Wykaz publikacji wybranego autora

Maria Jurzecka-Szymacha, dr inż.

asystent

Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki
WIMiC-kfmp, Katedra Fizykochemii i Modelowania Procesów



Opisy publikacji wcześniejszych zobacz: bpp.agh.edu.pl/old.


Liczba pozycji spełniających powyższe kryteria selekcji: 20, z ogólnej liczby 20 publikacji Autora


1
  • Amorphous ${a-Si_{x}N_{y}:H}$ layers on polycrystalline siliconAmorficzne warstwy azotku krzemu ${a-Si_{x}N_{y}:H}$ na polikrystalicznym krzemie / Maria JURZECKA, Stanisława JONAS, Stanisława KLUSKA, Rafał M. NOWAK, Karol KYZIOŁ // W: Postępy technologii ceramiki, szkła i budowlanych materiałów wiążących : materiały VI konferencji Polskiego Towarzystwa Ceramicznego pod patronatem Prof. dr hab. inż. Krzysztofa J. Kurzydłowskiego Podsekretarza Stanu w Ministerstwie Nauki i Szkolnictwa Wyższego : Zakopane 2007, [T. 1] = Advances in the technology of ceramic, glass and mineral binding materials / pod red. M. M. Bućko, K. Haberko, Z. Pędzich. — Kraków : Polskie Towarzystwo Ceramiczne, 2008. — (Polski Biuletyn Ceramiczny / Polskie Towarzystwo Ceramiczne) ; (Prace Komisji Nauk Ceramicznych / Polska Akademia Nauk. Oddział w Krakowie ; vol. 103/1. Ceramika ; ISSN 0860-3340). — Opis częśc. wg okł.. — S. 631–637. — Bibliogr. s. 637

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

2
  • Gradientowe warstwy $a-SiN_{x}:H$ osadzane plazmochemicznie w układzie Rf CVDGradient $a-SiN_{x}:H$ layers plasma chemically deposited in RF CVD system / Maria JURZECKA-SZYMACHA, Stanisława KLUSKA, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH // Inżynieria Materiałowa ; ISSN 0208-6247. — 2008 R. 29 nr 6, s. 768–771. — Bibliogr. s. 771, Streszcz., Abstr.. — INPO2008 : Inżynieria Powierzchni = Surface Engineering : Wisła–Jawornik, 2–5.XII.2008 / pod red. Leopolda Jeziorskiego, Zygmunta Nitkiewicza, Józefa Jasińskiego. — Katowice : Wydawnictwo SIGMA-NOT, 2008

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

3
  • Modyfikacja powierzchni PEEK za pomocą plazmy niskotemperaturowejSurface modification of the PEEK by using plasma method / Stanisława KLUSKA, Stanisława JONAS, Maria JURZECKA-SZYMACHA, Karol KYZIOŁ // Inżynieria Materiałowa ; ISSN 0208-6247. — 2015 R. 36 nr 1, s. 33–36. — Bibliogr. s. 36

  • słowa kluczowe: modyfikacja PEEK, obróbka plazmowa, trawienie jonowe powierzchni

    keywords: plasma treatment, PEEK modification, PECVD

4
  • On the correlation between the chemical composition of the amorphous $a-Si_{x}C_{y}N_{z}(H)$ layers deposited by PACVD and their band gap / Janusz Jaglarz, Maria JURZECKA-SZYMACHA, Stanisława KLUSKA, Tomasz STAPIŃSKI, Barbara SWATOWSKA, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH // W: SENM 2015 [Dokument elektroniczny] : Smart Engineering of New Materials : 22–25 June 2015 Lodz, Poland : abstract book. — Wersja do Windows. — Dane tekstowe. — [Lodz : s. n.], [2015]. — Dysk Flash. — S. [1]. — Wymagania systemowe: Adobe Reader

  • keywords: PACVD, band gap, spectroscopic ellipsometry, amorphous a-SixCyNz(H) layers, optical constants

5
  • On the correlation between the chemical composition of the amrophous $a-Si_{x}C_{y}N_{z}(H)$ layers deposited by PACVD and their band gap / Stanisława KLUSKA, Janusz Jaglarz, Maria JURZECKA-SZYMACHA, Tomasz STAPIŃSKI, Barbara SWATOWSKA, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH // W: MicroTherm 2015 [Dokument elektroniczny] : Microtechnology and Thermal Problems in Electronics : June 23\textsuperscript{rd} – June 25\textsuperscript{th} 2015, Lodz, Poland : official proceedings / ed. Jacek Podgórski. — Wersja do Windows. — Dane tekstowe. — Lodz : Lodz University of Technology, cop. 2015. — Dysk Flash. — e-ISBN: 978-83-932197-3-5. — S. 31–35. — Wymagania systemowe: Adobe Reader. — Bibliogr. s. 34–35, Abstr.

