Wykaz publikacji wybranego autora

Stanisława Dalczyńska-Jonas, prof. dr hab. inż.

profesor zwyczajny

Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki
WIMiC-kfmp, Katedra Fizykochemii i Modelowania Procesów


Identyfikatory Autora Informacje o Autorze w systemach zewnętrznych

ORCID: brak

ResearcherID: brak

Scopus: brak

OPI Nauka Polska




1
  • A role of parameters in RF PA CVD technology of a-C:N:H layers
2
  • Amorphous ${a-Si_{x}N_{y}:H}$ layers on polycrystalline silicon
3
  • Amorphous carbon layers on polymeric substrates
4
  • Anti-wear properties of amorphous $a-C:H$ and $a-C:N:H$ carbon coatings deposited on polycarbonate
5
  • Badanie mechanizmu plazmochemicznej syntezy warstw typu ${a-C:N:H}$
6
  • Badanie przebiegu reakcji wysokotemperaturowych w układzie ${ZrSiO_{4}-Al_{2}O_{3}}$
7
  • Budowa i właściwości warstw typu $a-SiC_{x}N_{y}$
8
9
  • Chemical vapour infiltration of SiC in porous graphite materials
10
  • Chemiczna infiltracja porowatych grafitów węglikiem krzemu
11
  • Chosen properties of titanium biomaterials with modified surface
12
  • Dolomit stabilizowany w składzie nowych odmian materiałów ogniotrwałych
13
  • Dwuglinian wapniowy jako składnik nowej serii bezkrzemianowych odmian wyrobów ogniotrwałych
14
  • Efekt Christiansena w warstwach typu $(SiC_{amorf} + SiC_{kryst})/(001)Si$
15
  • Fizykochemiczne właściwości stopu Ti6Al4V modyfikowanego metodami PACVD
16
17
  • Infiltracja porowatych materiałów metodą CVI
18
  • Influence of nitrogen on the tribological properties of $a-C:H$ layers on the polycarbonate substrates
19
20
  • Introduction to technological design in ceramics
21
22
  • Kinetyka wzrostu warstw $a-C:N:H$ w układzie RF CVD
23
  • Kinetyka wzrostu warstw w procesie RFCVD
24
25