Wykaz publikacji wybranego autora

Agnieszka Kopia, dr hab. inż.

profesor nadzwyczajny

Wydział Inżynierii Metali i Informatyki Przemysłowej
WIMiIP-kip, Katedra Inżynierii Powierzchni i Analiz Materiałów

[dyscyplina wiodąca] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria materiałowa


[poprzednia klasyfikacja] obszar nauk technicznych / dziedzina nauk technicznych / inżynieria materiałowa


Identyfikatory Autora Informacje o Autorze w systemach zewnętrznych

ORCID: 0000-0001-5791-4012

ResearcherID: B-5628-2011

Scopus: 23477838300

PBN: 901327

OPI Nauka Polska

System Informacyjny AGH (SkOs)


Opisy publikacji wcześniejszych zobacz: bpp.agh.edu.pl/old.



1
2
  • [referat, 2004]
  • TytułNano-powders and thin films of Cu-doped $CeO_{2}$ for gas sensors
    AutorzyCh. Leroux, [et al.], M. KLIMCZAK, A. KOPIA, J. KUSIŃSKI
    ŹródłoEMC 2004 : 13textsuperscript{th} European Microscopy Congress : Antwerp, Belgium, August 22–27, 2004 : proceedings. Vol. 2, Materials Sciences / ed. Gustaaf Van Tendeloo. — Liège : Belgian Society for Microscopy, [2004]. — S. 95–96
  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

3
4
  • [referat w czasopiśmie, 2004]
  • TytułTexture modifications in copper doped ceria thin films by pulsed laser deposition technique
    AutorzyMagdalena CHMIELOWSKA, Agnieszka KOPIA, Jan KUSIŃSKI, Christine Leroux, Jean Raymond Gavarri
    ŹródłoInżynieria Materiałowa. — 2004 R. 25 nr 3, s. 561–563
  • słowa kluczowe: miedź, tekstura, ablacja laserowa, warstwa cienka

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

5
  • [artykuł w czasopiśmie, 2004]
  • TytułWybrane metody badań struktury i własności cienkich warstw i powierzchni materiałów
    AutorzyJan KUSIŃSKI, Magdalena CHMIELOWSKA, Agnieszka KOPIA, Kazimierz KOWALSKI, Radosław CHMIELOWSKI
    ŹródłoHutnik Wiadomości Hutnicze : czasopismo naukowo-techniczne poświęcone zagadnieniom hutnictwa. — 2004 R. 71 nr 3, s. 120–128
  • słowa kluczowe: mikrostruktura, katalizator, dyfuzja, XPS, tlenek cyrkonu, SIMS, cienkie warstwy CeO2 domieszkowane Cu, segregacja

    keywords: microstructure, diffusion, segregation, catalyst, XPS, zirconia, SIMS, thin films CeO2 oped Cu

    cyfrowy identyfikator dokumentu: