Wykaz publikacji wybranego autora

Edward Walasek, dr

emeryt

Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki
WIMiC-ktcmo, *Katedra Technologii Ceramiki i Materiałów Ogniotrwałych


Identyfikatory Autora Informacje o Autorze w systemach zewnętrznych

ORCID: brak

ResearcherID: brak

Scopus: brak

OPI Nauka Polska




1
  • [artykuł w czasopiśmie, 2001]
  • TytułAmorphous hydrogenated silicon-nitrogen $(a-Si_{1-x}N_{x}:H)$ films deposited by PECVD
    AutorzyStanisława A. JONAS, Tomasz J. STAPIŃSKI, Edward P. WALASEK, Mariusz K. Chrabąszcz
    ŹródłoJournal of Wide Bandgap Materials. — 2001 vol. 9 no. 1–2, s. 83–92
  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

2
3
  • [referat, 1999]
  • TytułGrowth and properties of hydrogenated $C_{x}N_{y}$ layers
    AutorzyS. JONAS, E. WALASEK, I. HOŁYST, T. STAPIŃSKI, A. CZYŻEWSKA
    ŹródłoThe sixth conference and exhibition of the European Ceramic Society : 20–24 June 1999 Brighton : abstracts, Vol. 1. — London : IOM Communications, 1999. — S. 235–236
  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

4
5
6
7
  • [referat, 2000]
  • TytułProperties of DLC and a-C:N:H films grown by PECVD and MWCVD techniques
    AutorzyS. JONAS, T. STAPIŃSKI, E. WALASEK
    ŹródłoSurface Engineering: in materials science I : proceedings of a symposium by the TMS Surface Modification & Coatings Technology Committee (SMC) and the Materials Processing and Manufacturing Division (MPMD), held during the 2000 TMS Annual Meeting : Nashville, Tennessee March 12–16, 2000 / ed. Sudipta Seal [et al.]. — Warrendale : The Minerals, Metals & Materials Society, 2000. — S. 347–355
  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

8
  • [artykuł w czasopiśmie, 2001]
  • TytułUHV plasma enhanced CVD system for preparation of new generation amorphous silicon based efficient solar cells
    AutorzyS. JONAS, P. Rava, T. STAPIŃSKI, E. WALASEK
    ŹródłoOpto-Electronics Review / Stowarzyszenie Elektryków Polskich, Wojskowa Akademia Techniczna. Warszawa. — 2001 vol. 9 iss. 1, s. 91–95
  • keywords: solar cells, passivation, amorphous silicon, microwave plasma chemical vapour deposition, plasma enhanced chemical vapour deposition

    cyfrowy identyfikator dokumentu: