014. — S. 224–225
  • keywords: RF PACVD, ellipsometry, optical filters

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

3
  • [artykuł w czasopiśmie, 2014]
  • TytułTermooptyczne właściwości warstw a-C:N:H
    AutorzyKatarzyna TKACZ-ŚMIECH, Janusz Jaglarz, Ewa PIECZYŃSKA, Konstanty MARSZAŁEK
    ŹródłoInżynieria Materiałowa. — 2014 R. 35 nr 5, s. 423–426
  • słowa kluczowe: warstwy a-C:N:H, elipsometria spektroskopowa, współczynniki termooptyczne, PACVD

    keywords: PACVD, a-C:N:H layers, elipsometry, thermooptical parameters

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

4
  • [referat, 2013]
  • TytułThe preparation and properties of amorphous-silicon layers (a-Si:H) for applications in photovoltaics
    AutorzyEwa PIECZYŃSKA, Piotr BOSZKOWICZ, Maria JURZECKA-SZYMACHA
    ŹródłoVIII Krakow conference of young scientists 2013 : Krakow, September 26–28, 2013 : book of abstracts / AGH University of Science and Technology in Krakow, Grupa Naukowa Pro Futuro. — Krakow : Agencja Reklamowo-Wydawnicza ”OSTOJA”, 2013. — S. 11
  • keywords: amorphous silicon layers, RF PACVD, solar cells, ellipsometry

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

5