Wykaz publikacji wybranego autora

Stanisława Dalczyńska-Jonas, prof. dr hab. inż.

profesor zwyczajny

Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki
WIMiC-kfmp, Katedra Fizykochemii i Modelowania Procesów


Identyfikatory Autora Informacje o Autorze w systemach zewnętrznych

ORCID: brak

ResearcherID: brak

Scopus: brak

OPI Nauka Polska



Statystyka obejmuje publikacje afiliowane AGH od 2008 roku włącznie

typ publikacji
rocznikl. publ.książkifragm.referatyartykułypatentymapyred. czas.inne
ogółem1714285764
201711
201611
201544
20148251
20131459
2012141661
201113481
2010945
2009624
200820137
2007131111
2006936
20051293
20045221
200371132
2002413
200113175
20001073
19998161
język publikacji
rocznikrazempolskojęzyczneanglojęzycznepozostałe języki
ogółem171104643
201711
201611
2015422
2014853
201314941
201214941
20111385
20109531
2009615
200820146
200713103
2006954
200512111
2004532
2003752
2002413
20011394
20001055
1999826
kraj wydania
rocznikrazempubl. krajowepubl. zagraniczne
ogółem17113437
201711
201611
2015431
2014862
201314113
201214131
201113103
2010963
2009633
200820173
20071313
2006981
20051212
2004532
2003752
2002413
200113103
20001082
1999853
Lista Filadelfijska
rocznikrazempubl. z LFpubl. pozostałe
ogółem17120151
201711
201611
2015422
2014826
201314113
201214113
20111313
2010918
200966
200820218
20071313
2006918
20051212
2004514
2003725
2002431
200113112
20001010
1999817
punktacja MNiSW
rocznikrazempubl. z pkt. MNiSWpubl. pozostałe
ogółem17162109
201711
201611
201544
2014862
20131486
20121495
20111385
2010954
2009642
200820164
20071313
200699
20051212
200455
200377
200244
20011313
20001010
199988
publikacje recenzowane
rocznikrazempubl. recenzowanepubl. nierecenzowane
ogółem1718487
201711
201611
201544
2014862
20131495
20121477
20111394
2010954
2009642
200820164
200713112
2006954
20051239
2004514
2003725
2002431
200113310
20001037
1999817



1
  • A role of parameters in RF PA CVD technology of a-C:N:H layers
2
  • Amorficzne warstwy azotku krzemu ${a-Si_{x}N_{y}:H}$ na polikrystalicznym krzemie
3
  • Amorficzne warstwy węglowe na podłożach polimerowych
4
  • Amorphous $a-C:N:H$ layers formation by plasma enhanced chemical vapour deposition
5
  • Amorphous ${a-Si_{x}N_{y}:H}$ layers on polycrystalline silicon
6
  • Amorphous $a-Si_{x}N_{y}:H$ layers on silicon substrate for application in solar cells
7
  • Amorphous carbon layers on polymeric substrates
8
  • Amorphous carbon layers on polymeric substrates
9
  • Amorphous hydrogenated silicon-nitrogen $(a-Si_{1-x}N_{x}:H)$ films deposited by PECVD
10
  • Anti-wear properties of amorphous $a-C:H$ and $a-C:N:H$ carbon coatings deposited on polycarbonate
11
  • Anti-wear properties of amorphous ${a-C:H}$ and ${a-C:N:H}$ carbon layers deposited on polycarbonate
12
  • Application of silicon nitride for silicon solar cells
13
  • Badanie mechanizmu plazmochemicznej syntezy warstw typu ${a-C:N:H}$
14
  • Badanie mechanizmu plazmochemicznej syntezy warstw typu ${a-C:N:H}$
15
  • Badanie przebiegu reakcji wysokotemperaturowych w układzie ${ZrSiO_{4}-Al_{2}O_{3}}$
16
  • Badanie przebiegu reakcji wysokotemperaturowych w układzie ${ZrSiO_{4}-Al_{2}O_{3}}$
17
  • Budowa i właściwości warstw $SiC_{x}N_{y}$ otrzymywanych w procesie RFCVD
18
  • Budowa i właściwości warstw typu $a-SiC_{x}N_{y}$
19
  • Budowa i właściwości warstw węglowych na podłożach polimerowych
20
21
  • Ceramika ogniotrwała o małej rozszerzalności cieplnej na osnowie dwuglinianu wapniowego
22
  • Ceramika ogniotrwała o małej rozszerzalności cieplnej na osnowie dwuglinianu wapniowego
23
  • Chemical vapour infiltration of SiC in porous graphite materials
24
  • Chemiczna infiltracja porowatych grafitów węglikiem krzemu
25
  • Chosen properties of titanium biomaterials with modified surface