Wykaz publikacji wybranego autora

Stanisława Kluska, dr hab. inż., prof. AGH

profesor nadzwyczajny

Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki
WIMiC-kfmp, Katedra Fizykochemii i Modelowania Procesów


  • 2020

    [dyscyplina 1] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria materiałowa


  • 2018

    [dyscyplina 1] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria materiałowa

    [dyscyplina 2] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria chemiczna (25%)


[poprzednia klasyfikacja] obszar nauk technicznych / dziedzina nauk technicznych / inżynieria materiałowa


Identyfikatory Autora Informacje o Autorze w systemach zewnętrznych

ORCID: 0000-0002-1676-6639 orcid iD

ResearcherID: brak

Scopus: 6506547400

PBN: 5e70920b878c28a04738efc6

OPI Nauka Polska

System Informacyjny AGH (SkOs)



Statystyka obejmuje publikacje afiliowane AGH od 2008 roku włącznie

typ publikacji
rocznikl. publ.książkifragm.referatyartykułypatentymapyred. czas.inne
ogółem952234552
202322
2022413
202111
202022
201911
201811
201711
20166123
2015734
2014523
20131147
201210154
2011651
2010734
2008624
200744
2006413
2005321
2004321
20033111
2002211
20014121
2000211
język publikacji
rocznikrazempolskojęzyczneanglojęzycznepozostałe języki
ogółem9545446
202322
202244
202111
2020211
201911
201811
201711
2016624
2015725
201455
201311641
201210532
201166
20107313
2008633
2007431
2006422
2005321
2004312
2003321
2002211
200144
200022
kraj wydania
rocznikrazempubl. krajowepubl. zagraniczne
ogółem957223
2023211
2022413
202111
2020211
201911
201811
201711
2016624
201577
2014514
201311101
20121010
201166
2010761
2008651
200744
200644
200533
2004312
2003321
2002211
200144
200022
Lista Filadelfijska
rocznikrazempubl. z LFpubl. pozostałe
ogółem952471
202322
2022431
202111
2020211
201911
201811
201711
2016633
2015716
2014532
201311110
20121010
201166
201077
2008624
200744
2006413
200533
2004321
2003312
2002211
200144
200022
punktacja MNiSW
rocznikrazempubl. z pkt. MNiSWpubl. pozostałe
ogółem954946
202322
2022431
202111
202022
201911
201811
201711
2016651
2015734
2014532
20131165
20121064
201166
2010743
200866
200744
200644
200533
200433
200333
200222
200144
200022
publikacje recenzowane
rocznikrazempubl. recenzowanepubl. nierecenzowane
ogółem956035
202322
2022431
202111
2020211
201911
201811
201711
2016651
2015734
2014532
20131174
20121064
201166
2010743
200866
200744
2006431
2005312
2004321
2003312
2002211
2001413
2000211



1
2
3
  • [referat, 2007]
  • TytułAmorficzne warstwy azotku krzemu ${a-Si_{x}N_{y}:H}$ na polikrystalicznym krzemie
    AutorzyMaria JURZECKA, Stanisława JONAS, Stanisława KLUSKA, Rafał M. NOWAK, Karol KYZIOŁ
    ŹródłoVI Konferencja Polskiego Towarzystwa Ceramicznego : Zakopane 13–16 września 2007 r. : streszczenia, program / red. z. Zbigniew Pędzich ; Polskie Towarzystwo Ceramiczne. — Kraków : PTC, cop. 2007. — S. 135
  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

4
  • [referat, 2008]
  • TytułAmorphous ${a-Si_{x}N_{y}:H}$ layers on polycrystalline silicon
    AutorzyMaria JURZECKA, Stanisława JONAS, Stanisława KLUSKA, Rafał M. NOWAK, Karol KYZIOŁ
    ŹródłoPostępy technologii ceramiki, szkła i budowlanych materiałów wiążących : materiały VI konferencji Polskiego Towarzystwa Ceramicznego pod patronatem Prof. dr hab. inż. Krzysztofa J. Kurzydłowskiego Podsekretarza Stanu w Ministerstwie Nauki i Szkolnictwa Wyższego : Zakopane 2007, [T. 1] / pod red. M. M. Bućko, K. Haberko, Z. Pędzich. — Kraków : Polskie Towarzystwo Ceramiczne, 2008. — S. 631–637
  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

5
  • [referat, 2006]
  • TytułAmorphous $a-Si_{x}N_{y}:H$ layers on silicon substrate for application in solar cells
    AutorzyMaria JURZECKA, Stanisława JONAS, Stanisława KLUSKA
    ŹródłoE-MRS 2006 fall meeting : Warsaw (Poland), 4th – 8th September, 2006 : scientific programme and book of abstracts / European Materials Research Society. — [Warsaw : Warsaw University of Technology], [2006]. — S. 38, Poster A/PII.11
  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

6
  • [artykuł w czasopiśmie, 2020]
  • TytułAntyrefleksyjne materiały warstwowe do zastosowań w fotowoltaice
    AutorzyStanisława KLUSKA, Karol KYZIOŁ
    ŹródłoNauczanie Przedmiotów Przyrodniczych. — 2020 nr 72, s. 21–25
  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

7
  • [referat, 2005]
  • TytułApplication of silicon nitride for silicon solar cells
    AutorzyMarek Lipiński, Paweł Zięba, Piotr Panek, Stanisława JONAS, Stanisława KLUSKA, Halina CZTERNASTEK, Adam Szyszka, Bogdan Paszkiewicz
    ŹródłoIMAPS Poland : XXIX international conference of International Microelectronics and Packaging Society Poland Chapter : Koszalin – Darłówko 18–21 September 2005 : proceedings / eds. Piotr Majchrzak [et al.] ; International Microelectronics and Packaging Society. Poland Chapter. — [Poland] : IMAPS. Poland Chapter, 2005. — S. 203–206
  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

8
  • [referat, 2016]
  • Tytuł$a-SiC_{x}N_{y}:H$ thin films for applications in solar cells as passivation and antireflective coatings
    AutorzyBarbara SWATOWSKA, Stanisława KLUSKA, Gabriela Lewińska, Julia Golańska, Tomasz STAPIŃSKI
    ŹródłoElectron technology conference 2016 : 11–14 September 2016, Wisła, Poland / eds. Barbara Swatowska, [et al.]. — USA : Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers, cop. 2016. — S. 101751C-1–101751C-7
  • keywords: solar cells, spectroscopic ellipsometry, amorphous thin films a-SiCxNy:H, structural and optical properties

    cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.1117/12.2263801

9
  • [referat, 2013]
  • TytułBioactive nano-silica coatings by EPD
    AutorzyAmanda Bartkowiak, Marta BŁAŻEWICZ, Elżbieta DŁUGOŃ, Stanisława KLUSKA
    ŹródłoInnovative technologies in biomedicine : the 1st international conference : October 15–16, 2013, Krakow, Poland : programme. — [Krakow : s. n.], [2013]. — S. 41–42
  • keywords: EPD, bioactive coatings, nano silica coatings

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

10
  • [referat, 2003]
  • TytułBudowa i właściwości warstw $SiC_{x}N_{y}$ otrzymywanych w procesie RFCVD
    AutorzyStanisława KLUSKA, Stanisława JONAS, Wiesław S. PTAK, Edward WALASEK
    ŹródłoPostępy technologii ceramiki, szkła i budowlanych materiałów wiążących : materiały IV konferencji ceramicznej : Zakopane [25–28 września] 2003 / pod red. Z. Pędzicha, K. Haberki ; PAN – Oddział w Krakowie, PTC. — Kraków : PTC, 2003. — S. 751–756
  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

11
12
13
14
15
16
  • [artykuł w czasopiśmie, 2015]
  • TytułEffects of plasma-assisted CVD surface modification of the Crofer 22APU steel on its selected physicochemical properties
    AutorzyMarta JANUŚ, Stanisława KLUSKA, Michał BOBRUK, Tomasz BRYLEWSKI, Witold JASTRZĘBSKI, Sławomir ZIMOWSKI, Zbigniew GRZESIK
    ŹródłoOchrona przed Korozją. — 2015 R. 58 nr 11, s. 418–422
  • słowa kluczowe: modyfikacja powierzchni, interkonektor, azotowanie, SOFC, SiCNH, PA MW CVD, ogniwo paliwowe

    keywords: interconnect, SOFC, surface modification, nitriding, SiCNH, PA MW CVD

    cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.15199/40.2015.11.13

17
18
19
  • [referat w czasopiśmie, 2006]
  • TytułGraded ${SiO_{x}N_{y}}$ layers as antireflection coatings for solar cells application
    AutorzyM. Lipiński, S. KLUSKA, H. CZTERNASTEK, P. Zięba
    ŹródłoMaterials Science (Poland) / Wrocław University of Technology. Centre of Advanced Materials and Nanotechnology. — 2006 vol. 24 no. 4, s. 1009–1016
  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

20
  • [referat w czasopiśmie, 2008]
  • TytułGradientowe warstwy $a-SiN_{x}:H$ osadzane plazmochemicznie w układzie Rf CVD
    AutorzyMaria JURZECKA-SZYMACHA, Stanisława KLUSKA, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH
    ŹródłoInżynieria Materiałowa. — 2008 R. 29 nr 6, s. 768–771
  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

21
22
23
  • [referat, 2015]
  • TytułInfluence of the $SiN_{x}:H$ layer deposited by PECVD technique on the surface and grain boundary passivation of mc-Si
    AutorzyS. KLUSKA, P. Panek
    ŹródłoIMAPS Poland 2015 [Dokument elektroniczny] : 39th International Microelectronics and Packaging conference : Gdańsk, 20–23 September, 2015. — [Gdańsk : s. n.], [2015]. — S. [1–9]
  • keywords: PECVD, hydrogenated silicon nitride, passivation effect, multi-crystalline silicon, mc-Si

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

24
  • [referat w czasopiśmie, 2016]
  • TytułInfluence of the SiNx:H layer deposited by PECVD technique on the surface and grain boundary passivation of mc-Si
    AutorzyStanisława KLUSKA, Piotr Panek
    ŹródłoMicroelectronics International. — 2016 vol. 33 iss. 3, s. 162–166
  • keywords: thick/thin film technology, PECVD, hydrogenated silicon nitride, passivation effect, multi-crystalline silicon, mc-Si

    cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.1108/MI-03-2016-0026

25
  • [referat, 2005]
  • TytułKrzemowe polikrystaliczne ogniwa słoneczne z warstwą antyrefleksyjną z azotku krzemu
    AutorzyMarek Lipiński, Paweł Zięba, Piotr Panek, Stanisława JONAS, Stanisława KLUSKA, Mariusz SOKOŁOWSKI, Halina CZTERNASTEK
    ŹródłoELTE 2004 : VIII konferencja naukowa „Technologia elektronowa” : Stare Jabłonki, 19–22. 04. 2004 : materiały konferencyjne / red. nauk. Agnieszka Mossakowska-Wyszyńska. — Aleksandrów Łódzki : CMYK Studio Poligrafii i Reklamy, 2005. — S. 559–562
  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu: