Wykaz publikacji wybranego autora

Maria Jurzecka-Szymacha, dr inż.

Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki
WIMiC-kfmp, Katedra Fizykochemii i Modelowania Procesów

2018
[dyscyplina 1] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria materiałowa

[poprzednia klasyfikacja] obszar nauk technicznych / dziedzina nauk technicznych / inżynieria materiałowa

Identyfikatory Autora	Informacje o Autorze w systemach zewnętrznych
ORCID: 0000-0002-1368-9199 ResearcherID: B-3923-2017 Scopus: 38361639600 PBN: 5e70937a878c28a0473aa9c5	OPI Nauka Polska System Informacyjny AGH (SkOs)

Identyfikatory Autora

Informacje o Autorze w systemach zewnętrznych

ORCID: 0000-0002-1368-9199 orcid iD

ResearcherID: B-3923-2017

Scopus: 38361639600

PBN: 5e70937a878c28a0473aa9c5

OPI Nauka Polska

System Informacyjny AGH (SkOs)

sortowanie:

1

Film materials based on $a–SiN_x:H$ with high refractive index obtained by plasma enhanced chemical vapour deposition technology / J. Jaglarz, M. JURZECKA-SZYMACHA, S. KLUSKA // Thin Solid Films ; ISSN 0040-6090. — 2019 vol. 669, s. 564–570. — Bibliogr. s. 570, Abstr.. — Publikacja dostępna online od: 2018-11-28. — tekst: https://www-1sciencedirect-1com-1000027f50144.wbg2.bg.agh.edu.pl/science/article/pii/S0040609018307910/pdfft?md5=9ea9fc5df282afc8a8ddcdad3154ec88&pid=1-s2.0-S0040609018307910-main.pdf
keywords: high refractive index, silicon nitride dielectric layers, thermooptical properties

Zobacz pełny wykaz publikacji Autora/Autorów: Stanisława Kluska

cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.1016/j.tsf.2018.11.050

2

Optical characteristics of $a-Si:H$ layers deposited by PACVD at various temperatures / Janusz Jaglarz, Maria JURZECKA-SZYMACHA, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH, Bouchta Sahraoui // Optical Materials ; ISSN 0925-3467. — 2015 vol. 39, s. 26–33. — Bibliogr. s. 33, Abstr.. — tekst: http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0925346714005163/pdfft?md5=c715176f11b6e89198742e523fad0881&pid=1-s2.0-S0925346714005163-main.pdf
keywords: PACVD, band gap, spectroscopic ellipsometry, amorphous hydrogenated silicon, optical indices, depolarization phenomena

Zobacz pełny wykaz publikacji Autora/Autorów: Katarzyna Tkacz-Śmiech

cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.1016/j.optmat.2014.10.057

3

RF PE CVD deposition of amorphous a-$Si_{x}N_{y}:H$ layers for application in solar cells / Maria JURZECKA, Stanisława KLUSKA, Stanisława JONAS, Halina CZTERNASTEK, Katarzyna ZAKRZEWSKA // Vacuum : Surface Engineering, Surface Instrumentation & Vacuum Technology ; ISSN 0042-207X. — 2008 vol. 82 iss. 10 spec. iss., s. 1128–1132. — Bibliogr. s. 1132, Abstr.. — Publikacja dostępna online od: 2008-01-08. — Proceedings of the 9th Electron Technology conference ELTE 2007 : Cracow, 4–7 September 2007 / guest eds. Tadeusz Pisarkiewicz, Barbara Dziurdzia. — [Dorchester] : Elsevier, 2008. — Zastosowano procedurę peer review. — tekst: http://goo.gl/ZWJEX9
keywords: solar cells, optical properties, amorphous a-SixNy:H layers, RF CVD method

