Wykaz publikacji wybranego autora

Stanisława Kluska, dr hab. inż., prof. AGH

profesor nadzwyczajny

Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki
WIMiC-kfmp, Katedra Fizykochemii i Modelowania Procesów


  • 2020

    [dyscyplina 1] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria materiałowa


  • 2018

    [dyscyplina 1] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria materiałowa

    [dyscyplina 2] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria chemiczna (25%)


[poprzednia klasyfikacja] obszar nauk technicznych / dziedzina nauk technicznych / inżynieria materiałowa


Identyfikatory Autora Informacje o Autorze w systemach zewnętrznych

ORCID: 0000-0002-1676-6639 orcid iD

ResearcherID: brak

Scopus: 6506547400

PBN: 5e70920b878c28a04738efc6

OPI Nauka Polska

System Informacyjny AGH (SkOs)




1
  • $a-SiC_{x}N_{y}:H$ thin films for applications in solar cells as passivation and antireflective coatings / Barbara SWATOWSKA, Stanisława KLUSKA, Gabriela Lewińska, Julia Golańska, Tomasz STAPIŃSKI // W: Electron technology conference 2016 : 11–14 September 2016, Wisła, Poland / eds. Barbara Swatowska, [et al.]. — USA : Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers, cop. 2016. — (Proceedings of SPIE / The International Society for Optical Engineering ; ISSN 0277-786X ; vol. 10175). — ISBN: 9781510608436 ; e-ISBN: 9781510608443. — S. 101751C-1–101751C-7. — Bibliogr. s. 101751C-7, Abstr.. — G. Lewińska – afiliacja: Politechnika Krakowska

  • keywords: solar cells, spectroscopic ellipsometry, amorphous thin films a-SiCxNy:H, structural and optical properties

    cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.1117/12.2263801

2
  • Influence of the SiNx:H layer deposited by PECVD technique on the surface and grain boundary passivation of mc-Si / Stanisława KLUSKA, Piotr Panek // Microelectronics International ; ISSN 1356-5362. — 2016 vol. 33 iss. 3, s. 162–166. — Bibliogr. s. 165–166, Abstr.. — 39th International-Microelectronics-and-Packaging-Society Poland International Conference (IMAPS Poland)

  • keywords: thick/thin film technology, PECVD, hydrogenated silicon nitride, passivation effect, multi-crystalline silicon, mc-Si

    cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.1108/MI-03-2016-0026

3
  • Modyfikacja powierzchni wybranych materiałów metodami chemicznego osadzania fazy gazowejSurface modification of selected materials using chemical vapour deposition / Stanisława KLUSKA. — Kraków : Polskie Towarzystwo Ceramiczne, 2016. — 136 s.. — (Prace Komisji Nauk Ceramicznych / Polska Akademia Nauk. Oddział w Krakowie. Ceramika ; ISSN 0860-3340 ; vol. 121) ; (Polski Biuletyn Ceramiczny / Polskie Towarzystwo Ceramiczne). — Bibliogr. s. 121–135, Streszcz., Abstr.. — ISBN: 978-83-63663-83-4

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

4
  • Optical properties and passivation effects of silicon nitride three layer stacks deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition / S. KLUSKA, K. Hejduk, K. Drabczyk, M. Lipiński // Physica Status Solidi. A, Applications and Materials Science ; ISSN 1862-6300. — Tytuł poprz.: Physica Status Solidi. A, Applied Research ; ISSN: 0031-8965. — 2016 vol. 213 no. 7, s. 1839–1847. — Bibliogr. s. 1847. — Publikacja dostępna online od: 2016-05-03. — 26th International Conference of Amorphous and Nanocrystalline Semiconductors : Aachen, Germany, 2015. — tekst: https://goo.gl/pRBHH4

  • keywords: multi-layers, optical properties, silicon nitride, antireflection coatings, passivation, plasma enhanced chemical vapor deposition

    cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.1002/pssa.201532952

5
6
  • Warstwy antyrefleksyjne i pasywacyjne typu a-SiCN:H dla ogniw słonecznych[Antireflective and passivation amorphous coatings type a-SiCN:H for application in solar cells] / Barbara SWATOWSKA, Stanisława KLUSKA, Gabriela Lewińska, Julia Golańska, Tomasz STAPIŃSKI // W: ELTE'2016 : technologia elektronowa : XII konferencja naukowa : Wisła, 11–14 września 2016 : program konferencji. — [Polska : s. n.], [2016]. — S. 23. — Pełny tekst na dysku Flash. — S. [1–2]. — Wymagania systemowe: Adobe Reader. — Bibliogr. s. [2]. — Tyt. w wersji elektronicznej: Warstwy pasywacyjne i antyrefleksyjne typu a-SiCN:H dla ogniw słonecznych. — Afiliacja zamieszczona przy pełnym tekście, G. Lewińska – afiliacja: Politechnika Krakowska

  • słowa kluczowe: ogniwa słoneczne, optoelektronika, cienkie warstwy a-SiCN:H

    cyfrowy identyfikator dokumentu: