Wykaz publikacji wybranego autora

Stanisława Kluska, dr hab. inż.

adiunkt

Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki
WIMiC-kfmp, Katedra Fizykochemii i Modelowania Procesów

[dyscyplina wiodąca] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria materiałowa

[dyscyplina dodatkowa] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria chemiczna (25%)


[poprzednia klasyfikacja] obszar nauk technicznych / dziedzina nauk technicznych / inżynieria materiałowa


Identyfikatory Autora Informacje o Autorze w systemach zewnętrznych

ORCID: 0000-0002-1676-6639

ResearcherID: brak

Scopus: 6506547400

PBN: 901070

OPI Nauka Polska

System Informacyjny AGH (SkOs)




Opisy publikacji wcześniejszych zobacz: bpp.agh.edu.pl/old.


Liczba pozycji spełniających powyższe kryteria selekcji: 80, z ogólnej liczby 80 publikacji Autora


1
2
3
  • Amorficzne warstwy azotku krzemu ${a-Si_{x}N_{y}:H}$ na polikrystalicznym krzemie
4
  • Amorphous ${a-Si_{x}N_{y}:H}$ layers on polycrystalline silicon
5
  • Amorphous $a-Si_{x}N_{y}:H$ layers on silicon substrate for application in solar cells
6
  • Application of silicon nitride for silicon solar cells
7
  • $a-SiC_{x}N_{y}:H$ thin films for applications in solar cells as passivation and antireflective coatings
8
  • Bioactive nano-silica coatings by EPD
9
  • Budowa i właściwości warstw $SiC_{x}N_{y}$ otrzymywanych w procesie RFCVD
10
  • Budowa i właściwości warstw typu $a-SiC_{x}N_{y}$
11
12
  • Chemical vapour infiltration of SiC in porous graphite materials
13
  • Effects of plasma-assisted CVD surface modification of the Crofer 22APU steel on its selected physicochemical properties
14
  • Effect of surface titanium modification on interaction with graphene oxide coatings
15
16
  • Graded ${SiO_{x}N_{y}}$ layers as antireflection coatings for solar cells application
17
  • Gradientowe warstwy $a-SiN_{x}:H$ osadzane plazmochemicznie w układzie Rf CVD
18
  • Infiltracja porowatych materiałów metodą CVI
19
20
  • Influence of the $SiN_{x}:H$ layer deposited by PECVD technique on the surface and grain boundary passivation of mc-Si
21
  • Influence of the SiNx:H layer deposited by PECVD technique on the surface and grain boundary passivation of mc-Si
22
  • Krzemowe polikrystaliczne ogniwa słoneczne z warstwą antyrefleksyjną z azotku krzemu
23
  • Materiały węglowo-grafitowe modyfikowane węglikiem krzemu
24
  • Modyfikacja mikrostruktury materiałów węglowo-grafitowych metodą PCVI
25
  • Modyfikacja mikrostruktury metodą CVD wybranych wyrobów ogniotrwałych