Kontrola procesu reaktywnego rozpylania magnetronowego w układzie $Ti-O_{2}$ — [Control of magnetron reactive sputtering in $Ti-O_{2}$ composition] / Andrzej BRUDNIK, Adam CZAPLA, Edward KUSIOR, Witold Posadowski // W: TJ'99 : Techniki Jonowe : VI ogólnopolskie seminarium : Szklarska Poręba 3–5 marca 1999 r. / Politechnika Wrocławska. Instytut Techniki Mikrosystemów. — [Wrocław : PW], [1999]. — ISBN10: 83-7085-438-9. — S. 43–46. — Bibliogr. s. 46, Abstr.

Nanokompozyty $TiO_{2}/SnO_{2}$ jako rezystancyjne sensory gazu — [Nanocomposites $TiO_{2}/SnO_{2}$ as resistive gas sensors] / Anna KUSIOR, Joanna KLICH-KAFEL, Marta RADECKA, Maria LUBECKA, Adam CZAPLA, Katarzyna ZAKRZEWSKA // W: Czujniki optoelektroniczne i elektroniczne : XII konferencja naukowa : Karpacz, 24–27 czerwca 2012 / Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Foniki Politechniki Wrocławskiej, Polskie Towarzystwo Techniki Sensorowej. — [Wrocław : s. n.], [2012]. — S. 68. — Anna Kusior, Joanna Klich-Kafel, Marta Radecka – afiliacja: Akademia Górniczo-Hutnicza im. S. Staszica, wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki, Maria Lubecka, Adam Czapla, Katarzyna Zakrzewska – afiliacja: Akademia Górniczo-Hutnicza im. S. Staszica, Wydział Elektrotechniki, Automatyki, Informatyki i Elektroniki

Nanokompozyty $TiO_{2}/SnO_{2}$ jako rezystancyjne sensory gazu — Nanocomposites $TiO_{2}/SnO_{2}$ as resistive gas sensors / Anna KUSIOR, Joanna KLICH-KAFEL, Marta RADECKA, Maria LUBECKA, Adam CZAPLA, Katarzyna ZAKRZEWSKA // Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania (Warszawa) ; ISSN 0033-2089. — Tytuł poprz.: Przegląd Elektroniki. — 2012 R. 53 nr 6, s. 26–27. — Bibliogr. s. 27, Streszcz., Summ.

Pomiary sondą Langmuira rozpylania magnetronowego przy zasilaniu impulsowym — Langmuir probe diagnostics of pulsed magnetron sputtering / Andrzej BRUDNIK, Adam CZAPLA, Michał Socha, Marcin Różycki // Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania (Warszawa) ; ISSN 0033-2089. — Tytuł poprz.: Przegląd Elektroniki. — 2007 R. 48 nr 10, s. 29–30. — Bibliogr. s. 30, Streszcz., Summ.

Pracownia fizyczna Wydziału Fizyki i Techniki Jądrowej AGH, Cz. 2 — [Physical laboratory of the Faculty of Physics and Nucelar Techniques, Pt. 2] / pod red. Andrzeja ZIĘBY ; [aut. rozdz.] M. CHYLA, [et al.], A. ZIĘBA, K. RÓŻAŃSKI, Z. KĄKOL, A. KOZŁOWSKI, [et al.], Z. SANOK, A. CZAPLA, B. HOŁYŃSKA, Z. STĘGOWSKI, W. ZIELIŃSKI, K. ESKREYS, L. SUSZYCKI, [et al.], T. KUC, S. DUBIEL, E. ŁĄCKI, [et al.], A. KOŁODZIEJ, [et al.], J. ROSIEK. — Kraków : Uczelniane Wydawnictwa Naukowo-Dydaktyczne, 1999. — 214, [1] s.. — (Skrypty Uczelniane / Akademia Górniczo-Hutnicza im. Stanisława Staszica w Krakowie ; ISSN 0239-6114 ; SU 1571)

Pracownia fizyczna Wydziału Fizyki i Techniki Jądrowej AGH, Cz. 1 — [Physical laboratory of the Faculty of Physics and Nuclear Techniques, Pt. 1] / pod red. Andrzeja ZIĘBY ; [aut. rozdz.] A. ZIĘBA, [et al.], T. PŁAZAK, L. SUSZYCKI, A. OSTROWSKI, W. ZIELIŃSKI, S. DUBIEL, Z. KĄKOL, A. KOZŁOWSKI, K. PRZEWŁOCKI, K. JELEŃ, A. KOŁODZIEJ, J. ROSIEK, E. ŁĄCKI, M. LANKOSZ, A. CZAPLA, L. LOSKA, J. JANCZYSZYN, Z. SANOK. — Kraków : Uczelniane Wydawnictwa Naukowo-Dydaktyczne, 1999. — 276, [2] s.. — (Skrypty Uczelniane / Akademia Górniczo-Hutnicza im. Stanisława Staszica w Krakowie ; ISSN 0239-6114 ; SU 1608)

Pracownia fizyczna Wydziału Fizyki i Techniki Jądrowej AGH, Cz. 1 — [Physical laboratory of the Faculty of Physics and Nuclear Techniques, Pt. 1] / pod red. Andrzeja ZIĘBY ; [aut. Andrzej ZIĘBA, Małgorzata Nowina-Konopka, Jerzy Krzuk, Antoni OSTROWSKI, Stanisław DUBIEL, Zbigniew KĄKOL, Andrzej KOZŁOWSKI, Kazimierz JELEŃ, Witold ZIELIŃSKI, Andrzej KOŁODZIEJ, Janusz ROSIEK, Adam CZAPLA, Zofia SANOK, Mieczysław JACHIMOWSKI, Stanisław Salach, Andrzej Czapla, Eugeniusz ŁĄCKI]. — Wyd. 3 zm.. — Kraków : Uczelniane Wydawnictwa Naukowo-Dydaktyczne AGH, 2002. — 265 s.. — (Skrypty Uczelniane / Akademia Górniczo-Hutnicza im. Stanisława Staszica w Krakowie ; ISSN 0239-6114 ; SU 1642). — Bibliogr. s. 265

Sterowanie procesem magnetronowego rozpylania tytanu w atmosferze argon–tlen w zakresie niestabilności ciśnieniowej — Control of titanium sputtering process in an argon–oxygen atmosphere in the range of pressure instabilities / Andrzej BRUDNIK, Adam CZAPLA, Witold Posadowski // W: Modern plasma surface technology : 12 Międzynarodowa Specjalna Szkoła Letnia Kołobrzeg'2000 : 08–12.05.2000 / [red. nauk. Witold Precht, Bronisław Słowiński] ; Politechnika Koszalińska w Koszalinie. Katedra Inżynierii Materiałowej. Środowiskowe Laboratorium Techniki Próżniowej ; Sekcja Plazmowej Inżynierii Powierzchni Polskiego Towarzystwa Próżniowego ; International Union of Vacuum Science and Technical Application. Div. Vacuum Metallurgy. — Koszalin : Wydawnictwo Uczelniane PK, 2000. — ISBN10: 83-88283-29-4. — S. 231–239. — Bibliogr. s. 238–239, Streszcz., Abstr.

Sterowanie procesem reaktywnego rozpylania Al w atmosferze $Ar-N_{2}$ — Control of aluminium reactive sputtering in argon-nitrogen gas mixture / A. BRUDNIK, A. CZAPLA, W. Posadowski // W: Modern plasma surface technology : 11 Międzynarodowa Szkoła Letnia Mielno'99 : 10–14.05.1999 / pod red. nauk. Witolda Prechta ; Politechnika Koszalińska. Katedra Inżynierii Materiałowej. Środowiskowe Laboratorium Techniki Próżniowej ; Sekcja Plazmowej Inżynierii Powierzchni Polskiego Towarzystwa Próżniowego ; International Union of Vacuum Science and Technical Application. Div. Vacuum Metallurgy. — Koszalin : Wydawnictwo Uczelniane PK, 1999. — Na okł. także podtyt. w j. ang.: 11\textsuperscript{th} International Summer School Mielno'99. — S. 159–165. — Bibliogr. s. 165, Streszcz., Abstr.

Wpływ warunków technologicznych na własności optyczne cienkich warstw $AlN_{x}$ otrzymanych reaktywnym magnetronowym rozpylaniem — Influence of technological parameters on optical properties of $AlN_{x}$ obtained by reactive magnetron sputtering / Andrzej BRUDNIK, Adam CZAPLA, Edward KUSIOR // W: Modern plasma surface technology : 13\textsuperscript{th} International Summer School Mielno'2002 : 02–05.09.2002 / [red. nauk. Witold Precht, red. Bronisław Słowiński] ; Politechnika Koszalińska w Koszalinie. Katedra Inżynierii Materiałowej [et al.].. — Koszalin : Wydawnictwo Uczelniane PK, 2002. — S. 213–220. — Bibliogr. s. 219–220, Streszcz., Abstr.