Wykaz publikacji wybranego autora

Andrzej Brudnik, dr hab. inż., prof. AGH

profesor nadzwyczajny

Wydział Informatyki, Elektroniki i Telekomunikacji
WIEiT-ke, Instytut Elektroniki


  • 2023

    [dyscyplina 1] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / automatyka, elektronika, elektrotechnika i technologie kosmiczne


  • 2018

    [dyscyplina 1] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / automatyka, elektronika i elektrotechnika


[poprzednia klasyfikacja] obszar nauk technicznych / dziedzina nauk technicznych / elektronika


Identyfikatory Autora Informacje o Autorze w systemach zewnętrznych

ORCID: 0000-0002-5629-3872 orcid iD

ResearcherID: brak

Scopus: 6602167333

PBN: 5e70922b878c28a0473910ea

OPI Nauka Polska

System Informacyjny AGH (SkOs)



Statystyka obejmuje publikacje afiliowane AGH od 2008 roku włącznie

typ publikacji
rocznikl. publ.książkifragm.referatyartykułypatentymapyred. czas.inne
ogółem75123735
202211
202122
202011
2019413
201811
201622
2015211
2014321
201381142
201210127
2011413
2010651
2009321
2008633
2007743
2006211
200511
200311
2002211
200111
200033
1999532
język publikacji
rocznikrazempolskojęzyczneanglojęzycznepozostałe języki
ogółem751758
202211
202122
202011
201944
201811
2016211
201522
2014312
2013826
20121010
2011422
201066
200933
2008615
2007734
200622
200511
200311
2002211
200111
2000321
1999532
kraj wydania
rocznikrazempubl. krajowepubl. zagraniczne
ogółem754134
202211
202122
202011
2019413
201811
2016211
201522
2014321
2013844
20121064
2011431
2010642
200933
2008624
2007761
2006211
200511
200311
200222
200111
2000321
1999532
Lista Filadelfijska
rocznikrazempubl. z LFpubl. pozostałe
ogółem752352
202211
202122
202011
2019431
201811
201622
2015211
201433
2013817
20121037
2011413
2010615
2009312
2008633
2007716
200622
200511
200311
2002211
200111
200033
1999523
punktacja MNiSW
rocznikrazempubl. z pkt. MNiSWpubl. pozostałe
ogółem753639
202211
202122
202011
2019431
201811
2016211
2015211
2014321
2013853
20121073
2011431
2010615
2009312
2008642
2007734
200622
200511
200311
200222
200111
200033
199955
publikacje recenzowane
rocznikrazempubl. recenzowanepubl. nierecenzowane
ogółem754233
202211
202122
202011
2019431
201811
2016211
2015211
2014321
2013853
20121064
201144
2010615
2009312
2008642
2007734
200622
200511
200311
2002211
200111
2000312
1999523



1
  • AC Hall Effect set-up for investigation of protective and gas sensor films
2
3
  • Badanie niezbalansowanego układu magnetronowego w modzie autorozpylania
4
  • Badanie procesu autorozpylania niklu
5
  • Chemical composition, crystallographic structure and impedance spectroscopy of titanium oxynitride $TiN_{x}O_{y}$ thin films
6
  • $CuO$ and $CuO/TiO_{2-y}$ thin-film gas sensors of $H_{2}$ and $NO_{2}$
7
  • Data acquisition system for sensor array
8
  • Design and development of a current-voltage measurement system for resistive metal oxide gas sensors
9
  • Diagnostics of magnetron sputtering discharges with high power density
10
  • Diagnostyka i sterowanie procesem otrzymywania cienkich warstw techniką reaktywnego rozpylania magnetronowego
11
  • Diagnozowanie procesu reaktywnego rozpylenia
12
13
  • Dust particle counter for powder bed fusion process
14
  • Gas detection and classification based on sensor array upon induced temperature profile
15
  • Gas detection by thermally-induced metal oxide sensor array
16
  • Gas detection with an array of metal oxide gas sensors – signal processing and recognition
17
  • Gas sensor array based on thin films metal oxides
18
  • Humidity influence on gas sensing properties of $SnO_{2}$ and $TiO_{2}$ thin films
19
  • Hydrogen charging effects in $Pd/Ti/TiO_{2}/Ti$ thin films deposited on Si(111) studied by ion beam analysis methods
20
  • Hydrogen detection with a gas sensor array – processing and recognition of dynamic responses using neural networks
21
  • Hydrogen profile of $Pd/Ti/TiO_{2}/Ti$ thin films deposited on $Si$(111) studied by SIMS and $N$-15 method
22
  • Hydrogen storage in $Ti–TiO_{2}$ multilayers
23
  • Kontrola procesu reaktywnego rozpylania magnetronowego – analiza modelu
24
  • Kontrola procesu reaktywnego rozpylania magnetronowego w układzie $Ti-O_{2}$
25
  • Matryca cienkowarstwowych sensorów gazów na bazie tlenków metali