  • keywords: PACVD, band gap, amorphous a-SixCyNz(H) layers, optical constants, specroscopic ellipsometry

6
7
  • Otrzymywanie i właściwości warstw ${a-C:N:H}$ na poliwęglanieDeposition and properties of ${a-C:N:H}$ layers on polycarbonate / Rafał M. NOWAK, Stanisława JONAS, Karol KYZIOŁ, Maria JURZECKA // W: Postępy technologii ceramiki, szkła i budowlanych materiałów wiążących : materiały VI konferencji Polskiego Towarzystwa Ceramicznego pod patronatem Prof. dr hab. inż. Krzysztofa J. Kurzydłowskiego Podsekretarza Stanu w Ministerstwie Nauki i Szkolnictwa Wyższego : Zakopane 2007, [T. 1] = Advances in the technology of ceramic, glass and mineral binding materials / pod red. M. M. Bućko, K. Haberko, Z. Pędzich. — Kraków : Polskie Towarzystwo Ceramiczne, 2008. — (Polski Biuletyn Ceramiczny / Polskie Towarzystwo Ceramiczne) ; (Prace Komisji Nauk Ceramicznych / Polska Akademia Nauk. Oddział w Krakowie ; vol. 103/1. Ceramika ; ISSN 0860-3340). — Opis częśc. wg okł.. — S. 617–622. — Bibliogr. s. 622

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

8
  • Otrzymywanie i właściwości warstw $a-Si:H$ do zastosowań w fotowoltaiceProperties of amorphous silicon layers ($a-Si:H$) deposited by plasma assisted CVD / Ewa PIECZYŃSKA, Piotr BOSZKOWICZ, Maria JURZECKA-SZYMACHA // Logistyka ; ISSN 1231-5478. — 2013 nr 4 dod.: CD Logistyka – nauka : artykuły recenzowane, s. 419–427. — Wymagania systemowe: Adobe Reader ; napęd CD-ROM. — Bibliogr. s. 426–427, Streszcz., Abstr.

  • słowa kluczowe: amorficzny krzem, elipsometria, PACVD

    keywords: amorphous silicon layers, RF PACVD, solar cells, ellipsometry

9
  • Reakcje prowadzące do wzrostu warstw $a-SiN_{x}:H$ w układzie PE CVDChemical reactions responsible for a growth of $a-SiN_{x}:H$ layers in PE CVD system / Piotr BOSZKOWICZ, Stanisława JONAS, Maria JURZECKA-SZYMACHA, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH // Inżynieria Materiałowa ; ISSN 0208-6247. — 2008 R. 29 nr 6, s. 776–779. — Bibliogr. s. 779, Streszcz., Abstr.. — INPO2008 : Inżynieria Powierzchni = Surface Engineering : Wisła–Jawornik, 2–5.XII.2008 / pod red. Leopolda Jeziorskiego, Zygmunta Nitkiewicza, Józefa Jasińskiego. — Katowice : Wydawnictwo SIGMA-NOT, 2008

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

10
  • RF PE CVD deposition of amorphous a-$Si_{x}N_{y}:H$ layers for application in solar cells / Maria JURZECKA, Stanisława KLUSKA, Stanisława JONAS, Halina CZTERNASTEK, Katarzyna ZAKRZEWSKA // Vacuum : Surface Engineering, Surface Instrumentation & Vacuum Technology ; ISSN 0042-207X. — 2008 vol. 82 iss. 10 spec. iss., s. 1128–1132. — Bibliogr. s. 1132, Abstr.. — Publikacja dostępna online od: 2008-01-08. — Proceedings of the 9th Electron Technology conference ELTE 2007 : Cracow, 4–7 September 2007 / guest eds. Tadeusz Pisarkiewicz, Barbara Dziurdzia. — [Dorchester] : Elsevier, 2008. — Zastosowano procedurę peer review. — tekst: http://goo.gl/ZWJEX9

  • keywords: solar cells, optical properties, amorphous a-SixNy:H layers, RF CVD method

11
  • Silicon nitride layers of various N-content : technology, properties and structure : [abstract] / Maria JURZECKA-SZYMACHA, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH, Stanisława KLUSKA // W: TCM 2010 [Dokument elektroniczny] : 3rd international symposium on Transparent Conductive Materials (former TCO) : 17–21 October, 2010, Analipsi/ Herosonissos, Greece. — Wersja do Windows. — Dane tekstowe. — [s. l. : s. n.], [2010]. — 1 dysk Flash. — S. [1]. — Wymagania systemowe: Adobe Reader

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

12
13
  • Silicon nitride layers of various n-content: technology, properties and structure modelling / Maria JURZECKA-SZYMACHA, Piotr BOSZKOWICZ, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH, Stanisława JONAS // W: ICCS15 [Dokument elektroniczny] : 15\textsuperscript{th} International conference on Composite Structures : Porto, Portugal, June 15–17, 2009. — Wersja do Windows. — Dane tekstowe. — [Portugal : s. l.], [2009]. — 1 dysk optyczny. — S. 1–3. — Wymagania systemowe: Adobe Reader ; napęd CD-ROM. — Bibliogr. s. 3, Summ.

