Wykaz publikacji wybranego autora

Katarzyna Tkacz-Śmiech, dr hab. inż., prof. AGH

profesor nadzwyczajny

Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki
WIMiC-kfmp, Katedra Fizykochemii i Modelowania Procesów


  • 2018

    [dyscyplina 1] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria materiałowa


[poprzednia klasyfikacja] obszar nauk technicznych / dziedzina nauk technicznych / inżynieria materiałowa


Identyfikatory Autora Informacje o Autorze w systemach zewnętrznych

ORCID: 0000-0002-5871-7720 połącz konto z ORCID

ResearcherID: brak

Scopus: 6603142751

PBN: 5e70920b878c28a04738f012

OPI Nauka Polska




1
  • Stability of $a-CN_{x}:H$ layers deposited by plasma enhanced CVD / Karol KYZIOŁ, Stanisława JONAS, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH // W: E-MRS 2006 fall meeting : Warsaw (Poland), 4th – 8th September, 2006 : scientific programme and book of abstracts / European Materials Research Society. — [Warsaw : Warsaw University of Technology], [2006]. — S. 35, Poster A/PII.07

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu: