Wykaz publikacji wybranego autora

Katarzyna Tkacz-Śmiech, dr hab. inż., prof. AGH

profesor nadzwyczajny

Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki
WIMiC-kfmp, Katedra Fizykochemii i Modelowania Procesów

  • 2018

    [dyscyplina 1] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria materiałowa

[poprzednia klasyfikacja] obszar nauk technicznych / dziedzina nauk technicznych / inżynieria materiałowa

Identyfikatory Autora Informacje o Autorze w systemach zewnętrznych

ORCID: 0000-0002-5871-7720 połącz konto z ORCID

ResearcherID: brak

Scopus: 6603142751

PBN: 5e70920b878c28a04738f012

OPI Nauka Polska

1
2

  • Gradientowe warstwy $a-SiN_{x}:H$ osadzane plazmochemicznie w układzie Rf CVD — Gradient $a-SiN_{x}:H$ layers plasma chemically deposited in RF CVD system / Maria JURZECKA-SZYMACHA, Stanisława KLUSKA, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH // Inżynieria Materiałowa ; ISSN 0208-6247. — 2008 R. 29 nr 6, s. 768–771. — Bibliogr. s. 771, Streszcz., Abstr.. — INPO2008 : Inżynieria Powierzchni = Surface Engineering : Wisła–Jawornik, 2–5.XII.2008 / pod red. Leopolda Jeziorskiego, Zygmunta Nitkiewicza, Józefa Jasińskiego. — Katowice : Wydawnictwo SIGMA-NOT, 2008

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    Zobacz pełny wykaz publikacji Autora/Autorów: Stanisława Kluska, Maria Jurzecka-Szymacha

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

3

  • Kinetyka wzrostu warstw $a-C:N:H$ w układzie RF CVD — The kinetics of $a-C:N:H$ layers growth in RF CVD system / Anna Kaczmarczyk, Karol KYZIOŁ, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH, Stanisława JONAS // Inżynieria Materiałowa ; ISSN 0208-6247. — 2008 R. 29 nr 6, s. 745–748. — Bibliogr. s. 748, Streszcz., Abstr.. — INPO2008 : Inżynieria Powierzchni = Surface Engineering : Wisła–Jawornik, 2–5.XII.2008 / pod red. Leopolda Jeziorskiego, Zygmunta Nitkiewicza, Józefa Jasińskiego. — Katowice : Wydawnictwo SIGMA-NOT, 2008

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    Zobacz pełny wykaz publikacji Autora/Autorów: Stanisława Dalczyńska-Jonas, Karol Kyzioł

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

4

  • Osadzanie warstw w warunkach plazmy: zarodkowanie czy polimeryzacja? — Plasma-chemical deposition: nucleation or polimerisation? / Katarzyna TKACZ-ŚMIECH, Stanisława JONAS, Piotr BOSZKOWICZ // Inżynieria Materiałowa ; ISSN 0208-6247. — 2008 R. 29 nr 6, s. 764–767. — Bibliogr. s. 767, Streszcz., Abstr.. — INPO2008 : Inżynieria Powierzchni = Surface Engineering : Wisła–Jawornik, 2–5.XII.2008 / pod red. Leopolda Jeziorskiego, Zygmunta Nitkiewicza, Józefa Jasińskiego. — Katowice : Wydawnictwo SIGMA-NOT, 2008

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    Zobacz pełny wykaz publikacji Autora/Autorów: Stanisława Dalczyńska-Jonas, Piotr Boszkowicz

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

5

  • Reakcje prowadzące do wzrostu warstw $a-SiN_{x}:H$ w układzie PE CVD — Chemical reactions responsible for a growth of $a-SiN_{x}:H$ layers in PE CVD system / Piotr BOSZKOWICZ, Stanisława JONAS, Maria JURZECKA-SZYMACHA, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH // Inżynieria Materiałowa ; ISSN 0208-6247. — 2008 R. 29 nr 6, s. 776–779. — Bibliogr. s. 779, Streszcz., Abstr.. — INPO2008 : Inżynieria Powierzchni = Surface Engineering : Wisła–Jawornik, 2–5.XII.2008 / pod red. Leopolda Jeziorskiego, Zygmunta Nitkiewicza, Józefa Jasińskiego. — Katowice : Wydawnictwo SIGMA-NOT, 2008

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    Zobacz pełny wykaz publikacji Autora/Autorów: Stanisława Dalczyńska-Jonas, Maria Jurzecka-Szymacha, Piotr Boszkowicz

    cyfrowy identyfikator dokumentu: