BPP AGH

Piotr Boszkowicz, mgr inż.

Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki
WIMiC-kfmp, Katedra Fizykochemii i Modelowania Procesów

Identyfikatory Autora	Informacje o Autorze w systemach zewnętrznych
ORCID: brak ResearcherID: brak Scopus: brak	OPI Nauka Polska

Identyfikatory Autora

Informacje o Autorze w systemach zewnętrznych

ORCID: brak

ResearcherID: brak

Scopus: brak

Liczba pozycji spełniających powyższe kryteria selekcji: 11, z ogólnej liczby 11 publikacji Autora

wydruk:

sortowanie:

1

Krzemowe warstwy funkcjonalne na ogniwa słoneczne
Krzemowe warstwy funkcjonalne na ogniwa słoneczne — [Functional layers on silicon solar cells] / Piotr BOSZKOWICZ ; promotor/opiekun naukowy Katarzyna Tkacz-Śmiech // W: Doctus : Małopolski fundusz stypendialny dla doktorantów 2008/2011 : człowiek – najlepsza inwestycja. — Kraków : Małopolskie Centrum Przedsiębiorczości, [2011]. — S. 10. — Afiliacja: Akademia Górniczo-Hutnicza im. Stanisława Staszica w Krakowie, Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki

2

Osadzanie warstw w warunkach plazmy: zarodkowanie czy polimeryzacja?
Osadzanie warstw w warunkach plazmy: zarodkowanie czy polimeryzacja? — Plasma-chemical deposition: nucleation or polimerisation? / Katarzyna TKACZ-ŚMIECH, Stanisława JONAS, Piotr BOSZKOWICZ // Inżynieria Materiałowa ; ISSN 0208-6247. — 2008 R. 29 nr 6, s. 764–767. — Bibliogr. s. 767, Streszcz., Abstr.. — INPO2008 : Inżynieria Powierzchni = Surface Engineering : Wisła–Jawornik, 2–5.XII.2008 / pod red. Leopolda Jeziorskiego, Zygmunta Nitkiewicza, Józefa Jasińskiego. — Katowice : Wydawnictwo SIGMA-NOT, 2008

3

Otrzymywanie i właściwości warstw $a-Si:H$ do zastosowań w fotowoltaice
Otrzymywanie i właściwości warstw $a-Si:H$ do zastosowań w fotowoltaice — Properties of amorphous silicon layers ($a-Si:H$) deposited by plasma assisted CVD / Ewa PIECZYŃSKA, Piotr BOSZKOWICZ, Maria JURZECKA-SZYMACHA // Logistyka ; ISSN 1231-5478. — 2013 nr 4 dod.: CD Logistyka – nauka : artykuły recenzowane, s. 419–427. — Wymagania systemowe: Adobe Reader ; napęd CD-ROM. — Bibliogr. s. 426–427, Streszcz., Abstr.

4

Polymer – surface modification with ${a-C:N:H}$ layers plasma chemically deposited in RF CVD and MW CVD systems
Polymer – surface modification with ${a-C:N:H}$ layers plasma chemically deposited in RF CVD and MW CVD systems / Karol Przetakiewicz, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH, Piotr BOSZKOWICZ, Stanisława JONAS // Diffusion and Defect Data – Solid State Data. Part B, Solid State Phenomena ; ISSN 1012-0394. — 2010 vol. 165, s. 159–164. — Bibliogr. s. 164, Abstr.. — ISBN 3-908451-86-8 ; ISBN-13 978-3-908451-86-0. — Mechatronic sytem and materials: materials production technologies : 5th international conference MSM 2009 : Vilnius, Lithuania, 22–25 October 2009 / eds. Andrejus H. Marcinkevičius, Algirdas V. Valiulis. — Switzerland : Trans Tech Publications Ltd, cop. 2010. — tekst: http://www.scientific.net/SSP.165.159.pdf

5

Reakcje prowadzące do wzrostu warstw $a-SiN_{x}:H$ w układzie PE CVD
Reakcje prowadzące do wzrostu warstw $a-SiN_{x}:H$ w układzie PE CVD — Chemical reactions responsible for a growth of $a-SiN_{x}:H$ layers in PE CVD system / Piotr BOSZKOWICZ, Stanisława JONAS, Maria JURZECKA-SZYMACHA, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH // Inżynieria Materiałowa ; ISSN 0208-6247. — 2008 R. 29 nr 6, s. 776–779. — Bibliogr. s. 779, Streszcz., Abstr.. — INPO2008 : Inżynieria Powierzchni = Surface Engineering : Wisła–Jawornik, 2–5.XII.2008 / pod red. Leopolda Jeziorskiego, Zygmunta Nitkiewicza, Józefa Jasińskiego. — Katowice : Wydawnictwo SIGMA-NOT, 2008

6

Silicon nitride layers of various n-content: technology, properties and structure
Silicon nitride layers of various n-content: technology, properties and structure / Maria JURZECKA-SZYMACHA, Piotr BOSZKOWICZ, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH // Thin Solid Films ; ISSN 0040-6090. — 2011 vol. 520 iss. 4, s. 1308–1312. — Bibliogr. s. 1311–1312, Abstr.. — tekst: http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0040609011009989/pdfft?md5=ed106766c460c16d2069933f54abae52&pid=1-s2.0-S0040609011009989-main.pdf

7

Silicon nitride layers of various n-content: technology, properties and structure modelling
Silicon nitride layers of various n-content: technology, properties and structure modelling / Maria JURZECKA-SZYMACHA, Piotr BOSZKOWICZ, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH, Stanisława JONAS // W: ICCS15 [Dokument elektroniczny] : 15\textsuperscript{th} International conference on Composite Structures : Porto, Portugal, June 15–17, 2009. — Wersja do Windows. — Dane tekstowe. — [Portugal : s. l.], [2009]. — 1 dysk optyczny. — S. 1–3. — Wymagania systemowe: Adobe Reader ; napęd CD-ROM. — Bibliogr. s. 3, Summ.

8

Substrates Si for solar cells – a review
Substrates Si for solar cells – a review : [abstract] / P. BOSZKOWICZ, K. TKACZ-ŚMIECH, S. JONAS // W: TCM 2010 [Dokument elektroniczny] : 3rd international symposium on Transparent Conductive Materials (former TCO) : 17–21 October, 2010, Analipsi/ Herosonissos, Greece. — Wersja do Windows. — Dane tekstowe. — [s. l. : s. n.], [2010]. — 1 dysk Flash. — S. [1]. — Wymagania systemowe: Adobe Reader

9

The preparation and properties of amorphous-silicon layers (a-Si:H) for applications in photovoltaics
The preparation and properties of amorphous-silicon layers (a-Si:H) for applications in photovoltaics / Ewa PIECZYŃSKA, Piotr BOSZKOWICZ, Maria JURZECKA-SZYMACHA // W: VIII Krakow conference of young scientists 2013 : Krakow, September 26–28, 2013 : book of abstracts / AGH University of Science and Technology in Krakow, Grupa Naukowa Pro Futuro. — Krakow : Agencja Reklamowo-Wydawnicza ”OSTOJA”, 2013. — (KKMU Symposia and Conferences ; no. 8). — Opis częśc. wg okł.. — ISBN: 978-83-62218-84-4. — S. 11

10

Warstwy a-C:N:H na polimerach osadzane w układzie PE CVD
Warstwy a-C:N:H na polimerach osadzane w układzie PE CVD — a-C:N:H layers deposited in PE CVD system on polymers / Stanisława JONAS, Anna MAŁEK, Jadwiga KONEFAŁ, Piotr BOSZKOWICZ // Inżynieria Materiałowa ; ISSN 0208-6247. — 2010 R. 31 nr 4, s. 997–1001. — Bibliogr. s. 1001

11

Warstwy a-SiNx:H o różnej zawartości azotu osadzane w układzie PECVD
Warstwy a-SiNx:H o różnej zawartości azotu osadzane w układzie PECVD — a-SiNx:H layers of various nitrogen content deposited with PECVD / Katarzyna TKACZ-ŚMIECH, Piotr BOSZKOWICZ, Stanisława KLUSKA, Maria JURZECKA-SZYMACHA // Inżynieria Materiałowa ; ISSN 0208-6247. — 2010 R. 31 nr 4, s. 1260–1264. — Bibliogr. s. 1264