Electrodeposition of ZnTe semiconductor thin films from aqueous complex solutions : [poster] / E. Bełtowska-Lehman [et al.], E. KUSIOR // W: SOTAMA-FGM : Symposium on Texture and Microstructure Analysis of Functionally Graded Materials : 3–7 October 2004 Kraków, Poland : symposium programme and book of abstracts / [Polish Academy of Sciences. Institute of Metallurgy and Materials Science]. — [Kraków : s. n.], [2004]. — S. 46, P1

Hierarchically structured MoOx thin films for gas sensor and OLED applications / A. RYDOSZ, K. ZAKRZEWSKA, E. KUSIOR, P. Krukowski, D. Kowalczyk, Z. Klusek // W: 2019 E-MRS fall meeting [Dokument elektroniczny] : symposium V : Bioinspired and Biointegrated Materials as New Frontiers Nanomaterials IX : September 16\textsuperscript{th}–19\textsuperscript{th}, 2019 Warsaw, Poland : [abstracts]. — Wersja do Windows. — Dane tekstowe. — [Warsaw : University of Technology], [2019]. — Ekran [7]. — Tryb dostępu: https://www.european-mrs.com/nanoparticles-advances-synthesis-characterization-theoretical-modelling-and-applications-emrs-0 [2020-02-25]. — Bibliogr. w formie przypisów

Influence of Cr on structural and optical properties of ${TiO_{2}:Cr}$ nanopowders prepared by Flame Spray Synthesis (FSS) / A. TRENCZEK-ZAJĄC, M. RADECKA, M. Jasiński, K. A. MICHAŁÓW, M. RĘKAS, E. KUSIOR, K. ZAKRZEWSKA, A. Heel, T. Graule // W: XI Symposium on Fast ionic conductors : 14–17 September 2008, Grybów, Poland : book of abstracts = Przewodniki szybkich jonów. — Warszawa : Oficyna Wydawnicza Politechniki Warszawskiej, 2008. — S. 115–116. — Bibliogr. s. 116

Influence of deposition temperature of ${TiO_{2}}$ on crystalline silicon solar cell parameters / Piotr Panek, Kazimierz Drabczyk, Paweł Zięba, Halina CZTERNASTEK, Edward KUSIOR // W: IMAPS Poland : XXXI international conference and exhibition IMAPS Poland 2007 : 23–26 September 2007, Rzeszów–Krasiczyn : proceedings / eds. Jerzy Potencki, Dariusz Klepacki, Alicja Bednarczyk ; International Microelectronics and Packing Society. Poland Chapter. — Rzeszów : University of Technology, [2007] + CD-ROM. — Na okł. dod.: IMAPS Poland 25 years. — Opis częśc. wg okł.. — ISBN: 978-83-917701-4-6. — S. 205–208. — Bibliogr. s. 208, Abstr.

Kontrola procesu reaktywnego rozpylania magnetronowego w układzie $Ti-O_{2}$ — [Control of magnetron reactive sputtering in $Ti-O_{2}$ composition] / Andrzej BRUDNIK, Adam CZAPLA, Edward KUSIOR, Witold Posadowski // W: TJ'99 : Techniki Jonowe : VI ogólnopolskie seminarium : Szklarska Poręba 3–5 marca 1999 r. / Politechnika Wrocławska. Instytut Techniki Mikrosystemów. — [Wrocław : PW], [1999]. — ISBN10: 83-7085-438-9. — S. 43–46. — Bibliogr. s. 46, Abstr.

Makro i mikroskopowe naprężenia własne miedzianych powłok na podłożu mosiądzu — [Makro- and microscopic residual stresses of copper coastings on the brass substrate] / Stanisław SKRZYPEK, Joanna KOWALSKA, Edward KUSIOR, Marcin GOŁY // W: 50 Konwersatorium Krystalograficzne : II sesja naukowa PTK : Wrocław, 26–28 VI 2008 : program, streszczenia komunikatów, lista uczestników i autorów prac = Polish Crystallographic Meeting / Komitet Krystalografii PAN, Polskie Towarzystwo Krystalograficzne, Instytut Niskich Temperatur i Badań Strukturalnych PAN. — [Wrocław : s. n], [2008]. — S. 161–162. — Bibliogr. s. 162

Microstructure of $TiO_{2-x}$ thin films reactively sputtered by DC magnetron / K. ZAKRZEWSKA, A. BRUDNIK, E. KUSIOR, M. RADECKA, A. Kowal // W: Surface Engineering: in materials science I : proceedings of a symposium by the TMS Surface Modification & Coatings Technology Committee (SMC) and the Materials Processing and Manufacturing Division (MPMD), held during the 2000 TMS Annual Meeting : Nashville, Tennessee March 12–16, 2000 / ed. Sudipta Seal [et al.]. — Warrendale : The Minerals, Metals & Materials Society, 2000. — (A Publication of TMS). — ISBN10: 0-87339-471-2. — S. 163–172. — Bibliogr. s. 172, Abstr.

Residual macrostresses of metal plates after laser forming / S. J. SKRZYPEK, Z. Wesołowski, A. BACZMAŃSKI, E. KUSIOR // W: XVIII conference on Applied crystallography : 4–7 September 2000 Katowice–Wisła, Poland and Rietveld method workshop : 7–9 September 2000 / University of Silesia ; Committee of Crystallography and Committee of Material Science of Polish Academy od Sciences. — [Katowice : UŚ], [2000]. — S. 34

Silicon strip detector applied to X-ray diffraction of thin films and superlattices / T. STOBIECKI, W. DĄBROWSKI, P. GRYBOŚ, J. Kanak, E. KUSIOR, W. POWROŹNIK, J. SŁOWIK, K. ŚWIENTEK, P. WIĄCEK, A. ZIĘBA // W: X-top 2002 : 6\textsuperscript{th} biennial conference on High resolution X-Ray diffraction and imaging : dedicated to the memory of Professor Norio Kato (1923–2002) : Grenoble and Aussois, 10–14 September 2002 : programme abstracts ; list of participants / ESRF European Synchrotron Radiation Facility Grenoble, France ; LMC Laboratoire de Minéralogie Cristallographie de Paris, France. — [France : s. n], 2002. — P126 s. 206. — Bibliogr. P126 s. 206

Structural and electrical properties of magnetron sputtered Ti(ON) thin films: the case of TiN doped {\em in situ} with oxygen / A. TRENCZEK-ZAJĄC, M. RADECKA, K. ZAKRZEWSKA, A. BRUDNIK, E. KUSIOR, S. Bourgeois, M. C. Marco de Lucas, L. Imhoff // W: XI Symposium on Fast ionic conductors : 14–17 September 2008, Grybów, Poland : book of abstracts = Przewodniki szybkich jonów. — Warszawa : Oficyna Wydawnicza Politechniki Warszawskiej, 2008. — S. 55–56. — Bibliogr. s. 56

Structural and optical properties of ${Ti-N-O}$ thin films prepared by dc magnetron sputtering : [abstract] / A. TRENCZEK-ZAJĄC, A. BRUDNIK, E. KUSIOR, M. RADECKA, K. ZAKRZEWSKA, M. C. Marco de Lucas, L. Imhoff, S. Bourgeois // W: “Reactivity of solids” : 15\textsuperscript{th} French-Polish seminar : June 30–July 2, 2008, Dijon, France / Université de Bourgogne, AGH University of Science and Technology. — [France : s. n.], [2008]. — S. [1]. — Bibliogr. s. [1]

