Badanie niezbalansowanego układu magnetronowego w modzie autorozpylania — [Investigation of non-balanced magnetron system in self-sustained mode] / Witold M. Posadowski, Donata Muszyńska, Józef Kudzia, Andrzej BRUDNIK // W: TJ'99 : Techniki Jonowe : VI ogólnopolskie seminarium : Szklarska Poręba 3–5 marca 1999 r. / Politechnika Wrocławska. Instytut Techniki Mikrosystemów. — [Wrocław : PW], [1999]. — ISBN10: 83-7085-438-9. — S. 131–137. — Bibliogr. s. 137, Abstr.

Badanie procesu autorozpylania niklu — Sustained self-sputtering of nickel / Witold Posadowski, Józef Kudzia, Andrzej BRUDNIK // Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania (Warszawa) ; ISSN 0033-2089. — Tytuł poprz.: Przegląd Elektroniki. — 2003 R. 44 nr 11, s. 24–26. — Bibliogr. s. 26, Streszcz., Summ.. — TJ 2003 : VIII [ósme] ogólnopolskie seminarium Techniki Jonowe : Szklarska Poręba 12–14. 03. 2003 r.

Diagnostyka i sterowanie procesem otrzymywania cienkich warstw techniką reaktywnego rozpylania magnetronowego — Diagnostic and control of thin films reactive magnetron sputtering process / Andrzej BRUDNIK. — Kraków : Wydawnictwa AGH, 2013. — 157 s.. — (Rozprawy Monografie / Akademia Górniczo-Hutnicza im. Stanisława Staszica w Krakowie ; ISSN 0867-6631 ; 294). — Bibliogr. s. 136–157, Streszcz., Summ.. — ISBN: 978-83-7464-627-7

Diagnozowanie procesu reaktywnego rozpylenia — Reactive sputtering diagnostics / Andrzej BRUDNIK // Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania (Warszawa) ; ISSN 0033-2089. — Tytuł poprz.: Przegląd Elektroniki. — 2011 R. 52 nr 5, s. 132–134. — Bibliogr. s. 134, Streszcz., Summ.

Kontrola procesu reaktywnego rozpylania magnetronowego – analiza modelu — Control of reactive magnetron sputtering – model analysis / Andrzej BRUDNIK // Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania (Warszawa) ; ISSN 0033-2089. — Tytuł poprz.: Przegląd Elektroniki. — 2011 R. 52 nr 8, s. 72–74. — Bibliogr. s. 74, Streszcz., Summ.. — IX Konferencja Techniki Próżni i Workshop on Field Emission from Carbonaceous Materials : Cedzyna, 6–9 czerwca 2011

Kontrola procesu reaktywnego rozpylania magnetronowego w układzie $Ti-O_{2}$ — [Control of magnetron reactive sputtering in $Ti-O_{2}$ composition] / Andrzej BRUDNIK, Adam CZAPLA, Edward KUSIOR, Witold Posadowski // W: TJ'99 : Techniki Jonowe : VI ogólnopolskie seminarium : Szklarska Poręba 3–5 marca 1999 r. / Politechnika Wrocławska. Instytut Techniki Mikrosystemów. — [Wrocław : PW], [1999]. — ISBN10: 83-7085-438-9. — S. 43–46. — Bibliogr. s. 46, Abstr.

Matryca cienkowarstwowych sensorów gazów na bazie tlenków metali — [Thin film metal oxide gas sensor array] / Patryk GWIŻDŻ, Andrzej BRUDNIK, Katarzyna ZAKRZEWSKA // W: ELTE'2013 [Dokument elektroniczny] : technologia elektronowa : XI konferencja naukowa : Ryn, 16–20 kwietnia 2013 r.. — Wersja do Windows. — Dane tekstowe. — [Warszawa : s. n.], [2013]. — 1 dysk optyczny. — Opis częśc. wg CD-ROM-u. — e-ISBN: 978-83-64102-00-4. — S. 149–150. — Wymagania systemowe: Adobe Reader ; napęd CD-ROM. — Bibliografia s. 150. — Abstract W: ELTE'2013 : technologia elektronowa : XI konferencja naukowa : Ryn, 16–20 kwietnia 2013 r. — [S. l. : s. n., 2013]. — S. [1] MN$\vert$p-15. — Afiliacja Autorów: Wydział Informatyki, Elektroniki i Telekomunikacji, Akademia Górniczo-Hutnicza, Kraków. — Tyt. przejęto z ekranu tytułowego

