Wykaz publikacji wybranego autora

Katarzyna Tkacz-Śmiech, dr hab. inż., prof. AGH

profesor nadzwyczajny

Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki
WIMiC-kfmp, Katedra Fizykochemii i Modelowania Procesów


  • 2018

    [dyscyplina 1] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria materiałowa


[poprzednia klasyfikacja] obszar nauk technicznych / dziedzina nauk technicznych / inżynieria materiałowa


Identyfikatory Autora Informacje o Autorze w systemach zewnętrznych

ORCID: 0000-0002-5871-7720 połącz konto z ORCID

ResearcherID: brak

Scopus: 6603142751

PBN: 5e70920b878c28a04738f012

OPI Nauka Polska




1
2
  • Badanie mechanizmu plazmochemicznej syntezy warstw typu ${a-C:N:H}$Investigations of the mechanism of plasma-chemical deposition of ${a-C:N:H}$ layers / Katarzyna TKACZ-ŚMIECH, Karol KYZIOŁ, Andrzej KOLEŻYŃSKI, Stanisława JONAS // W: Postępy technologii ceramiki, szkła i budowlanych materiałów wiążących : materiały VI konferencji Polskiego Towarzystwa Ceramicznego pod patronatem Prof. dr hab. inż. Krzysztofa J. Kurzydłowskiego Podsekretarza Stanu w Ministerstwie Nauki i Szkolnictwa Wyższego : Zakopane 2007, [T. 1] = Advances in the technology of ceramic, glass and mineral binding materials / pod red. M. M. Bućko, K. Haberko, Z. Pędzich. — Kraków : Polskie Towarzystwo Ceramiczne, 2008. — (Polski Biuletyn Ceramiczny / Polskie Towarzystwo Ceramiczne) ; (Prace Komisji Nauk Ceramicznych / Polska Akademia Nauk. Oddział w Krakowie ; vol. 103/1. Ceramika ; ISSN 0860-3340). — Opis częśc. wg okł.. — S. 609–616. — Bibliogr. s. 616

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

3
  • Gradientowe warstwy $a-SiN_{x}:H$ osadzane plazmochemicznie w układzie Rf CVDGradient $a-SiN_{x}:H$ layers plasma chemically deposited in RF CVD system / Maria JURZECKA-SZYMACHA, Stanisława KLUSKA, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH // Inżynieria Materiałowa ; ISSN 0208-6247. — 2008 R. 29 nr 6, s. 768–771. — Bibliogr. s. 771, Streszcz., Abstr.. — INPO2008 : Inżynieria Powierzchni = Surface Engineering : Wisła–Jawornik, 2–5.XII.2008 / pod red. Leopolda Jeziorskiego, Zygmunta Nitkiewicza, Józefa Jasińskiego. — Katowice : Wydawnictwo SIGMA-NOT, 2008

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

4
  • Kinetyka wzrostu warstw $a-C:N:H$ w układzie RF CVDThe kinetics of $a-C:N:H$ layers growth in RF CVD system / Anna Kaczmarczyk, Karol KYZIOŁ, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH, Stanisława JONAS // Inżynieria Materiałowa ; ISSN 0208-6247. — 2008 R. 29 nr 6, s. 745–748. — Bibliogr. s. 748, Streszcz., Abstr.. — INPO2008 : Inżynieria Powierzchni = Surface Engineering : Wisła–Jawornik, 2–5.XII.2008 / pod red. Leopolda Jeziorskiego, Zygmunta Nitkiewicza, Józefa Jasińskiego. — Katowice : Wydawnictwo SIGMA-NOT, 2008

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

5
  • Modelowanie struktury atomowej warstw ${a-C:N:H}$ otrzymywanych w warunkach plazmochemicznychModeling the atomic structure of ${a-C:N:H}$ layers deposited at plasma chemical conditions / Andrzej KOLEŻYŃSKI, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH, Stanisława JONAS, Karol KYZIOŁ // W: Postępy technologii ceramiki, szkła i budowlanych materiałów wiążących : materiały VI konferencji Polskiego Towarzystwa Ceramicznego pod patronatem Prof. dr hab. inż. Krzysztofa J. Kurzydłowskiego Podsekretarza Stanu w Ministerstwie Nauki i Szkolnictwa Wyższego : Zakopane 2007, [T. 1] = Advances in the technology of ceramic, glass and mineral binding materials / pod red. M. M. Bućko, K. Haberko, Z. Pędzich. — Kraków : Polskie Towarzystwo Ceramiczne, 2008. — (Polski Biuletyn Ceramiczny / Polskie Towarzystwo Ceramiczne) ; (Prace Komisji Nauk Ceramicznych / Polska Akademia Nauk. Oddział w Krakowie ; vol. 103/1. Ceramika ; ISSN 0860-3340). — Opis częśc. wg okł.. — S. 57–64. — Bibliogr. s. 64