Structural properties of CdS/ZnO bilayers for photovoltaic purposes / Elżbieta SCHABOWSKA-OSIOWSKA, Henryk JANKOWSKI, Teresa KENIG, Edward KUSIOR, Tadeusz PISARKIEWICZ // W: IMAPS Poland : XXIX international conference of International Microelectronics and Packaging Society Poland Chapter : Koszalin – Darłówko 18–21 September 2005 : proceedings / eds. Piotr Majchrzak [et al.] ; International Microelectronics and Packaging Society. Poland Chapter. — [Poland] : IMAPS. Poland Chapter, 2005. — S. 247–250. — Bibliogr. s. 250, Abstr.. — Toż. W: IMAPS Poland [Dokument elektroniczny] : XXIX international conference of International Microelectronics and Packaging Society Poland Chapter : Koszalin – Darłówko, 18–21 September  2005 : proceedings. - Wersja do Windows. - Dane tekstowe / eds. Zbigniew Suszyński [et al.] ; International Microelectronics and Packaging Society. Poland Chapter. - [Poland] : IMAPS. Poland Chapter, 2005. - 1 dysk optyczny. - S. 247–250. — Wymagania systemowe: Adobe Reader ; napęd CD. - Bibliogr. s. 250, Abstr.

Thin films of $TiO_{2}:N$ for photo-electrochemical applications / A. TRENCZEK-ZAJĄC, M. RADECKA, K. ZAKRZEWSKA, A. BRUDNIK, E. KUSIOR, B. ŁYSOŃ, K. KOWALSKI // W: NANOSMAT-5 [Dokument elektroniczny] : 5th international conference on Surfaces, coatings and nanostructured materials : Reims, France, 19–21 October 2010 : abstracts & extended abstracts / eds. N. Ali, J. Ebothe, I. Patel. — Wersja do Windows. — Dane tekstowe. — [France : s. n.], [2010]. — 1 dysk optyczny. — S. [1–3]. — Wymagania systemowe: Adobe Acrobat Reader ; napęd CD-ROM. — Bibliogr. s. [3]. — Na CD-ROMie znajduje się również abstract

Wpływ warunków technologicznych na własności optyczne cienkich warstw $AlN_{x}$ otrzymanych reaktywnym magnetronowym rozpylaniem — Influence of technological parameters on optical properties of $AlN_{x}$ obtained by reactive magnetron sputtering / Andrzej BRUDNIK, Adam CZAPLA, Edward KUSIOR // W: Modern plasma surface technology : 13\textsuperscript{th} International Summer School Mielno'2002 : 02–05.09.2002 / [red. nauk. Witold Precht, red. Bronisław Słowiński] ; Politechnika Koszalińska w Koszalinie. Katedra Inżynierii Materiałowej [et al.].. — Koszalin : Wydawnictwo Uczelniane PK, 2002. — S. 213–220. — Bibliogr. s. 219–220, Streszcz., Abstr.

X-ray, AFM, UV-VIS-IR analysis of multilayer a-Si:H/$\mu$c-Si:H system / Andrzej KOŁODZIEJ, Witold BARANOWSKI, Edward KUSIOR, Jarosław KANAK // W: ELTE 2010 ; IMAPS-CPMT : 10\textsuperscript{th} Electron Technology conference and 34\textsuperscript{th} international microelectronics and packaging : Wrocław, 22–25 September 2010 : book of abstracts / eds. Andrzej Dziedzic, Karol Malecha, Jacek Radojewski. — Wrocław : Wrocław University of Technology. Faculty of Microsystem Electronics and Photonics, [2010]. — Dod. na okł.: 1910–2010 100 years of Technical Universities in Wrocław. — ISBN: 978-83-917701-8-4. — S. 147. — Bibliogr. s. 147. — Pełny tekst W: ELTE 2010 ; IMAPS-CPMT [Dokument elektroniczny] : 10th electron technology conference ELTE2010 and 34th international microelectronics and packaging IMAPS-CPMT Poland conference : Wrocław, 22–25 September 2010 : proceedings of ELTE/IMPAS-CPMT 2010 conference. — Wersja do Windows. — Dane tekstowe / eds. Andrzej Dziedzic [et al.]. — Wrocław : University of Technology, cop. 2010. — 1 dysk optyczny. — S. 1–4. — Wymagania systemowe: Adobe Acrobat Reader ; napęd CD-ROM. — Bibliogr. s. 4, Abstr. — ISBN 978-83-917701-9-1