Zobacz pełny wykaz publikacji Autora/Autorów: Halina Czternastek, Stanisława Dalczyńska-Jonas, Katarzyna Zakrzewska, Stanisława Kluska

cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.1016/j.vacuum.2008.01.030

4

Silicon nitride layers of various N-content : technology, properties and structure : [abstract] / Maria JURZECKA-SZYMACHA, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH, Stanisława KLUSKA // W: TCM 2010 [Dokument elektroniczny] : 3rd international symposium on Transparent Conductive Materials (former TCO) : 17–21 October, 2010, Analipsi/ Herosonissos, Greece. — Wersja do Windows. — Dane tekstowe. — [s. l. : s. n.], [2010]. — 1 dysk Flash. — S. [1]. — Wymagania systemowe: Adobe Reader
brak zdefiniowanych słów kluczowych

Zobacz pełny wykaz publikacji Autora/Autorów: Stanisława Kluska, Katarzyna Tkacz-Śmiech

cyfrowy identyfikator dokumentu:

5

Silicon nitride layers of various n-content: technology, properties and structure / Maria JURZECKA-SZYMACHA, Piotr BOSZKOWICZ, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH // Thin Solid Films ; ISSN 0040-6090. — 2011 vol. 520 iss. 4, s. 1308–1312. — Bibliogr. s. 1311–1312, Abstr.. — tekst: http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0040609011009989/pdfft?md5=ed106766c460c16d2069933f54abae52&pid=1-s2.0-S0040609011009989-main.pdf
keywords: solar cells, a-SiNx:H layers, RFCVD, refractive index, FTIR spectrum

Zobacz pełny wykaz publikacji Autora/Autorów: Katarzyna Tkacz-Śmiech, Piotr Boszkowicz

cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.1016/j.tsf.2011.04.157

6

Silicon nitride layers of various n-content: technology, properties and structure modelling / Maria JURZECKA-SZYMACHA, Piotr BOSZKOWICZ, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH, Stanisława JONAS // W: ICCS15 [Dokument elektroniczny] : 15\textsuperscript{th} International conference on Composite Structures : Porto, Portugal, June 15–17, 2009. — Wersja do Windows. — Dane tekstowe. — [Portugal : s. l.], [2009]. — 1 dysk optyczny. — S. 1–3. — Wymagania systemowe: Adobe Reader ; napęd CD-ROM. — Bibliogr. s. 3, Summ.
brak zdefiniowanych słów kluczowych

Zobacz pełny wykaz publikacji Autora/Autorów: Stanisława Dalczyńska-Jonas, Katarzyna Tkacz-Śmiech, Piotr Boszkowicz

cyfrowy identyfikator dokumentu:

7

The chemical composition and band gap of amorphous Si:C:N:H layers / Barbara SWATOWSKA, Stanisława KLUSKA, Maria JURZECKA-SZYMACHA, Tomasz STAPIŃSKI, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH // Applied Surface Science ; ISSN 0169-4332. — Tytuł poprz.: Applications of Surface Science. — 2016 vol. 371, s. 91–95. — Bibliogr. s. 95, Abstr.. — Publikacja dostępna online od: 2016-02-27. — tekst: http://www.sciencedirect.com.atoz.wbg2.bg.agh.edu.pl/science/article/pii/S0169433216303762/pdfft?md5=51f00a70b7f5ea3d944549450032976d&pid=1-s2.0-S0169433216303762-main.pdf
keywords: PACVD, band gap, spectroscopic ellipsometry, optical constants, amorphous Si:C:N:H layers

Zobacz pełny wykaz publikacji Autora/Autorów: Tomasz Stapiński, Stanisława Kluska, Katarzyna Tkacz-Śmiech, Barbara Swatowska

cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.1016/j.apsusc.2016.02.198

8

The heterostructures of $CuO$ and $SnO_x$ for $NO_2$ detection / Anna Paleczek, Bartłomiej SZAFRANIAK, Łukasz FUŚNIK, Andrzej BRUDNIK, Dominik GROCHALA, Stanisława KLUSKA, Maria JURZECKA-SZYMACHA, Erwin Maciak, Piotr Kałużyński, Artur RYDOSZ // Sensors [Dokument elektroniczny]. — Czasopismo elektroniczne ; ISSN 1424-8220. — 2021 vol. 21 iss. 13 art. no. 4387, s. 1–17. — Wymagania systemowe: Adobe Reader. — Bibliogr. s. 15–17, Abstr.. — Publikacja dostępna online od: 2021-06-26. — tekst: https://www.mdpi.com/1424-8220/21/13/4387/pdf
keywords: CuO, impedance spectroscopy, tin oxide, gas sensing, copper oxide, NO2 detection, SnOx