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

14
  • Structure and optical properties of nitrogen-doped silicon and carbon layers deposited by PACVD / Ewa PIECZYŃSKA, Maria JURZECKA-SZYMACHA // W: EYEC monograph : 3\textsuperscript{rd} European Young Engineers Conference : April 29–30\textsuperscript{th} 2014, Warsaw / ed. Michał Wojasiński. — Warsaw : University of Technology. Faculty of Chemical and Process Engineering, cop. 2014. — Na okł. dod.: 100 lecie odnowienia tradycji Politechniki Warszawskiej. — ISBN: 978-83-936575-0-6. — S. 224–225

  • keywords: RF PACVD, ellipsometry, optical filters

15
  • Synergiczne układy warstwowe: azotek krzemu – warstwa przejściowa na multikrystalicznym krzemieSynergetic layer systems: silicon nitride – transition layer on multicrystalline silicon / Wojciech Bąk, Maria JURZECKA-SZYMACHA, Stanisława JONAS, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH // Inżynieria Materiałowa ; ISSN 0208-6247. — 2010 R. 31 nr 4, s. 864–868. — Bibliogr. s. 867–686

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

16
  • Termooptyczne właściwości warstw a-Si:H otrzymywanych w procesie PACVD[Thermooptical parameters of amorphous a-Si:H layers deposited by PACVD system] / Ewa BARANIAK, Maria JURZECKA-SZYMACHA, Janusz Jaglarz // W: Dokonania naukowe doktorantów 3 [Dokument elektroniczny] : materiały konferencyjne – streszczenia : materiały Konferencji Młodych Naukowców : Kraków, 18.04.2015 r. / oprac. Marcin Kuczera, Krzysztof Piech. — Wersja do Windows. — Dane tekstowe. — Kraków : CREATIVETIME, [2015]. — 1 dysk optyczny. — e-ISBN: 978-83-63058-49-4. — S. 86. — Wymagania systemowe: Adobe Reader ; napęd CD-ROM. — Bibliogr. s. 86. — E. Baraniak, M. Jurzecka-Szymacha – afiliacja: Akademia Górniczo-Hutnicza

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

17
18
  • The preparation and properties of amorphous-silicon layers (a-Si:H) for applications in photovoltaics / Ewa PIECZYŃSKA, Piotr BOSZKOWICZ, Maria JURZECKA-SZYMACHA // W: VIII Krakow conference of young scientists 2013 : Krakow, September 26–28, 2013 : book of abstracts / AGH University of Science and Technology in Krakow, Grupa Naukowa Pro Futuro. — Krakow : Agencja Reklamowo-Wydawnicza ”OSTOJA”, 2013. — (KKMU Symposia and Conferences ; no. 8). — Opis częśc. wg okł.. — ISBN: 978-83-62218-84-4. — S. 11

  • keywords: amorphous silicon layers, RF PACVD, solar cells, ellipsometry

19
  • Warstwy a-SiNx:H o różnej zawartości azotu osadzane w układzie PECVDa-SiNx:H layers of various nitrogen content deposited with PECVD / Katarzyna TKACZ-ŚMIECH, Piotr BOSZKOWICZ, Stanisława KLUSKA, Maria JURZECKA-SZYMACHA // Inżynieria Materiałowa ; ISSN 0208-6247. — 2010 R. 31 nr 4, s. 1260–1264. — Bibliogr. s. 1264

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

20
  • Wpływ parametrów procesu RF CVD na stabilność warstw ${a-C:N:H}$Influence of RF CVD processing parameters on stability of ${a-C:N:H}$ layers / Karol KYZIOŁ, Stanisława JONAS, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH, Rafał M. NOWAK, Maria JURZECKA // W: Postępy technologii ceramiki, szkła i budowlanych materiałów wiążących : materiały VI konferencji Polskiego Towarzystwa Ceramicznego pod patronatem Prof. dr hab. inż. Krzysztofa J. Kurzydłowskiego Podsekretarza Stanu w Ministerstwie Nauki i Szkolnictwa Wyższego : Zakopane 2007, [T. 1] = Advances in the technology of ceramic, glass and mineral binding materials / pod red. M. M. Bućko, K. Haberko, Z. Pędzich. — Kraków : Polskie Towarzystwo Ceramiczne, 2008. — (Polski Biuletyn Ceramiczny / Polskie Towarzystwo Ceramiczne) ; (Prace Komisji Nauk Ceramicznych / Polska Akademia Nauk. Oddział w Krakowie ; vol. 103/1. Ceramika ; ISSN 0860-3340). — Opis częśc. wg okł.. — S. 623–630. — Bibliogr. s. 629–630

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych