doktorant
Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki WIMiC-kfmp, Katedra Fizykochemii i Modelowania Procesów
ORCID: brak
ResearcherID: brak
Scopus: brak
Otrzymywanie i właściwości warstw $a-Si:H$ do zastosowań w fotowoltaice — Properties of amorphous silicon layers ($a-Si:H$) deposited by plasma assisted CVD / Ewa PIECZYŃSKA, Piotr BOSZKOWICZ, Maria JURZECKA-SZYMACHA // Logistyka ; ISSN 1231-5478. — 2013 nr 4 dod.: CD Logistyka – nauka : artykuły recenzowane, s. 419–427. — Wymagania systemowe: Adobe Reader ; napęd CD-ROM. — Bibliogr. s. 426–427, Streszcz., Abstr.
słowa kluczowe: amorficzny krzem, elipsometria, PACVD
keywords: amorphous silicon layers, RF PACVD, solar cells, ellipsometry
Zobacz pełny wykaz publikacji Autora/Autorów: Maria Jurzecka-Szymacha, Piotr Boszkowicz
cyfrowy identyfikator dokumentu:
Termooptyczne właściwości warstw a-C:N:H — Thermo-optical properties of a-C:N:H layers / Katarzyna TKACZ-ŚMIECH, Janusz Jaglarz, Ewa PIECZYŃSKA, Konstanty MARSZAŁEK // Inżynieria Materiałowa ; ISSN 0208-6247. — 2014 R. 35 nr 5, s. 423–426. — Bibliogr. s. 426, Streszcz., Summ.
słowa kluczowe: warstwy a-C:N:H, elipsometria spektroskopowa, współczynniki termooptyczne, PACVD
keywords: PACVD, a-C:N:H layers, elipsometry, thermooptical parameters
Zobacz pełny wykaz publikacji Autora/Autorów: Konstanty Marszałek, Katarzyna Tkacz-Śmiech
Thermo-optical parameters of amorphous $a-C:N:H$ layers / E. PIECZYŃSKA, J. Jaglarz, K. MARSZAŁEK, K. TKACZ-ŚMIECH // Acta Physica Polonica. A ; ISSN 0587-4246. — 2014 vol. 126 no. 6, s. 1241–1245. — Bibliogr. s. 1245. — tekst: http://przyrbwn.icm.edu.pl/APP/PDF/126/a126z6p04.pdf
brak zdefiniowanych słów kluczowych
cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.12693/APhysPolA.126.1241