Wykaz publikacji wybranego autora

Edward Walasek, dr

emeryt

Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki
WIMiC-ktcmo, *Katedra Technologii Ceramiki i Materiałów Ogniotrwałych


Identyfikatory Autora Informacje o Autorze w systemach zewnętrznych

ORCID: brak

ResearcherID: brak

Scopus: brak

OPI Nauka Polska




1
  • Growth and properties of hydrogenated $C_{x}N_{y}$ layers / S. JONAS, E. WALASEK, I. HOŁYST, T. STAPIŃSKI, A. CZYŻEWSKA // W: The sixth conference and exhibition of the European Ceramic Society : 20–24 June 1999 Brighton : abstracts, Vol. 1. — London : IOM Communications, 1999. — (British Ceramic Proceedings ; ISSN 0268-4373 ; no. 60). — ISBN: 978-1861250933 ; ISBN10: 1861250932. — S. 235–236. — Bibliogr. s. 236, Abstr.

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

2
  • Microwave plasma CVD technology of carbon and carbon-nitrogen films / Tomasz STAPIŃSKI, Edward WALASEK, Stanisława JONAS // W: IMAPS'99 : XXIII Conference of the International Microelectonics and Packaging Society - Poland Chapter : Koszalin–Kołobrzeg 21–23 September 1999 : proceedings / Technical University of Koszalin. Faculty of Electronics. — Koszalin : TU, [1999]. — ISBN10: 83-87424-99-4. — S. 191–195. — Bibliogr. s. 195

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

3
  • Otrzymywanie warstw a–C:N:H metodą MWCVDObtaining a–C:N:H layers using MWCVD method / St. JONAS, I. HOŁYST, E. WALASEK, A. CZYŻEWSKA, G. KRUPA // W: Modern plasma surface technology : 11 Międzynarodowa Szkoła Letnia Mielno'99 : 10–14.05.1999 / pod red. nauk. Witolda Prechta ; Politechnika Koszalińska. Katedra Inżynierii Materiałowej. Środowiskowe Laboratorium Techniki Próżniowej ; Sekcja Plazmowej Inżynierii Powierzchni Polskiego Towarzystwa Próżniowego ; International Union of Vacuum Science and Technical Application. Div. Vacuum Metallurgy. — Koszalin : Wydawnictwo Uczelniane PK, 1999. — Na okł. także podtyt. w j. ang.: 11\textsuperscript{th} International Summer School Mielno'99. — S. 183–192. — Bibliogr. s. 190–191, Streszcz., Abstr.

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

4
  • UHV plasma enhanced CVD system for preparation of new generation of amorphous silicon based efficient solar cells / S. JONAS, P. Rava, T. STAPIŃSKI, E. WALASEK // W: E-MRS : European Conference on Photovoltaics & JOULE PV III Contractors' Meeting : joint meeting : 25–27 October 1999, Cracow–Poland : abstracts. — [Poland : s. n.], [1999]. — S. 16

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu: