Wykaz publikacji wybranego autora

Karol Kyzioł, dr hab. inż., prof. AGH

profesor nadzwyczajny

Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki
WIMiC-kfmp, Katedra Fizykochemii i Modelowania Procesów


  • 2018

    [dyscyplina 1] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria materiałowa


[poprzednia klasyfikacja] obszar nauk technicznych / dziedzina nauk technicznych / inżynieria materiałowa


Identyfikatory Autora Informacje o Autorze w systemach zewnętrznych

ORCID: 0000-0001-5414-952X orcid iD

ResearcherID: A-9055-2017

Scopus: 23492534700

PBN: 5e70920b878c28a04738efd0

OPI Nauka Polska

System Informacyjny AGH (SkOs)




1
  • Application of carbon-based gradient materials for the design of rail bumpers : [abstract] / P. Zakiewicz, P. PAĆKO, K. KOZŁOWSKA, T. UHL, K. KRYZIOŁ, J. Mizera // W: CIMTEC 2014 [Dokument elektroniczny] : 13th International Conference on Modern Materials and Technologies ; 6th Forum on New Materials : Montecatini Terme, Italy, June 8–19, 2014. — Wersja do Windows. — Dane tekstowe. — [Italy : s. n.], [2014]. — 1 ekran. — Tryb dostępu: http://www.cimtec-congress.org/abstracts_fk_-_5th_international_conference [2014-07-03]

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

2
3
4
  • Influence of plasmochemical modification of Al-Cu-Mg alloys on surface structure and functional properties / K. KYZIOŁ, M. Mędala, Ł. Kaczmarek // W: Engineering, computer science and education, 2014 : 8\textsuperscript{th} international conference : [5-7. 11. 2014 Bialka Tatrzanska] : the book of abstracts. — Krakow : Metallurgy and Foundry Commission Polish Academy of Sciences, Krakow ; Institute of Technology, Pedagogical University of Krakow, cop. 2014. — S. 13

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

5
  • Kinetyka wzrostu warstw w procesie RFCVDLayer growth kinetics in the RFCVD process / Stanisława JONAS, Janusz Jaglarz, Karol KYZIOŁ, Marta JANUŚ, Elżbieta Murawska // Inżynieria Materiałowa ; ISSN 0208-6247. — 2014 R. 35 nr 6, s. 492–495. — Bibliogr. s. 495, Streszcz., Abstr.

  • słowa kluczowe: metoda RFCVD, warstwy Si3N4, a-C:H, szybkosć wzrostu, centra aktywne

    keywords: a-C:H, growth rate, active centers, layers Si3N4, RFCVD method

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

6
  • Plasma assisted chemical vapour deposition – technological design of functional coatings / Marta JANUŚ, Stanisława KLUSKA, Karol KYZIOŁ, Stanisława JONAS // W: ICPMAT2014 : 9th international conference on the Physical properties and application of advanced materials : 14–18 September 2014, Krakow, Poland : programme and abstracts / ed. K. Przybylski ; AGH University of Science and Technology. — [Kraków : AGH], [2014]. — Opis częśc. wg okł.. — S. 35

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

7