Wykaz publikacji wybranego autora

Stanisława Kluska, dr hab. inż., prof. AGH

profesor nadzwyczajny

Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki
WIMiC-kfmp, Katedra Fizykochemii i Modelowania Procesów

  • 2020

    [dyscyplina 1] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria materiałowa

  • 2018

    [dyscyplina 1] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria materiałowa

    [dyscyplina 2] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria chemiczna (25%)

[poprzednia klasyfikacja] obszar nauk technicznych / dziedzina nauk technicznych / inżynieria materiałowa

Identyfikatory Autora Informacje o Autorze w systemach zewnętrznych

ORCID: 0000-0002-1676-6639 orcid iD

ResearcherID: brak

Scopus: 6506547400

PBN: 5e70920b878c28a04738efc6

OPI Nauka Polska

System Informacyjny AGH (SkOs)

1
2

  • $a-SiC_{x}N_{y}:H$ thin films for applications in solar cells as passivation and antireflective coatings / Barbara SWATOWSKA, Stanisława KLUSKA, Gabriela Lewińska, Julia Golańska, Tomasz STAPIŃSKI // W: Electron technology conference 2016 : 11–14 September 2016, Wisła, Poland / eds. Barbara Swatowska, [et al.]. — USA : Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers, cop. 2016. — (Proceedings of SPIE / The International Society for Optical Engineering ; ISSN 0277-786X ; vol. 10175). — ISBN: 9781510608436 ; e-ISBN: 9781510608443. — S. 101751C-1–101751C-7. — Bibliogr. s. 101751C-7, Abstr.. — G. Lewińska – afiliacja: Politechnika Krakowska

  • keywords: solar cells, spectroscopic ellipsometry, amorphous thin films a-SiCxNy:H, structural and optical properties

    Zobacz pełny wykaz publikacji Autora/Autorów: Tomasz Stapiński, Barbara Swatowska

    cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.1117/12.2263801

3
4

  • Chemical vapour infiltration of SiC in porous graphite materials / E. WALASEK, S. JONAS, T. STAPIŃSKI, S. KLUSKA, A. CZYŻEWSKA // Key Engineering Materials ; ISSN 1013-9826. — 2002 vols. 206–213, s. 567–570. — Bibliogr. s. 570, Abstr.. — ECRS seventh : Euro Ceramics VII : proceedings of the 7th conference & exhibition of the European Ceramic Society : Brugge, Belgium, September 9–13, 2001. Pt. 1 Sessions P1, P2, P3, G1. — Switzerland [et al.] : Trans Tech Publications, 2002

  • keywords: silicon carbide, pulse chemical vapour infiltration, porous graphite materials

    Zobacz pełny wykaz publikacji Autora/Autorów: Tomasz Stapiński, Stanisława Dalczyńska-Jonas, Edward Walasek, Alicja Czyżewska

    cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.4028/www.scientific.net/KEM.206-213.567

5
6
7
8

  • Influence of the SiNx:H layer deposited by PECVD technique on the surface and grain boundary passivation of mc-Si / Stanisława KLUSKA, Piotr Panek // Microelectronics International ; ISSN 1356-5362. — 2016 vol. 33 iss. 3, s. 162–166. — Bibliogr. s. 165–166, Abstr.. — 39th International-Microelectronics-and-Packaging-Society Poland International Conference (IMAPS Poland)

  • keywords: thick/thin film technology, PECVD, hydrogenated silicon nitride, passivation effect, multi-crystalline silicon, mc-Si

    cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.1108/MI-03-2016-0026

9

  • Molecular tailoring of carbon coatings for medical applications monitored by Raman spectroscopy / Wesełucha-Birczyńska A., DŁUGOŃ E., KLUSKA S., Myćka A., Płachta Ł., Pyryt K., BŁAŻEWICZ M. // W: XXIV ICORS [Dokument elektroniczny] : XXIV International Conference on Raman Spectroscopy at the Friedrich Schiller University Jena, Germany : August 10–15, 2014 : conference proceedings / eds. Jürgen Popp, Volker Deckert. — Wersja do Winsows. — Dane tekstowe. — [Leibniz] : Leibniz-Institute Photonic Technology (IPHT), cop. 2014. — Dysk Flash. — S. [1–2]. — Wymagania systemowe: Adobe Reader. — Bibliogr. s. [2]. — Abstract W: XXIV. ICORS : XXIV. International Conference on Raman Spectroscopy : Jena, Germany, August 10–15, 2014. — [Germany : s. n., 2014]. — S. 63

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    Zobacz pełny wykaz publikacji Autora/Autorów: Marta Błażewicz, Elżbieta Długoń

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

10
11
12

  • Optical properties and passivation effects of silicon nitride three layer stacks deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition / S. KLUSKA, K. Hejduk, K. Drabczyk, M. Lipiński // Physica Status Solidi. A, Applications and Materials Science ; ISSN 1862-6300. — Tytuł poprz.: Physica Status Solidi. A, Applied Research ; ISSN: 0031-8965. — 2016 vol. 213 no. 7, s. 1839–1847. — Bibliogr. s. 1847. — Publikacja dostępna online od: 2016-05-03. — 26th International Conference of Amorphous and Nanocrystalline Semiconductors : Aachen, Germany, 2015. — tekst: https://goo.gl/pRBHH4