Niereaktywny impulsowy proces rozpylania magnetronowego — Unreactive pulsed magnetron sputtering / Witold M. Posadowski, Artur Wiatrowski, Józef Kudzia, Andrzej BRUDNIK // Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania (Warszawa) ; ISSN 0033-2089. — Tytuł poprz.: Przegląd Elektroniki. — 2007 R. 48 nr 10, s. 50–51. — Bibliogr. s. 51, Streszcz., Summ.

Pomiary sondą Langmuira rozpylania magnetronowego przy zasilaniu impulsowym — Langmuir probe diagnostics of pulsed magnetron sputtering / Andrzej BRUDNIK, Adam CZAPLA, Michał Socha, Marcin Różycki // Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania (Warszawa) ; ISSN 0033-2089. — Tytuł poprz.: Przegląd Elektroniki. — 2007 R. 48 nr 10, s. 29–30. — Bibliogr. s. 30, Streszcz., Summ.

Proces rozpylania techniką magnetronową w atmosferze dwóch gazów reaktywnych — Process of magnetron sputtering an atmosphere with two reactive gasses / Andrzej BRUDNIK, Katarzyna ZAKRZEWSKA // Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania (Warszawa) ; ISSN 0033-2089. — Tytuł poprz.: Przegląd Elektroniki. — 2014 R. 55 nr 10, s. 34–36. — Bibliogr. s. 36, Streszcz., Summ.. — TJ&nanoIP 2014 : XIII ogólnopolskie seminarium {\em Techniki Jonowe} połączone z  III zimową szkołą {\em Nanoinżynieria Powierzchni} : 5–8 marca 2014, Szklarska Poręba

Sterowanie procesem magnetronowego rozpylania tytanu w atmosferze argon–tlen w zakresie niestabilności ciśnieniowej — Control of titanium sputtering process in an argon–oxygen atmosphere in the range of pressure instabilities / Andrzej BRUDNIK, Adam CZAPLA, Witold Posadowski // W: Modern plasma surface technology : 12 Międzynarodowa Specjalna Szkoła Letnia Kołobrzeg'2000 : 08–12.05.2000 / [red. nauk. Witold Precht, Bronisław Słowiński] ; Politechnika Koszalińska w Koszalinie. Katedra Inżynierii Materiałowej. Środowiskowe Laboratorium Techniki Próżniowej ; Sekcja Plazmowej Inżynierii Powierzchni Polskiego Towarzystwa Próżniowego ; International Union of Vacuum Science and Technical Application. Div. Vacuum Metallurgy. — Koszalin : Wydawnictwo Uczelniane PK, 2000. — ISBN10: 83-88283-29-4. — S. 231–239. — Bibliogr. s. 238–239, Streszcz., Abstr.

Sterowanie procesem reaktywnego rozpylania Al w atmosferze $Ar-N_{2}$ — Control of aluminium reactive sputtering in argon-nitrogen gas mixture / A. BRUDNIK, A. CZAPLA, W. Posadowski // W: Modern plasma surface technology : 11 Międzynarodowa Szkoła Letnia Mielno'99 : 10–14.05.1999 / pod red. nauk. Witolda Prechta ; Politechnika Koszalińska. Katedra Inżynierii Materiałowej. Środowiskowe Laboratorium Techniki Próżniowej ; Sekcja Plazmowej Inżynierii Powierzchni Polskiego Towarzystwa Próżniowego ; International Union of Vacuum Science and Technical Application. Div. Vacuum Metallurgy. — Koszalin : Wydawnictwo Uczelniane PK, 1999. — Na okł. także podtyt. w j. ang.: 11\textsuperscript{th} International Summer School Mielno'99. — S. 159–165. — Bibliogr. s. 165, Streszcz., Abstr.

Układ pomiarowy matrycy rezystywnych sensorów gazu — [Measurement system for resistive metal oxide sensors matrix] / Piotr Róg, Artur RYDOSZ, Andrzej BRUDNIK // W: ELTE'2016 : technologia elektronowa : XII konferencja naukowa : Wisła, 11–14 września 2016 : program konferencji. — [Polska : s. n.], [2016]. — S. 23. — Pełny tekst na dysku Flash. — S. [1–2]. — Wymagania systemowe: Adobe Reader. — Bibliogr. s. [2]. — Afiliacja autorów: Akademia Górniczo-Hutnicza

Właściwości mikrostrukturalne i optyczne fotoaktywnych cienkich warstw ${TiO_{2}:N}$ — Microstructure and optical properties of photoactive ${TiO_{2}:N}$ thin films / Andrzej BRUDNIK, Mirosław M. BUĆKO, Agnieszka GORZKOWSKA-SOBAŚ, Marta RADECKA, Anita TRENCZEK-ZAJĄC, Katarzyna ZAKRZEWSKA // W: VI Konferencja Polskiego Towarzystwa Ceramicznego : Zakopane 13–16 września 2007 r. : streszczenia, program / red. z. Zbigniew Pędzich ; Polskie Towarzystwo Ceramiczne. — Kraków : PTC, cop. 2007. — Opis częśc. wg okł.. — ISBN: 978-83-89541-96-3. — S. 169

Właściwości mikrostrukturalne i optyczne fotoaktywnych cienkich warstw ${TiO_{2}:N}$ — Microstructure and optical properties of photoactive ${TiO_{2}:N}$ thin films / Andzrzej BRUDNIK, Mirosław M. BUĆKO, Marta RADECKA, Anita TRENCZEK-ZAJĄC, Katarzyna ZAKRZEWSKA // W: Postępy technologii ceramiki, szkła i budowlanych materiałów wiążących : materiały VI konferencji Polskiego Towarzystwa Ceramicznego pod patronatem Prof. dr hab. inż. Krzysztofa J. Kurzydłowskiego Podsekretarza Stanu w Ministerstwie Nauki i Szkolnictwa Wyższego : Zakopane 2007, [T. 1] = Advances in the technology of ceramic, glass and mineral binding materials / pod red. M. M. Bućko, K. Haberko, Z. Pędzich. — Kraków : Polskie Towarzystwo Ceramiczne, 2008. — (Polski Biuletyn Ceramiczny / Polskie Towarzystwo Ceramiczne) ; (Prace Komisji Nauk Ceramicznych / Polska Akademia Nauk. Oddział w Krakowie ; vol. 103/1. Ceramika ; ISSN 0860-3340). — Opis częśc. wg okł.. — S. 105–111. — Bibliogr. s. 111

Wpływ parametrów technologicznych procesu rozpylania na natężenie linii spektralnych miedzi w wyładowaniu jarzeniowym układu magnetronowego — [Influence of technological parameters of deposition process on intensity of Cu spectral lines in magnetron setup glow discharge] / Witold M. Posadowski, Józef Kudzia, Andrzej BRUDNIK // W: ELTE'2000 : technologia elektronowa : VII konferencja naukowa : Polanica Zdrój, 18–22 września 2000 : materiały konferencyjne, T. 2. — Wrocław : Instytut Techniki Mikrosystemów Politechniki Wrocławskiej, 2000. — S. 1020–1024. — Bibliogr. s. 1024

Wpływ warunków technologicznych na własności optyczne cienkich warstw $AlN_{x}$ otrzymanych reaktywnym magnetronowym rozpylaniem — Influence of technological parameters on optical properties of $AlN_{x}$ obtained by reactive magnetron sputtering / Andrzej BRUDNIK, Adam CZAPLA, Edward KUSIOR // W: Modern plasma surface technology : 13\textsuperscript{th} International Summer School Mielno'2002 : 02–05.09.2002 / [red. nauk. Witold Precht, red. Bronisław Słowiński] ; Politechnika Koszalińska w Koszalinie. Katedra Inżynierii Materiałowej [et al.].. — Koszalin : Wydawnictwo Uczelniane PK, 2002. — S. 213–220. — Bibliogr. s. 219–220, Streszcz., Abstr.