Sterowanie procesem magnetronowego rozpylania tytanu w atmosferze argon–tlen w zakresie niestabilności ciśnieniowej — Control of titanium sputtering process in an argon–oxygen atmosphere in the range of pressure instabilities / Andrzej BRUDNIK, Adam CZAPLA, Witold Posadowski // W: Modern plasma surface technology : 12 Międzynarodowa Specjalna Szkoła Letnia Kołobrzeg'2000 : 08–12.05.2000 / [red. nauk. Witold Precht, Bronisław Słowiński] ; Politechnika Koszalińska w Koszalinie. Katedra Inżynierii Materiałowej. Środowiskowe Laboratorium Techniki Próżniowej ; Sekcja Plazmowej Inżynierii Powierzchni Polskiego Towarzystwa Próżniowego ; International Union of Vacuum Science and Technical Application. Div. Vacuum Metallurgy. — Koszalin : Wydawnictwo Uczelniane PK, 2000. — ISBN10: 83-88283-29-4. — S. 231–239. — Bibliogr. s. 238–239, Streszcz., Abstr.

Wpływ parametrów technologicznych procesu rozpylania na natężenie linii spektralnych miedzi w wyładowaniu jarzeniowym układu magnetronowego — [Influence of technological parameters of deposition process on intensity of Cu spectral lines in magnetron setup glow discharge] / Witold M. Posadowski, Józef Kudzia, Andrzej BRUDNIK // W: ELTE'2000 : technologia elektronowa : VII konferencja naukowa : Polanica Zdrój, 18–22 września 2000 : materiały konferencyjne, T. 2. — Wrocław : Instytut Techniki Mikrosystemów Politechniki Wrocławskiej, 2000. — S. 1020–1024. — Bibliogr. s. 1024