Wykaz publikacji wybranego autora

Marta Januś, dr inż.

pracownik naukowo-techniczny

Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki
WIMiC-kfmp, Katedra Fizykochemii i Modelowania Procesów

  • 2023

    [dyscyplina 1] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria materiałowa

  • 2020

    [dyscyplina 1] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria materiałowa

  • 2018

    [dyscyplina 1] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria materiałowa

    [dyscyplina 2] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria chemiczna (50%)

[poprzednia klasyfikacja] obszar nauk technicznych / dziedzina nauk technicznych / metalurgia

Identyfikatory Autora Informacje o Autorze w systemach zewnętrznych

ORCID: 0000-0001-9317-2394 orcid iD

ResearcherID: brak

Scopus: 56651901200

PBN: 5e7093b7878c28a0473afa94

OPI Nauka Polska

System Informacyjny AGH (SkOs)

1
2

  • Kinetyka wzrostu warstw w procesie RFCVD — Layer growth kinetics in the RFCVD process / Stanisława JONAS, Janusz Jaglarz, Karol KYZIOŁ, Marta JANUŚ, Elżbieta Murawska // Inżynieria Materiałowa ; ISSN 0208-6247. — 2014 R. 35 nr 6, s. 492–495. — Bibliogr. s. 495, Streszcz., Abstr.

  • słowa kluczowe: metoda RFCVD, warstwy Si3N4, a-C:H, szybkosć wzrostu, centra aktywne

    keywords: a-C:H, growth rate, active centers, layers Si3N4, RFCVD method

    Zobacz pełny wykaz publikacji Autora/Autorów: Stanisława Dalczyńska-Jonas, Karol Kyzioł

    cyfrowy identyfikator dokumentu: