Wykaz publikacji wybranego autora

Stanisława Kluska, dr hab. inż., prof. AGH

profesor nadzwyczajny

Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki
WIMiC-kfmp, Katedra Fizykochemii i Modelowania Procesów

  • 2020

    [dyscyplina 1] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria materiałowa

  • 2018

    [dyscyplina 1] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria materiałowa

    [dyscyplina 2] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria chemiczna (25%)

[poprzednia klasyfikacja] obszar nauk technicznych / dziedzina nauk technicznych / inżynieria materiałowa

Identyfikatory Autora Informacje o Autorze w systemach zewnętrznych

ORCID: 0000-0002-1676-6639 orcid iD

ResearcherID: brak

Scopus: 6506547400

PBN: 5e70920b878c28a04738efc6

OPI Nauka Polska

System Informacyjny AGH (SkOs)

1
2
3
4

  • Chemical vapour infiltration of SiC in porous graphite materials / E. WALASEK, S. JONAS, T. STAPIŃSKI, S. KLUSKA, A. CZYŻEWSKA // Key Engineering Materials ; ISSN 1013-9826. — 2002 vols. 206–213, s. 567–570. — Bibliogr. s. 570, Abstr.. — ECRS seventh : Euro Ceramics VII : proceedings of the 7th conference & exhibition of the European Ceramic Society : Brugge, Belgium, September 9–13, 2001. Pt. 1 Sessions P1, P2, P3, G1. — Switzerland [et al.] : Trans Tech Publications, 2002

  • keywords: silicon carbide, pulse chemical vapour infiltration, porous graphite materials

    Zobacz pełny wykaz publikacji Autora/Autorów: Tomasz Stapiński, Stanisława Dalczyńska-Jonas, Edward Walasek, Alicja Czyżewska

    cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.4028/www.scientific.net/KEM.206-213.567

5
6
7

  • Graded ${SiO_{x}N_{y}}$ layers as antireflection coatings for solar cells application / M. Lipiński, S. KLUSKA, H. CZTERNASTEK, P. Zięba // Materials Science (Poland) / Wrocław University of Technology. Centre of Advanced Materials and Nanotechnology ; ISSN 0137-1339. — 2006 vol. 24 no. 4, s. 1009–1016. — Bibliogr. s. 1015–1016. — Intermolecular and magnetic interactions in matter : Nałęczów 8–10 September 2005 : conference / guest eds. Jan M. Olchowik, Wojciech Sadowski, Nikos Guskos ; Wrocław University of Technology. Centre of Advanced Materials and Nanotechnology. — [Wrocław] : Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej, 2006

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    Zobacz pełny wykaz publikacji Autora/Autorów: Halina Czternastek

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

8
9

  • Influence of the SiNx:H layer deposited by PECVD technique on the surface and grain boundary passivation of mc-Si / Stanisława KLUSKA, Piotr Panek // Microelectronics International ; ISSN 1356-5362. — 2016 vol. 33 iss. 3, s. 162–166. — Bibliogr. s. 165–166, Abstr.. — 39th International-Microelectronics-and-Packaging-Society Poland International Conference (IMAPS Poland)

  • keywords: thick/thin film technology, PECVD, hydrogenated silicon nitride, passivation effect, multi-crystalline silicon, mc-Si

    cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.1108/MI-03-2016-0026

10
11
12

  • Optical properties and passivation effects of silicon nitride three layer stacks deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition / S. KLUSKA, K. Hejduk, K. Drabczyk, M. Lipiński // Physica Status Solidi. A, Applications and Materials Science ; ISSN 1862-6300. — Tytuł poprz.: Physica Status Solidi. A, Applied Research ; ISSN: 0031-8965. — 2016 vol. 213 no. 7, s. 1839–1847. — Bibliogr. s. 1847. — Publikacja dostępna online od: 2016-05-03. — 26th International Conference of Amorphous and Nanocrystalline Semiconductors : Aachen, Germany, 2015. — tekst: https://goo.gl/pRBHH4

  • keywords: multi-layers, optical properties, silicon nitride, antireflection coatings, passivation, plasma enhanced chemical vapor deposition

    cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.1002/pssa.201532952

13

  • Optimisation of $SiN_{x}:H$ layer for multicrystalline silicon solar cells / M. Lipiński, P. Zięba, S. JONAS, S. KLUSKA, M. SOKOŁOWSKI, H. CZTERNASTEK // Opto-Electronics Review / Stowarzyszenie Elektryków Polskich, Wojskowa Akademia Techniczna. Warszawa ; ISSN 1230-3402. — 2004 vol. 12 no. 1, s. 41–44. — Bibliogr. s. 44, Abstr.. — XVII School of Optoelectronics : photovoltaics-solar cells and detector : 13.10-17.10.2003, Kazimierz Dolny, Poland. — tekst: http://www.wat.edu.pl/review/optor/12(1)41.pdf

