profesor zwyczajny
Faculty of Materials Science and Ceramics WIMiC-kfmp
ORCID: brak
ResearcherID: brak
Scopus: brak
OPI Nauka Polska
Formation of $Si_{x}N_{y}(H)$ and C:N:H layers by plasma-assisted chemical vapor deposition method / Stanisława JONAS, Marta JANUŚ, Janusz Jaglarz, Karol KYZIOŁ // Thin Solid Films ; ISSN 0040-6090. — 2016 vol. 600, s. 162–168. — Bibliogr. s. 167–168, Abstr.. — Publikacja dostępna online od: 2016-01-11. — tekst: http://www.sciencedirect.com.atoz.wbg2.bg.agh.edu.pl/science/article/pii/S0040609016000298/pdfft?md5=89bccf051070a4573718e69f27b3f203&pid=1-s2.0-S0040609016000298-main.pdf
keywords: optical properties, PA CVD method, growth rate, active centers, C:N:H layer, SixNy(H) layer
Zobacz pełny wykaz publikacji Autora/Autorów: Marta Januś, Karol Kyzioł
cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.1016/tsf2016.01.016