Wykaz publikacji wybranego autora

Stanisława Kluska, dr hab. inż., prof. AGH

profesor nadzwyczajny

Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki
WIMiC-kfmp, Katedra Fizykochemii i Modelowania Procesów

  • 2020

    [dyscyplina 1] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria materiałowa

  • 2018

    [dyscyplina 1] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria materiałowa

    [dyscyplina 2] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria chemiczna (25%)

[poprzednia klasyfikacja] obszar nauk technicznych / dziedzina nauk technicznych / inżynieria materiałowa

Identyfikatory Autora Informacje o Autorze w systemach zewnętrznych

ORCID: 0000-0002-1676-6639 orcid iD

ResearcherID: brak

Scopus: 6506547400

PBN: 5e70920b878c28a04738efc6

OPI Nauka Polska

System Informacyjny AGH (SkOs)

1

  • Effects of plasma-assisted CVD surface modification of the Crofer 22APU steel on its selected physicochemical properties — Wpływ modyfikacji powierzchni stali Crofer 22APU w procesie CVD wspomaganej plazmą na jego wybrane właściwości fizykochemiczne / Marta JANUŚ, Stanisława KLUSKA, Michał BOBRUK, Tomasz BRYLEWSKI, Witold JASTRZĘBSKI, Sławomir ZIMOWSKI, Zbigniew GRZESIK // Ochrona przed Korozją ; ISSN 0473-7733. — 2015 R. 58 nr 11, s. 418–422. — Bibliogr. s. 422

  • słowa kluczowe: modyfikacja powierzchni, interkonektor, azotowanie, SOFC, SiCNH, PA MW CVD, ogniwo paliwowe

    keywords: interconnect, SOFC, surface modification, nitriding, SiCNH, PA MW CVD

    cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.15199/40.2015.11.13

2

  • Influence of the $SiN_{x}:H$ layer deposited by PECVD technique on the surface and grain boundary passivation of mc-Si / S. KLUSKA, P. Panek // W: IMAPS Poland 2015 [Dokument elektroniczny] : 39th International Microelectronics and Packaging conference : Gdańsk, 20–23 September, 2015. — Wersja do Windows. — Dane tekstowe. — [Gdańsk : s. n.], [2015]. — Dysk Flash. — S. [1–9]. — Wymagania systemowe: Adobe Reader. — Bibliogr. s. [8–9], Abstr.

  • keywords: PECVD, hydrogenated silicon nitride, passivation effect, multi-crystalline silicon, mc-Si

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

3

  • On the correlation between the chemical composition of the amorphous $a-Si_{x}C_{y}N_{z}(H)$ layers deposited by PACVD and their band gap / Janusz Jaglarz, Maria JURZECKA-SZYMACHA, Stanisława KLUSKA, Tomasz STAPIŃSKI, Barbara SWATOWSKA, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH // W: SENM 2015 [Dokument elektroniczny] : Smart Engineering of New Materials : 22–25 June 2015 Lodz, Poland : abstract book. — Wersja do Windows. — Dane tekstowe. — [Lodz : s. n.], [2015]. — Dysk Flash. — S. [1]. — Wymagania systemowe: Adobe Reader

  • keywords: PACVD, band gap, spectroscopic ellipsometry, amorphous a-SixCyNz(H) layers, optical constants

    Zobacz pełny wykaz publikacji Autora/Autorów: Tomasz Stapiński, Katarzyna Tkacz-Śmiech, Barbara Swatowska, Maria Jurzecka-Szymacha

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

4

  • On the correlation between the chemical composition of the amrophous $a-Si_{x}C_{y}N_{z}(H)$ layers deposited by PACVD and their band gap / Stanisława KLUSKA, Janusz Jaglarz, Maria JURZECKA-SZYMACHA, Tomasz STAPIŃSKI, Barbara SWATOWSKA, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH // W: MicroTherm 2015 [Dokument elektroniczny] : Microtechnology and Thermal Problems in Electronics : June 23\textsuperscript{rd} – June 25\textsuperscript{th} 2015, Lodz, Poland : official proceedings / ed. Jacek Podgórski. — Wersja do Windows. — Dane tekstowe. — Lodz : Lodz University of Technology, cop. 2015. — Dysk Flash. — e-ISBN: 978-83-932197-3-5. — S. 31–35. — Wymagania systemowe: Adobe Reader. — Bibliogr. s. 34–35, Abstr.

  • keywords: PACVD, band gap, amorphous a-SixCyNz(H) layers, optical constants, specroscopic ellipsometry

    Zobacz pełny wykaz publikacji Autora/Autorów: Tomasz Stapiński, Katarzyna Tkacz-Śmiech, Barbara Swatowska, Maria Jurzecka-Szymacha

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

5

  • Plasma assisted chemical vapour deposition – technological design of functional coatings — Chemiczne osadzanie z fazy gazowej wspomagane plazmowo - projektowanie technologii funkcjonalnych powłok / M. JANUŚ, K. KYZIOŁ, S. KLUSKA, J. KONEFAŁ-GÓRAL, A. MAŁEK, S. JONAS // Archives of Metallurgy and Materials / Polish Academy of Sciences. Committee of Metallurgy. Institute of Metallurgy and Materials Science ; ISSN 1733-3490. — 2015 vol. 60 iss. 2A, s. 909–914. — Bibliogr. s. 914. — W bazie Web of Science oznaczenie issue: 2

  • keywords: aluminium alloys, titanium, ceramic coatings, polyetheretherketone, PA CVD

    cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.1515/amm-2015-0228