Wykaz publikacji wybranego autora

Andrzej Brudnik, dr hab. inż., prof. AGH

profesor nadzwyczajny

Wydział Informatyki, Elektroniki i Telekomunikacji
WIEiT-ke, Instytut Elektroniki


  • 2023

    [dyscyplina 1] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / automatyka, elektronika, elektrotechnika i technologie kosmiczne


  • 2018

    [dyscyplina 1] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / automatyka, elektronika i elektrotechnika


[poprzednia klasyfikacja] obszar nauk technicznych / dziedzina nauk technicznych / elektronika


Identyfikatory Autora Informacje o Autorze w systemach zewnętrznych

ORCID: 0000-0002-5629-3872 orcid iD

ResearcherID: brak

Scopus: 6602167333

PBN: 5e70922b878c28a0473910ea

OPI Nauka Polska

System Informacyjny AGH (SkOs)




1
2
  • Structural and optical properties of ${Ti-N-O}$ thin films prepared by dc magnetron sputtering : [abstract] / A. TRENCZEK-ZAJĄC, A. BRUDNIK, E. KUSIOR, M. RADECKA, K. ZAKRZEWSKA, M. C. Marco de Lucas, L. Imhoff, S. Bourgeois // W: “Reactivity of solids” : 15\textsuperscript{th} French-Polish seminar : June 30–July 2, 2008, Dijon, France / Université de Bourgogne, AGH University of Science and Technology. — [France : s. n.], [2008]. — S. [1]. — Bibliogr. s. [1]

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

3
  • Structural and optical properties of $Ti-N-O$ thin films prepared by dc-pulsed magnetron sputtering / A. TRENCZEK-ZAJĄC, M. RADECKA, K. ZAKRZEWSKA, A. BRUDNIK, E. KUSIOR, S. Bourgeois, M. Marco de Lucas, L. Imhoff // Annales de Chimie Science des Matériaux ; ISSN 0151-9107. — 2008 vol. 33 suppl. 1, s. 149–156. — Zastosowano procedurę peer review. — 15th French-Polish seminar on Reactivity of solids : June 30–July 2, 2008, Dijon, France / eds. Florence Baras [et al.]. — Paris : Editions Scientifiques Medicales Elsevier, 2008

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

4
  • Studies of medium frequency high power density magnetron sputtering discharges / Andrzej BRUDNIK, Adam CZAPLA, Witold Posadowski // Vacuum : Surface Engineering, Surface Instrumentation & Vacuum Technology ; ISSN 0042-207X. — 2008 vol. 82 iss. 10 spec. iss., s. 1124–1127. — Bibliogr. s. 1127, Abstr.. — Zastosowano procedurę peer review. — Proceedings of the 9th Electron technology conference ELTE 2007 : Cracow, 4–7 September 2007 / guest eds. Tadeusz Pisarkiewicz, Barbara Dziurdzia. — [Dorchester] : Elsevier, 2008. — tekst: http://goo.gl/ighdvQ

  • keywords: magnetron sputtering, high rate deposition, pulsed sputtering, plasma processing

    cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.1016/j.vacuum.2008.01.029