  • keywords: silicon nitride, silicon solar cell, antireflection coating

    Zobacz pełny wykaz publikacji Autora/Autorów: Halina Czternastek, Mariusz Sokołowski, Stanisława Dalczyńska-Jonas

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

14
15

  • Plasma assisted chemical vapour deposition – technological design of functional coatings — Chemiczne osadzanie z fazy gazowej wspomagane plazmowo - projektowanie technologii funkcjonalnych powłok / M. JANUŚ, K. KYZIOŁ, S. KLUSKA, J. KONEFAŁ-GÓRAL, A. MAŁEK, S. JONAS // Archives of Metallurgy and Materials / Polish Academy of Sciences. Committee of Metallurgy. Institute of Metallurgy and Materials Science ; ISSN 1733-3490. — 2015 vol. 60 iss. 2A, s. 909–914. — Bibliogr. s. 914. — W bazie Web of Science oznaczenie issue: 2

  • keywords: aluminium alloys, titanium, ceramic coatings, polyetheretherketone, PA CVD

    cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.1515/amm-2015-0228

16
17

  • RF PE CVD deposition of amorphous a-$Si_{x}N_{y}:H$ layers for application in solar cells / Maria JURZECKA, Stanisława KLUSKA, Stanisława JONAS, Halina CZTERNASTEK, Katarzyna ZAKRZEWSKA // Vacuum : Surface Engineering, Surface Instrumentation & Vacuum Technology ; ISSN 0042-207X. — 2008 vol. 82 iss. 10 spec. iss., s. 1128–1132. — Bibliogr. s. 1132, Abstr.. — Publikacja dostępna online od: 2008-01-08. — Proceedings of the 9th Electron Technology conference ELTE 2007 : Cracow, 4–7 September 2007 / guest eds. Tadeusz Pisarkiewicz, Barbara Dziurdzia. — [Dorchester] : Elsevier, 2008. — Zastosowano procedurę peer review. — tekst: http://goo.gl/ZWJEX9

  • keywords: solar cells, optical properties, amorphous a-SixNy:H layers, RF CVD method

    cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.1016/j.vacuum.2008.01.030

18
19

  • Surface modification of polyetheretherketone by helium/nitrogen and nitrous oxide plasma enhanced chemical vapour deposition / Stanisława KLUSKA, Elżbieta PAMUŁA, Stanisława JONAS, Zbigniew GRZESIK // High Temperature Materials and Processes ; ISSN 0334-6455. — 2014 vol. 33 iss. 2, s. 147–153. — Bibliogr. s. 153, Abstr.

  • keywords: surface, properties, interface, characterization, plasma treatment, PEEK modification, thermoplastics

    Zobacz pełny wykaz publikacji Autora/Autorów: Zbigniew Grzesik, Elżbieta Pamuła, Stanisława Dalczyńska-Jonas

    cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.1515/htmp-2013-0022

20
21
22
23

  • The optical and thermo-optical properties of non-stoichiometric silicon nitride layers obtained by the PECVD method with varying levels of nitrogen content / Stanisława KLUSKA, Maria JURZECKA-SZYMACHA, Natalia Nosidlak, Piotr Dulian, Janusz Jaglarz // Materials [Dokument elektroniczny]. — Czasopismo elektroniczne ; ISSN 1996-1944. — 2022 vol. 15 iss. 6 art. no. 2260, s. 1-12. — Wymagania systemowe: Adobe Reader. — Bibliogr. s. 11-12, Abstr.. — Publikacja dostępna online od: 2022-03-18. — tekst: https://www.mdpi.com/1996-1944/15/6/2260/pdf

    orcid iD

  • keywords: spectroscopic ellipsometry, thermooptical properties, PECVD technique, amorphous SiNx:H layers

    Zobacz pełny wykaz publikacji Autora/Autorów: Maria Jurzecka-Szymacha

    cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.3390/ma15062260

24

  • Thermo-optical properties of high-refractive-index plasma-deposited hydrogenated amorphous silicon-rich nitride films on glass / Janusz Jaglarz, Maria JURZECKA-SZYMACHA, Stanisława KLUSKA, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH // Optical Materials Express [Dokument elektroniczny]. — Czasopismo elektroniczne ; ISSN 2159-3930. — 2020 vol. 10 no. 11, s. 2749-2756. — Wymagania systemowe: Adobe Reader. — Tryb dostępu: https://www.osapublishing.org/viewmedia.cfm?uri=ome-10-11-2749&seq=0 [2020-10-23]. — Bibliogr. s. 2755-2756, Abstr.. — Publikacja dostępna online od: 2020-10-09. — W bazie Web of Science zakres stron: 2741-2748

    orcid iD

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    Zobacz pełny wykaz publikacji Autora/Autorów: Katarzyna Tkacz-Śmiech, Maria Jurzecka-Szymacha

    cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.1364/OME.396150