profesor zwyczajny
Faculty of Materials Science and Ceramics WIMiC-kfmp
ORCID: brak
ResearcherID: brak
Scopus: brak
OPI Nauka Polska
Amorphous hydrogenated silicon-nitrogen $(a-Si_{1-x}N_{x}:H)$ films deposited by PECVD / Stanisława A. JONAS, Tomasz J. STAPIŃSKI, Edward P. WALASEK, Mariusz K. Chrabąszcz // Journal of Wide Bandgap Materials ; ISSN 1524-511X. — 2001 vol. 9 no. 1–2, s. 83–92. — Bibliogr. s. 92, Abstr.
brak zdefiniowanych słów kluczowych
Zobacz pełny wykaz publikacji Autora/Autorów: Tomasz Stapiński, Edward Walasek
cyfrowy identyfikator dokumentu:
Low temperature IR spectra of $a-C:N:H$ layers / S. JONAS, I. ŁAGOSZ, C. PALUSZKIEWICZ, W. S. PTAK // Journal of Molecular Structure ; ISSN 0022-2860. — 2001 vol. 596 iss. 1–3, s. 101–108. — Bibliogr. s. 107–108, Abstr.. — 3rd International Conference of the Vibrational Spectroscopy in Materials Science : 23–26 September 2000, Krakow, Poland. — tekst: https://www-1sciencedirect-1com-1000027wx0102.wbg2.bg.agh.edu.pl/science/article/pii/S0022286001006950/pdfft?md5=38838d70ebd6143af5844bc24a423fad&pid=1-s2.0-S0022286001006950-main.pdf
keywords: PACVD, thin layers, nitrogenated and hydrogenated amorphous carbon, low temperature FTIR spectra, ice I h
Zobacz pełny wykaz publikacji Autora/Autorów: Czesława Paluszkiewicz, Wiesław Ptak, Iwona Łagosz
cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.1016/S0022-2860(01)00695-0
UHV plasma enhanced CVD system for preparation of new generation amorphous silicon based efficient solar cells / S. JONAS, P. Rava, T. STAPIŃSKI, E. WALASEK // Opto-Electronics Review / Stowarzyszenie Elektryków Polskich, Wojskowa Akademia Techniczna. Warszawa ; ISSN 1230-3402. — 2001 vol. 9 iss. 1, s. 91–95. — Bibliogr. s. 94–95
keywords: solar cells, passivation, amorphous silicon, microwave plasma chemical vapour deposition, plasma enhanced chemical vapour deposition