doktorant
Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki WIMiC-kfmp, Katedra Fizykochemii i Modelowania Procesów
ORCID: brak
ResearcherID: brak
Scopus: brak
Otrzymywanie i właściwości warstw $a-Si:H$ do zastosowań w fotowoltaice — Properties of amorphous silicon layers ($a-Si:H$) deposited by plasma assisted CVD / Ewa PIECZYŃSKA, Piotr BOSZKOWICZ, Maria JURZECKA-SZYMACHA // Logistyka ; ISSN 1231-5478. — 2013 nr 4 dod.: CD Logistyka – nauka : artykuły recenzowane, s. 419–427. — Wymagania systemowe: Adobe Reader ; napęd CD-ROM. — Bibliogr. s. 426–427, Streszcz., Abstr.
słowa kluczowe: amorficzny krzem, elipsometria, PACVD
keywords: amorphous silicon layers, RF PACVD, solar cells, ellipsometry
Zobacz pełny wykaz publikacji Autora/Autorów: Maria Jurzecka-Szymacha, Piotr Boszkowicz
cyfrowy identyfikator dokumentu: