Wykaz publikacji wybranego autora

Katarzyna Tkacz-Śmiech, dr hab. inż., prof. AGH

profesor nadzwyczajny

Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki
WIMiC-kfmp, Katedra Fizykochemii i Modelowania Procesów


  • 2018

    [dyscyplina 1] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria materiałowa


[poprzednia klasyfikacja] obszar nauk technicznych / dziedzina nauk technicznych / inżynieria materiałowa


Identyfikatory Autora Informacje o Autorze w systemach zewnętrznych

ORCID: 0000-0002-5871-7720 połącz konto z ORCID

ResearcherID: brak

Scopus: 6603142751

PBN: 5e70920b878c28a04738f012

OPI Nauka Polska




1
2
3
4
  • Aluminizing of nickel alloys by CVD : the effect of HCl flow / Bartek Wierzba, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH, Andrzej Nowotnik, Kamil Dychtoń // Chemical Vapor Deposition ; ISSN 0948-1907. — 2014 vol. 20 iss. 1-2-3, s. 80–90. — Bibliogr. s. 89–90

  • keywords: simulations, aluminization, CMSX-4, MAR-M200+Hf, two phase zone

    cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.1002/cvde.201307090

5
  • Amorphous carbon layers on polymeric substrates / R. M. NOWAK, S. JONAS, S. ZIMOWSKI, K. TKACZ-ŚMIECH // Journal of Achievements in Materials and Manufacturing Engineering ; ISSN 1734-8412. — 2007 vol. 25 iss. 1, s. 23–26. — Bibliogr. s. 26, Abstr.. — Publikacja dostępna online od: 2007-11-01. — tekst: http://jamme.acmsse.h2.pl/papers_vol25_1/2504.pdf

  • słowa kluczowe: tribologia, materiały amorficzne, PACVD, polimery konstrukcyjne, warstwy typu C:N:H

    keywords: tribology, amorphous materials, PA CVD, C:N:H layers, engineering polymers

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

6
7
8
9
10
11
12
13
14
15
  • Electrochemistry of symmetrical ion channel: a three-dimensional Nernst-Planck-Poisson model / B. BOŻEK, A. LEWENSTAM, K. TKACZ-ŚMIECH, M. DANIELEWSKI // ECS Transactions / The Electrochemical Society ; ISSN 1938-5862. — 2014 vol. 61 iss. 15, s. 11–20. — Bibliogr. s. 20. — W bazie Web of Science ISBN 978-1-60768-563-0. — 225th ECS meeting : May 11–15 2014, Orlando, FL

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.1149/06115.0011ecst

16
  • Electrochemistry of symmetrical ion channel: three-dimensional Nernst-Planck-Poisson model / B. BOŻEK, H. Leszczyński, K. TKACZ-ŚMIECH, M. DANIELEWSKI // Diffusion and Defect Data – Solid State Data. Part A, Defect and Diffusion Forum ; ISSN 1012-0386. — 2015 vol. 363, s. 68–78. — Bibliogr. s. 76–78, Abstr.. — DIMAT-2014 : international conference on Diffusion in Materials : August 17 to 22, 2014, Münster, Germany. — tekst: http://www.scientific.net/DDF.363.68.pdf

  • keywords: electrodiffusion, boundary conditions, nano channel, stationary solution

    cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.4028/www.scientific.net/DDF.353.68

17
  • Ewolucja strefy dwufazowej podczas dyfuzji wzajemnej w stopach potrójnychEvolution of two-phase zone during interdiffusion in ternary alloys / Katarzyna TKACZ-ŚMIECH, Bartłomiej WIERZBA, Andrzej Nawotnik, Marek DANIELEWSKI // Inżynieria Materiałowa ; ISSN 0208-6247. — 2013 R. 34 nr 6, s. 907–910. — Bibliogr. s. 910, Streszcz., Abstr.

  • słowa kluczowe: dyfuzja wzajemna, produkcja entropii, ścieżka dyfuzji

    keywords: diffusion path, interdiffusion, entropy production

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

18
  • From the molecular picture to the band structure of cubic and tetragonal barium titanate / Andrzej KOLEŻYŃSKI, Krystyna TKACZ-ŚMIECH // Ferroelectrics ; ISSN 0015-0193. — 2005 vol. 314, s. 123–134

  • keywords: barium titanate, FP-LAPW ab initio calculations, band structure, ferroelectric phase transition

    cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.1080/00150190590926300

19
  • Gradientowe warstwy $a-SiN_{x}:H$ osadzane plazmochemicznie w układzie Rf CVDGradient $a-SiN_{x}:H$ layers plasma chemically deposited in RF CVD system / Maria JURZECKA-SZYMACHA, Stanisława KLUSKA, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH // Inżynieria Materiałowa ; ISSN 0208-6247. — 2008 R. 29 nr 6, s. 768–771. — Bibliogr. s. 771, Streszcz., Abstr.. — INPO2008 : Inżynieria Powierzchni = Surface Engineering : Wisła–Jawornik, 2–5.XII.2008 / pod red. Leopolda Jeziorskiego, Zygmunta Nitkiewicza, Józefa Jasińskiego. — Katowice : Wydawnictwo SIGMA-NOT, 2008

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

20
21
22
23
  • Kinetyka wzrostu warstw $a-C:N:H$ w układzie RF CVDThe kinetics of $a-C:N:H$ layers growth in RF CVD system / Anna Kaczmarczyk, Karol KYZIOŁ, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH, Stanisława JONAS // Inżynieria Materiałowa ; ISSN 0208-6247. — 2008 R. 29 nr 6, s. 745–748. — Bibliogr. s. 748, Streszcz., Abstr.. — INPO2008 : Inżynieria Powierzchni = Surface Engineering : Wisła–Jawornik, 2–5.XII.2008 / pod red. Leopolda Jeziorskiego, Zygmunta Nitkiewicza, Józefa Jasińskiego. — Katowice : Wydawnictwo SIGMA-NOT, 2008

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

24
25