Zobacz pełny wykaz publikacji Autora/Autorów: Andrzej Brudnik, Stanisława Kluska, Artur Rydosz, Łukasz Stefan Fuśnik, Bartłomiej Szafraniak, Dominik Grochala

cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.3390/s21134387

9

The optical and thermo-optical properties of non-stoichiometric silicon nitride layers obtained by the PECVD method with varying levels of nitrogen content / Stanisława KLUSKA, Maria JURZECKA-SZYMACHA, Natalia Nosidlak, Piotr Dulian, Janusz Jaglarz // Materials [Dokument elektroniczny]. — Czasopismo elektroniczne ; ISSN 1996-1944. — 2022 vol. 15 iss. 6 art. no. 2260, s. 1-12. — Wymagania systemowe: Adobe Reader. — Bibliogr. s. 11-12, Abstr.. — Publikacja dostępna online od: 2022-03-18. — tekst: https://www.mdpi.com/1996-1944/15/6/2260/pdf
keywords: spectroscopic ellipsometry, thermooptical properties, PECVD technique, amorphous SiNx:H layers

Zobacz pełny wykaz publikacji Autora/Autorów: Stanisława Kluska

cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.3390/ma15062260

10

The optical properties of thin film alloys of ZnO, $TiO_2$ and $ZrO_2$ with $Al_2O_3$ synthesised using atomic layer deposition / Natalia Nosidlak, Janusz Jaglarz, Andrea Vallati, Piotr Dulian, Maria JURZECKA-SZYMACHA, Sylwia Gierałtowska, Aleksandra Seweryn, Łukasz Wachnicki, Bartłomiej S. Witkowski, Marek Godlewski // Coatings [Dokument elektroniczny]. — Czasopismo elektroniczne ; ISSN 2079-6412. — 2023 vol. 13 iss. 11 art. no. 1872, s. 1–12. — Wymagania systemowe: Adobe Reader. — Bibliogr. s. 11–12, Abstr.. — Publikacja dostępna online od: 2023-10-31. — tekst: https://www.mdpi.com/2079-6412/13/11/1872/pdf?version=1698811743
- słowa kluczowe
- DOI
keywords: ellipsometry, optical properties, ALD deposition, thin dielectric films

cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.3390/coatings13111872

11

Thermo-optical properties of high-refractive-index plasma-deposited hydrogenated amorphous silicon-rich nitride films on glass / Janusz Jaglarz, Maria JURZECKA-SZYMACHA, Stanisława KLUSKA, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH // Optical Materials Express [Dokument elektroniczny]. — Czasopismo elektroniczne ; ISSN 2159-3930. — 2020 vol. 10 no. 11, s. 2749-2756. — Wymagania systemowe: Adobe Reader. — Tryb dostępu: https://www.osapublishing.org/viewmedia.cfm?uri=ome-10-11-2749&seq=0 [2020-10-23]. — Bibliogr. s. 2755-2756, Abstr.. — Publikacja dostępna online od: 2020-10-09. — W bazie Web of Science zakres stron: 2741-2748
brak zdefiniowanych słów kluczowych

Zobacz pełny wykaz publikacji Autora/Autorów: Stanisława Kluska, Katarzyna Tkacz-Śmiech

cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.1364/OME.396150

Bibiografia Publikacji Pracowników Akademii Górniczo-Hutniczej im. Stanisława Staszica w Krakowie

Wykaz publikacji wybranego autora

Maria Jurzecka-Szymacha, dr inż.