Wykaz publikacji wybranego autora

Tomasz Stapiński, prof. dr hab.

profesor zwyczajny

Wydział Informatyki, Elektroniki i Telekomunikacji
WIEiT-ke, Instytut Elektroniki


  • 2023

    [dyscyplina 1] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / automatyka, elektronika, elektrotechnika i technologie kosmiczne


  • 2018

    [dyscyplina 1] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / automatyka, elektronika i elektrotechnika


[poprzednia klasyfikacja] obszar nauk technicznych / dziedzina nauk technicznych / elektronika


Identyfikatory Autora Informacje o Autorze w systemach zewnętrznych

ORCID: 0000-0002-8386-8002 połącz konto z ORCID

ResearcherID: brak

Scopus: 6701524007

PBN: 5e70922c878c28a0473911f3

OPI Nauka Polska

System Informacyjny AGH (SkOs)



Statystyka obejmuje publikacje afiliowane AGH od 2008 roku włącznie

typ publikacji
rocznikl. publ.książkifragm.referatyartykułypatentymapyred. czas.inne
ogółem1185469382
202311
202211
202122
202011
2018211
2017312
2016532
20159621
20148233
2013972
20126321
2011624
2010853
200944
20089234
2007541
2006431
200522
2004532
2003321
2002422
2001312
2000541
199913112
język publikacji
rocznikrazempolskojęzyczneanglojęzycznepozostałe języki
ogółem1183682
202311
202211
202122
202011
201822
2017312
2016523
2015936
2014862
2013963
2012624
2011642
2010817
2009422
2008918
2007514
2006413
200522
200455
200333
200244
200133
2000523
199913112
kraj wydania
rocznikrazempubl. krajowepubl. zagraniczne
ogółem1187939
202311
202211
202122
202011
201822
2017312
2016523
2015972
201488
201399
2012642
201166
2010844
2009431
2008963
2007532
2006422
2005211
2004523
2003321
2002422
2001312
2000532
199913103
Lista Filadelfijska
rocznikrazempubl. z LFpubl. pozostałe
ogółem1182098
202311
202211
202122
202011
201822
2017321
2016523
2015927
201488
201399
2012615
2011615
201088
200944
2008927
200755
2006413
200522
2004523
2003312
2002422
200133
200055
19991313
punktacja MNiSW
rocznikrazempubl. z pkt. MNiSWpubl. pozostałe
ogółem1183979
202311
202211
202122
202011
201822
2017321
2016532
2015936
2014853
2013936
201266
2011642
2010835
200944
2008954
2007514
200644
200522
200455
200333
200244
200133
200055
19991313
publikacje recenzowane
rocznikrazempubl. recenzowanepubl. nierecenzowane
ogółem1185563
202311
202211
202122
202011
201822
2017321
2016532
2015936
2014853
2013945
2012633
2011651
2010835
2009422
2008981
2007514
2006422
200522
2004523
2003312
2002422
2001312
2000523
199913112



1
  • Abrasion resistance of ZnO and ZnO:Al films on glass substrates by atomic layer deposition
2
  • AC Hall Effect set-up for investigation of protective and gas sensor films
3
  • Amorficzne warstwy antyrefleksyjne (ARC) do podwyższania sprawności ogniw słonecznych
4
  • Amorficzne warstwy uwodornione typu a-Si:C:H oraz a-Si:N:H do zastosowań w ogniwach słonecznych jako pokrycia antyrefleksyjne
5
  • Amorficzne warstwy uwodornione typu ${a-Si:C:H}$ oraz ${a-Si:N:H}$ do zastosowań w ogniwach słonecznych jako pokrycia antyrefleksyjne
6
  • Amorphous and microcrystalline silicon-based alloys for device applications
7
  • Amorphous hydrogenated silicon-carbon and silicon-nitrogen as antireflective coatings for solar cells
8
  • Amorphous hydrogenated silicon-carbon as new antireflective coating for solar cells
9
  • Amorphous hydrogenated silicon-carbon as new antireflective coating for solar cells
10
  • Amorphous hydrogenated silicon-nitride films for applications in solar cells
11
  • Amorphous hydrogenated silicon-nitride films for solar cells applications
12
  • Amorphous hydrogenated silicon-nitrogen $(a-Si_{1-x}N_{x}:H)$ films deposited by PECVD
13
  • Amorphous Si:C:H and Si:N:H as antireflective and protective coatings
14
  • Amorphous silicon-carbon as a new material for optoelectronic applications
15
  • Analiza efektywności konwersji PV dla różnych typów modułów w warunkach wielkomiejskich
16
  • Antireflective coatings of $a-Si:C:H$ on silicon
17
  • Application of amorphous a-${Si:C:H}$ antireflective coatings for silicon solar cells for the 22nd EU PVSEC
18
  • Application properties of ZnO and AZO thin films obtained by the ALD method
19
20
  • $a-Si:C:H$ films as a new material for improvement of solar cells
21
  • $a-SiC_{x}N_{y}:H$ thin films for applications in solar cells as passivation and antireflective coatings
22
  • Binary and ternary amorphous silicon based thin films
23
  • Carbon nanomaterials dedicated to heating systems
24
  • Carbon nanomaterials dedicated to PV module heating system
25
  • Characterisation and application of $WO_{3}$ films for electrochromic devices