Wykaz publikacji wybranego autora

Piotr Boszkowicz, mgr inż.

doktorant

Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki
WIMiC-kfmp, Katedra Fizykochemii i Modelowania Procesów


Identyfikatory Autora Informacje o Autorze w systemach zewnętrznych

ORCID: brak

ResearcherID: brak

Scopus: brak

OPI Nauka Polska





Liczba pozycji spełniających powyższe kryteria selekcji: 11, z ogólnej liczby 11 publikacji Autora


1
  • [inne, 2011]
  • TytułKrzemowe warstwy funkcjonalne na ogniwa słoneczne
    AutorzyPiotr BOSZKOWICZ ; promotor/opiekun naukowy Katarzyna Tkacz-Śmiech
    ŹródłoDoctus : Małopolski fundusz stypendialny dla doktorantów 2008/2011 : człowiek – najlepsza inwestycja. — Kraków : Małopolskie Centrum Przedsiębiorczości, [2011]. — S. 10
2
  • [referat w czasopiśmie, 2008]
  • TytułOsadzanie warstw w warunkach plazmy: zarodkowanie czy polimeryzacja?
    AutorzyKatarzyna TKACZ-ŚMIECH, Stanisława JONAS, Piotr BOSZKOWICZ
    ŹródłoInżynieria Materiałowa. — 2008 R. 29 nr 6, s. 764–767
3
  • [artykuł w czasopiśmie, 2013]
  • TytułOtrzymywanie i właściwości warstw $a-Si:H$ do zastosowań w fotowoltaice
    AutorzyEwa PIECZYŃSKA, Piotr BOSZKOWICZ, Maria JURZECKA-SZYMACHA
    ŹródłoLogistyka. — 2013 nr 4 dod.: CD Logistyka – nauka : artykuły recenzowane, s. 419–427
4
  • [referat w czasopiśmie, 2010]
  • TytułPolymer – surface modification with ${a-C:N:H}$ layers plasma chemically deposited in RF CVD and MW CVD systems
    AutorzyKarol Przetakiewicz, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH, Piotr BOSZKOWICZ, Stanisława JONAS
    ŹródłoDiffusion and Defect Data – Solid State Data. Part B, Solid State Phenomena. — 2010 vol. 165, s. 159–164. — tekst: http://www.scientific.net/SSP.165.159.pdf
5
  • [referat w czasopiśmie, 2008]
  • TytułReakcje prowadzące do wzrostu warstw $a-SiN_{x}:H$ w układzie PE CVD
    AutorzyPiotr BOSZKOWICZ, Stanisława JONAS, Maria JURZECKA-SZYMACHA, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH
    ŹródłoInżynieria Materiałowa. — 2008 R. 29 nr 6, s. 776–779
6
7
  • [referat, 2009]
  • TytułSilicon nitride layers of various n-content: technology, properties and structure modelling
    AutorzyMaria JURZECKA-SZYMACHA, Piotr BOSZKOWICZ, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH, Stanisława JONAS
    ŹródłoICCS15 [Dokument elektroniczny] : 15textsuperscript{th} International conference on Composite Structures : Porto, Portugal, June 15–17, 2009. — [Portugal : s. l.], [2009]. — S. 1–3
8
  • [referat, 2010]
  • TytułSubstrates Si for solar cells – a review : [abstract]
    AutorzyP. BOSZKOWICZ, K. TKACZ-ŚMIECH, S. JONAS
    ŹródłoTCM 2010 [Dokument elektroniczny] : 3rd international symposium on Transparent Conductive Materials (former TCO) : 17–21 October, 2010, Analipsi/ Herosonissos, Greece. — [s. l. : s. n.], [2010]. — S. [1]
9
  • [referat, 2013]
  • TytułThe preparation and properties of amorphous-silicon layers (a-Si:H) for applications in photovoltaics
    AutorzyEwa PIECZYŃSKA, Piotr BOSZKOWICZ, Maria JURZECKA-SZYMACHA
    ŹródłoVIII Krakow conference of young scientists 2013 : Krakow, September 26–28, 2013 : book of abstracts / AGH University of Science and Technology in Krakow, Grupa Naukowa Pro Futuro. — Krakow : Agencja Reklamowo-Wydawnicza ”OSTOJA”, 2013. — S. 11
10
  • [artykuł w czasopiśmie, 2010]
  • TytułWarstwy a-C:N:H na polimerach osadzane w układzie PE CVD
    AutorzyStanisława JONAS, Anna MAŁEK, Jadwiga KONEFAŁ, Piotr BOSZKOWICZ
    ŹródłoInżynieria Materiałowa. — 2010 R. 31 nr 4, s. 997–1001
11
  • [artykuł w czasopiśmie, 2010]
  • TytułWarstwy a-SiNx:H o różnej zawartości azotu osadzane w układzie PECVD
    AutorzyKatarzyna TKACZ-ŚMIECH, Piotr BOSZKOWICZ, Stanisława KLUSKA, Maria JURZECKA-SZYMACHA
    ŹródłoInżynieria Materiałowa. — 2010 R. 31 nr 4, s. 1260–1264