  • keywords: multi-layers, optical properties, silicon nitride, antireflection coatings, passivation, plasma enhanced chemical vapor deposition

    cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.1002/pssa.201532952

13

  • Optimisation of $SiN_{x}:H$ layer for multicrystalline silicon solar cells / M. Lipiński, P. Zięba, S. JONAS, S. KLUSKA, M. SOKOŁOWSKI, H. CZTERNASTEK // Opto-Electronics Review / Stowarzyszenie Elektryków Polskich, Wojskowa Akademia Techniczna. Warszawa ; ISSN 1230-3402. — 2004 vol. 12 no. 1, s. 41–44. — Bibliogr. s. 44, Abstr.. — XVII School of Optoelectronics : photovoltaics-solar cells and detector : 13.10-17.10.2003, Kazimierz Dolny, Poland. — tekst: http://www.wat.edu.pl/review/optor/12(1)41.pdf

  • keywords: silicon nitride, silicon solar cell, antireflection coating

    Zobacz pełny wykaz publikacji Autora/Autorów: Halina Czternastek, Mariusz Sokołowski, Stanisława Dalczyńska-Jonas

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

14
15

  • RF PE CVD deposition of amorphous a-$Si_{x}N_{y}:H$ layers for application in solar cells / Maria JURZECKA, Stanisława KLUSKA, Stanisława JONAS, Halina CZTERNASTEK, Katarzyna ZAKRZEWSKA // Vacuum : Surface Engineering, Surface Instrumentation & Vacuum Technology ; ISSN 0042-207X. — 2008 vol. 82 iss. 10 spec. iss., s. 1128–1132. — Bibliogr. s. 1132, Abstr.. — Publikacja dostępna online od: 2008-01-08. — Proceedings of the 9th Electron Technology conference ELTE 2007 : Cracow, 4–7 September 2007 / guest eds. Tadeusz Pisarkiewicz, Barbara Dziurdzia. — [Dorchester] : Elsevier, 2008. — Zastosowano procedurę peer review. — tekst: http://goo.gl/ZWJEX9

  • keywords: solar cells, optical properties, amorphous a-SixNy:H layers, RF CVD method

    cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.1016/j.vacuum.2008.01.030

16

  • Silicon nitride layers of various N-content : technology, properties and structure : [abstract] / Maria JURZECKA-SZYMACHA, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH, Stanisława KLUSKA // W: TCM 2010 [Dokument elektroniczny] : 3rd international symposium on Transparent Conductive Materials (former TCO) : 17–21 October, 2010, Analipsi/ Herosonissos, Greece. — Wersja do Windows. — Dane tekstowe. — [s. l. : s. n.], [2010]. — 1 dysk Flash. — S. [1]. — Wymagania systemowe: Adobe Reader

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    Zobacz pełny wykaz publikacji Autora/Autorów: Katarzyna Tkacz-Śmiech, Maria Jurzecka-Szymacha

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

17

  • Surface modification of polyetheretherketone by helium/nitrogen and nitrous oxide plasma enhanced chemical vapour deposition / Stanisława KLUSKA, Elżbieta PAMUŁA, Stanisława JONAS, Zbigniew GRZESIK // High Temperature Materials and Processes ; ISSN 0334-6455. — 2014 vol. 33 iss. 2, s. 147–153. — Bibliogr. s. 153, Abstr.

  • keywords: surface, properties, interface, characterization, plasma treatment, PEEK modification, thermoplastics

    Zobacz pełny wykaz publikacji Autora/Autorów: Zbigniew Grzesik, Elżbieta Pamuła, Stanisława Dalczyńska-Jonas

    cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.1515/htmp-2013-0022

18
19
20
21
22

  • The optical and thermo-optical properties of non-stoichiometric silicon nitride layers obtained by the PECVD method with varying levels of nitrogen content / Stanisława KLUSKA, Maria JURZECKA-SZYMACHA, Natalia Nosidlak, Piotr Dulian, Janusz Jaglarz // Materials [Dokument elektroniczny]. — Czasopismo elektroniczne ; ISSN 1996-1944. — 2022 vol. 15 iss. 6 art. no. 2260, s. 1-12. — Wymagania systemowe: Adobe Reader. — Bibliogr. s. 11-12, Abstr.. — Publikacja dostępna online od: 2022-03-18. — tekst: https://www.mdpi.com/1996-1944/15/6/2260/pdf

    orcid iD

  • keywords: spectroscopic ellipsometry, thermooptical properties, PECVD technique, amorphous SiNx:H layers

    Zobacz pełny wykaz publikacji Autora/Autorów: Maria Jurzecka-Szymacha

    cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.3390/ma15062260

23

  • Thermo-optical properties of high-refractive-index plasma-deposited hydrogenated amorphous silicon-rich nitride films on glass / Janusz Jaglarz, Maria JURZECKA-SZYMACHA, Stanisława KLUSKA, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH // Optical Materials Express [Dokument elektroniczny]. — Czasopismo elektroniczne ; ISSN 2159-3930. — 2020 vol. 10 no. 11, s. 2749-2756. — Wymagania systemowe: Adobe Reader. — Tryb dostępu: https://www.osapublishing.org/viewmedia.cfm?uri=ome-10-11-2749&seq=0 [2020-10-23]. — Bibliogr. s. 2755-2756, Abstr.. — Publikacja dostępna online od: 2020-10-09. — W bazie Web of Science zakres stron: 2741-2748

    orcid iD

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    Zobacz pełny wykaz publikacji Autora/Autorów: Katarzyna Tkacz-Śmiech, Maria Jurzecka-Szymacha

    cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.1364/OME.396150