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

6
  • Osadzanie warstw w warunkach plazmy: zarodkowanie czy polimeryzacja?Plasma-chemical deposition: nucleation or polimerisation? / Katarzyna TKACZ-ŚMIECH, Stanisława JONAS, Piotr BOSZKOWICZ // Inżynieria Materiałowa ; ISSN 0208-6247. — 2008 R. 29 nr 6, s. 764–767. — Bibliogr. s. 767, Streszcz., Abstr.. — INPO2008 : Inżynieria Powierzchni = Surface Engineering : Wisła–Jawornik, 2–5.XII.2008 / pod red. Leopolda Jeziorskiego, Zygmunta Nitkiewicza, Józefa Jasińskiego. — Katowice : Wydawnictwo SIGMA-NOT, 2008

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

7
  • Otrzymywanie, budowa i właściwości wybranych, synergicznych układów warstwa–podłożePreparation, structure and properties of some synergic layer–substrate systems / Stanisława JONAS, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH, Marta JANUŚ, Barbara STYPUŁA // W: Postępy technologii ceramiki, szkła i budowlanych materiałów wiążących : materiały VI konferencji Polskiego Towarzystwa Ceramicznego pod patronatem Prof. dr hab. inż. Krzysztofa J. Kurzydłowskiego Podsekretarza Stanu w Ministerstwie Nauki i Szkolnictwa Wyższego : Zakopane 2007, [T. 1] = Advances in the technology of ceramic, glass and mineral binding materials / pod red. M. M. Bućko, K. Haberko, Z. Pędzich. — Kraków : Polskie Towarzystwo Ceramiczne, 2008. — (Polski Biuletyn Ceramiczny / Polskie Towarzystwo Ceramiczne) ; (Prace Komisji Nauk Ceramicznych / Polska Akademia Nauk. Oddział w Krakowie ; vol. 103/1. Ceramika ; ISSN 0860-3340). — Opis częśc. wg okł.. — S. 601–608. — Bibliogr. s. 608

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

8
  • Reakcje prowadzące do wzrostu warstw $a-SiN_{x}:H$ w układzie PE CVDChemical reactions responsible for a growth of $a-SiN_{x}:H$ layers in PE CVD system / Piotr BOSZKOWICZ, Stanisława JONAS, Maria JURZECKA-SZYMACHA, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH // Inżynieria Materiałowa ; ISSN 0208-6247. — 2008 R. 29 nr 6, s. 776–779. — Bibliogr. s. 779, Streszcz., Abstr.. — INPO2008 : Inżynieria Powierzchni = Surface Engineering : Wisła–Jawornik, 2–5.XII.2008 / pod red. Leopolda Jeziorskiego, Zygmunta Nitkiewicza, Józefa Jasińskiego. — Katowice : Wydawnictwo SIGMA-NOT, 2008

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

9
  • Wpływ parametrów procesu RF CVD na stabilność warstw ${a-C:N:H}$Influence of RF CVD processing parameters on stability of ${a-C:N:H}$ layers / Karol KYZIOŁ, Stanisława JONAS, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH, Rafał M. NOWAK, Maria JURZECKA // W: Postępy technologii ceramiki, szkła i budowlanych materiałów wiążących : materiały VI konferencji Polskiego Towarzystwa Ceramicznego pod patronatem Prof. dr hab. inż. Krzysztofa J. Kurzydłowskiego Podsekretarza Stanu w Ministerstwie Nauki i Szkolnictwa Wyższego : Zakopane 2007, [T. 1] = Advances in the technology of ceramic, glass and mineral binding materials / pod red. M. M. Bućko, K. Haberko, Z. Pędzich. — Kraków : Polskie Towarzystwo Ceramiczne, 2008. — (Polski Biuletyn Ceramiczny / Polskie Towarzystwo Ceramiczne) ; (Prace Komisji Nauk Ceramicznych / Polska Akademia Nauk. Oddział w Krakowie ; vol. 103/1. Ceramika ; ISSN 0860-3340). — Opis częśc. wg okł.. — S. 623–630. — Bibliogr. s. 629–630

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu: